[發(fā)明專利]像素界定層、噴墨打印方法、顯示基板及其制造方法、顯示裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710898569.8 | 申請(qǐng)日: | 2017-09-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109585490A | 公開(公告)日: | 2019-04-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 侯文軍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/32 | 分類號(hào): | H01L27/32;H01L51/00;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 彭久云 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 界定 像素 像素界定層 噴墨打印 顯示像素 開口 輔助像素 顯示基板 顯示裝置 墨水 制造 平衡 | ||
像素界定層、噴墨打印方法、顯示基板及其制造方法、顯示裝置。該像素界定層包括顯示像素界定區(qū)和圍繞所述顯示像素界定區(qū)的輔助像素界定區(qū);所述顯示像素界定區(qū)包括多個(gè)第一像素界定單元;所述輔助像素界定區(qū)包括多個(gè)第二像素界定單元,并且至少部分所述第二像素界定單元的開口面積大于所述第一像素界定單元的開口面積。該像素界定層通過設(shè)置較少的第二像素界定單元即可實(shí)現(xiàn)在進(jìn)行噴墨打印時(shí)平衡位于邊緣和位于內(nèi)部的開口中噴墨打印的墨水的干燥速度,從而使干燥后的墨水形態(tài)更加均勻。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開的實(shí)施例涉及一種像素界定層、噴墨打印方法、顯示基板及其制造方法、顯示裝置。
背景技術(shù)
有機(jī)發(fā)光顯示裝置具有自發(fā)光、反應(yīng)快、視角廣、亮度高、色彩艷、輕薄等優(yōu)點(diǎn),因此成為一種重要的顯示技術(shù)。
有機(jī)發(fā)光顯示裝置的有機(jī)功能層例如可以采用噴墨打印的方式形成,而利用噴墨打印法形成有機(jī)功能層需要預(yù)先在襯底基板上制作像素界定層,以限定有機(jī)功能材料精確的噴入指定的像素區(qū)域內(nèi)。通常,上述像素界定層具有多個(gè)開口,在噴墨打印的過程中,噴墨打印在位于基板邊緣處開口的墨水干燥速度往往較快,而噴墨打印在基板內(nèi)部開口的墨水干燥速度往往較慢。這樣墨水干燥速度的不一致性可能使得利用噴墨打印法形成有機(jī)功能層時(shí),形成在像素區(qū)域中不同位置的有機(jī)功能層的形態(tài)不均勻,由此會(huì)導(dǎo)致像素區(qū)域顯示亮度不均勻,嚴(yán)重影響由此得到的有機(jī)發(fā)光顯示裝置的顯示效果。
發(fā)明內(nèi)容
本公開至少一實(shí)施例提供一種像素界定層,包括:顯示像素界定區(qū)和圍繞所述顯示像素界定區(qū)的輔助像素界定區(qū);其中,所述顯示像素界定區(qū)包括多個(gè)第一像素界定單元;所述輔助像素界定區(qū)包括多個(gè)第二像素界定單元,并且至少部分所述第二像素界定單元的開口面積大于所述第一像素界定單元的開口面積。
例如,本公開至少一實(shí)施例提供的像素界定層中,所述多個(gè)第二像素界定單元圍繞所述顯示像素界定區(qū)逐層排列,并且以所述顯示像素界定區(qū)為內(nèi)側(cè),所述輔助像素界定區(qū)中的所述第二像素界定單元的開口面積從內(nèi)層到外層逐漸增大。
例如,本公開至少一實(shí)施例提供的像素界定層中,所述多個(gè)第一像素界定單元的開口面積大小相同,并且位于最內(nèi)層的所述第二像素界定單元的開口面積等于所述第一像素界定單元的開口面積。
例如,本公開至少一實(shí)施例提供的像素界定層中,所述多個(gè)第一像素界定單元的開口面積大小不同,并且位于最內(nèi)層的所述第二像素界定單元的開口面積等于與其相鄰的所述第一像素界定單元的開口面積。
例如,本公開至少一實(shí)施例提供的像素界定層中,所述輔助像素界定區(qū)包括3-6層所述第二像素界定單元。
例如,本公開至少一實(shí)施例提供的像素界定層中,位于同一層的所述第二像素界定單元的開口相對(duì)于與其最近鄰的所述第一像素界定單元的開口形狀相同,大小成相同比例放大。
例如,本公開至少一實(shí)施例提供的像素界定層中,所述第一像素界定單元和所述第二像素界定單元呈矩陣形式排列。
本公開至少一實(shí)施例提供一種利用上述任一所述的像素界定層進(jìn)行噴墨打印的方法,包括:在所述第一像素界定單元和所述第二像素界定單元的開口內(nèi)進(jìn)行噴墨打印。
例如,本公開至少一實(shí)施例提供的噴墨打印的方法中,在所述第二像素界定單元的開口中噴墨打印的墨水量不少于在所述第一像素界定單元的開口噴墨打印的墨水量。
例如,本公開至少一實(shí)施例提供的噴墨打印的方法中,在所述第二像素界定單元和所述第一像素界定單元中噴墨打印的墨水量分別與所述第二像素界定單元和所述第一像素界定單元的開口面積大小成正比。
本公開至少一實(shí)施例提供一種顯示基板,具有顯示區(qū)域和周邊區(qū)域,包括上述任一所述的像素界定層,所述像素界定層的顯示像素界定區(qū)和輔助像素界定區(qū)分別對(duì)應(yīng)于所述顯示區(qū)域和所述周邊區(qū)域,所述多個(gè)第一像素界定單元配置為形成顯示像素,所述多個(gè)第二像素界定單元配置為形成輔助像素。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





