[發明專利]一種制備低潤濕耐腐蝕的多孔氧化膜的方法

在審

• 申請號: 201710903066.5
• 申請日: 2017-09-29
• 公開（公告）號: CN107641829A
• 公開（公告）日: 2018-01-30
• 發明（設計）人: 鄭萌;楊黎暉;蔣全通
• 申請（專利權）人: 中國科學院海洋研究所
• 主分類號: C25D11/08
• 分類號: C25D11/08;C25D11/16
• 代理公司: 沈陽科苑專利商標代理有限公司21002
• 代理人: 李穎,周秀梅

1.一種制備低潤濕耐腐蝕的多孔氧化膜的方法，其特征在于：對基體鋁板依次超聲清洗和電化學拋光，而后將其于酸性溶液中陽極氧化，后經干燥處理，進而使其在基體鋁板表面形成水接觸角超過95°的低潤濕耐腐蝕的多孔氧化膜。

2.按權利要求1所述的制備低潤濕耐腐蝕的多孔氧化膜的方法，其特征在于：

第一步，對基體進行超聲清洗和電化學拋光：將基體鋁板在乙醇溶液中進行超聲清洗600-1800s，超聲清洗后進行電化學拋光，待用；

第二步，陽極氧化是在酸性溶液中恒電流密度條件下進行：在室溫下、將基體鋁板于磷酸電解溶液中恒電流密度條件下進行陽極氧化；氧化以5-10℃/min升溫速率升溫至423K-500K，保溫12h-18h(43.2ks-64.8ks)后，以2-5℃/min緩慢降溫到室溫，進而使其在基體鋁板表面形成水接觸角超過95°的低潤濕耐腐蝕的多孔氧化膜。

3.按權利要求1或2所述的制備低潤濕耐腐蝕的多孔氧化膜的方法，其特征在于：所述基體鋁板含鋁量為質量百分比99.99％，厚度350-500μm。

4.按權利要求2所述的制備低潤濕耐腐蝕的多孔氧化膜的方法，其特征在于：所述超聲清洗后基體鋁板在283-313K以28-35V的恒定電壓下在乙酸和高氯酸的混合溶液中進行電化學拋光，拋光時間為300-400s；其中，混合溶液中CH₃COOH濃度為10-18kmol m^-3，HClO₄濃度為1-4kmol m^-3。

5.按權利要求2所述的制備低潤濕耐腐蝕的多孔氧化膜的方法，其特征在于：所述拋光后基體在室溫下，濃度為0.2-0.6kmol m^-3的磷酸電解溶液中、50-200A m^-2恒電流密度條件下陽極氧12h-18h(43.2ks-64.8ks)。