[發明專利]液晶顯示面板的制作方法及液晶顯示面板有效
| 申請號: | 201710901828.8 | 申請日: | 2017-09-28 |
| 公開(公告)號: | CN107479291B | 公開(公告)日: | 2020-04-07 |
| 發明(設計)人: | 卞峰苓 | 申請(專利權)人: | 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1343 |
| 代理公司: | 深圳市德力知識產權代理事務所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
| 地址: | 518132 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 液晶顯示 面板 制作方法 | ||
1.一種液晶顯示面板的制作方法,其特征在于,包括如下步驟:
步驟S1、提供第一基板(1),在所述第一基板(1)上形成第一金屬層(2)及覆蓋所述第一金屬層(2)及第一基板(1)的第一絕緣層(5);
步驟S2、在所述第一絕緣層(5)上沉積第二金屬薄膜,通過一掩膜板對所第二金屬薄膜進行圖案化,得到第二金屬層(6);
步驟S3、在所述第二金屬層(6)和第一絕緣層(5)上沉積第二絕緣層(7),在所述第二絕緣層(7)上形成像素電極(8);
步驟S4、提供第二基板(9),在所述第二基板(9)上沉積公共電極薄膜,通過步驟S2中的掩膜板對所述公共電極薄膜進行圖案化,形成公共電極(11),所述公共電極(11)上形成有與所述第二金屬層(6)的圖案相同的鏤空區(111);
步驟S5、將所述第一基板(1)與所述第二基板(9)對組成盒,并在第一基板(1)與第二基板(9)之間形成液晶層(13),得到液晶顯示面板;
所述步驟S4還包括:在所述第二基板(9)和公共電極(11)之間形成黑色矩陣(10),以及在所述公共電極(11)上形成間隙支撐物(12)。
2.如權利要求1所述的液晶顯示面板的制作方法,其特征在于,所述第一金屬層(2)包括:柵極(21)、以及與所述柵極(21)電性連接的掃描線(22)。
3.如權利要求1所述的液晶顯示面板的制作方法,其特征在于,所述第二金屬層(6)包括:源極(61)、與所述源極(61)電性連接的數據線(63)、以及與所述像素電極(8)電性連接的漏極(62)。
4.如權利要求1所述的液晶顯示面板的制作方法,其特征在于,所述步驟S1還包括:在所述第一金屬層(2)和第一絕緣層(5)之間形成柵極絕緣層(3),在所述柵極絕緣層(3)和第一絕緣層(5)之間形成半導體層(4)。
5.如權利要求1所述的液晶顯示面板的制作方法,其特征在于,所述步驟S2中通過一掩膜板對所述第二金屬薄膜進行圖案化的過程包括:
在所述第二金屬薄膜上涂布第一光阻,通過所述掩膜板對所述第一光阻進行曝光顯影;
以所述第一光阻為遮擋對所述第二金屬薄膜進行刻蝕;
去除所述第一光阻,得到第二金屬層(6)。
6.如權利要求5所述的液晶顯示面板的制作方法,其特征在于,所述步驟S4中通過步驟S2中的掩膜板對所述公共電極薄膜進行圖案化的過程包括:
在所述公共電極薄膜上涂布第二光阻,通過所述掩膜板對所述第二光阻進行曝光顯影;
以所述第二光阻為遮擋對所述公共電極薄膜進行刻蝕;
去除所述第二光阻,得到公共電極(11);
所述第一光阻為正性光阻和負性光阻中的一種,所述第二光阻為正性光阻和負性光阻中不同于所述第一光阻的另一種。
7.一種液晶顯示面板,其特征在于,包括:相對設置的第一基板(1)和第二基板(9)、形成于所述第一基板(1)靠近所述第二基板(9)的一側的第一金屬層(2)、覆蓋所述第一金屬層(2)及第一基板(1)的第一絕緣層(5)、形成于所述第一絕緣層(5)上的圖案化的第二金屬層(6)、覆蓋所述第二金屬層(6)和第一絕緣層(5)的第二絕緣層(7)、形成于所述第二絕緣層(7)上的像素電極(8)、形成于所述第二基板(9)靠近所述第一基板(1)的一側的公共電極(11)、以及形成于所述像素電極(8)與公共電極(11)之間的液晶層(13);所述公共電極(11)上形成有與所述第二金屬層(6)的圖案相同的鏤空區(111);
還包括:形成于所述第一金屬層(2)和第一絕緣層(5)之間的柵極絕緣層(3)、形成于所述柵極絕緣層(3)和第一絕緣層(5)之間的半導體層(4)、形成于所述第二基板(9)和公共電極(11)之間的黑色矩陣(10)、以及形成于所述公共電極(11)上的間隙支撐物(12)。
8.如權利要求7所述的液晶顯示面板,其特征在于,所述第一金屬層(2)包括:柵極(21)、以及與所述柵極(21)電性連接的掃描線(22);所述第二金屬層(6)包括:源極(61)、與所述源極(61)電性連接的數據線(63)、以及與所述像素電極(8)電性連接的漏極(62)。
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