[發明專利]掩膜裝置、蒸鍍設備以及掩膜裝置制備方法

有效

• 申請號: 201710908524.4
• 申請日: 2017-09-29
• 公開（公告）號: CN107435131B
• 公開（公告）日: 2019-08-02
• 發明（設計）人: 徐健;劉耀陽
• 申請（專利權）人: 上海天馬微電子有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 北京匯思誠業知識產權代理有限公司 11444
• 代理人: 王剛;龔敏

1.一種掩膜裝置，其特征在于，所述掩膜裝置包括鐵磁性材料的掩膜版，所述掩膜版包括：

至少一個蒸鍍區域以及至少一個非蒸鍍區域；

所述蒸鍍區域設置有沉積通孔；

所述非蒸鍍區域包括與所述蒸鍍區域相鄰的過渡區域，所述過渡區域設置有過渡孔，所述過渡孔的體積小于所述沉積通孔的體積，且從所述蒸鍍區域至所述非蒸鍍區域的方向上，所述過渡孔的體積逐漸減??；

從所述蒸鍍區域至所述非蒸鍍區域的方向上，所述過渡區域包括依次設置的第一過渡區域和第二過渡區域，

所述過渡孔包括第一過渡孔和第二過渡孔，所述第一過渡孔位于所述掩膜版的第一側，所述第二過渡孔位于所述掩膜版的第二側，所述第一側和所述第二側相對，

所述第一過渡區域內，從所述蒸鍍區域至所述非蒸鍍區域的方向上，所述第一過渡孔的體積不變，所述第二過渡孔的體積逐漸減??；

所述第二過渡區域內不設置有所述第二過渡孔，從所述蒸鍍區域至所述非蒸鍍區域的方向上，所述第一過渡孔的體積逐漸減??；

或者，

所述第一過渡區域內，從所述蒸鍍區域至所述非蒸鍍區域的方向上，所述第一過渡孔的體積逐漸減小，所述第二過渡孔的體積不變；

所述第二過渡區域內不設置有所述第一過渡孔，從所述蒸鍍區域至所述非蒸鍍區域的方向上，所述第二過渡孔的體積逐漸減小。

2.根據權利要求1所述的掩膜裝置，其特征在于，

所述蒸鍍區域的掩膜版的厚度為a，所述非蒸鍍區域的掩膜版的厚度為b，其中，a≥b。

3.根據權利要求1所述的掩膜裝置，其特征在于，

從所述蒸鍍區域至所述非蒸鍍區域的方向上，所述第一過渡區域依次包括第一子過渡區域和第二子過渡區域，

在所述第一子過渡區域內，所述第一過渡孔和所述第二過渡孔相互貫通；

在所述第二子過渡區域內，所述第一過渡孔和所述第二過渡孔不貫通，并且，從所述蒸鍍區域至所述非蒸鍍區域的方向上，所述第二過渡孔在垂直于所述掩膜版所在平面的方向上的深度逐漸減小。

4.根據權利要求1所述的掩膜裝置，其特征在于

從所述蒸鍍區域至所述非蒸鍍區域的方向上，所述第一過渡區域依次包括第一子過渡區域和第二子過渡區域，

在所述第一子過渡區域內，所述第一過渡孔和所述第二過渡孔相互貫通；

在所述第二子過渡區域內，所述第一過渡孔和所述第二過渡孔不貫通，并且，從所述蒸鍍區域至所述非蒸鍍區域的方向上，所述第一過渡孔在垂直于所述掩膜版所在平面的方向上的深度逐漸減小。

5.根據權利要求1所述的掩膜裝置，其特征在于，

所述過渡孔包括第一過渡孔和第二過渡孔，所述第一過渡孔位于所述掩膜版的第一側，所述第二過渡孔位于所述掩膜版的第二側，所述第一側和所述第二側相對，

在所述過渡區域內，從所述蒸鍍區域至所述非蒸鍍區域的方向上，所述第一過渡孔和所述第二過渡孔的體積同時逐漸減小。

6.根據權利要求5所述的掩膜裝置，其特征在于，

所述過渡區域包括第一過渡區域和第二過渡區域，

在所述第一過渡區域內，所述第一過渡孔和所述第二過渡孔相互貫通；

在所述第二過渡區域內，從所述蒸鍍區域至所述非蒸鍍區域的方向上，所述第一過渡孔在垂直于所述掩膜版所在平面的方向上的深度逐漸減小，所述第二過渡孔在垂直于所述掩膜版所在平面的方向上的深度逐漸減小。

7.根據權利要求1、3～6任一項所述的掩膜裝置，其特征在于，

從所述第一側至所述第二側的方向上，所述第一過渡孔和所述第二過渡孔的截面均為梯形、半橢圓形或者矩形，

所述第一過渡孔靠近所述第一側的開口在所述掩膜版所在平面的正投影，覆蓋所述第一過渡孔遠離所述第一側的開口在所述掩膜版所在平面的正投影，

所述第二過渡孔靠近所述第二側的開口在所述掩膜版所在平面的正投影，覆蓋所述第二過渡孔遠離所述第二側的開口在所述掩膜版所在的平面的正投影。