[發(fā)明專利]像素界定層、噴墨打印方法、顯示基板及其制造方法、顯示裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710898569.8 | 申請(qǐng)日: | 2017-09-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109585490A | 公開(公告)日: | 2019-04-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 侯文軍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/32 | 分類號(hào): | H01L27/32;H01L51/00;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 彭久云 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 界定 像素 像素界定層 噴墨打印 顯示像素 開口 輔助像素 顯示基板 顯示裝置 墨水 制造 平衡 | ||
1.一種像素界定層,包括:顯示像素界定區(qū)和圍繞所述顯示像素界定區(qū)的輔助像素界定區(qū);
其中,所述顯示像素界定區(qū)包括多個(gè)第一像素界定單元;所述輔助像素界定區(qū)包括多個(gè)第二像素界定單元,并且至少部分所述第二像素界定單元的開口面積大于所述第一像素界定單元的開口面積。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像素界定層,其中,所述多個(gè)第二像素界定單元圍繞所述顯示像素界定區(qū)逐層排列,并且以所述顯示像素界定區(qū)為內(nèi)側(cè),所述輔助像素界定區(qū)中的所述第二像素界定單元的開口面積從內(nèi)層到外層逐漸增大。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的像素界定層,其中,所述多個(gè)第一像素界定單元的開口面積大小相同,并且位于最內(nèi)層的所述第二像素界定單元的開口面積等于所述第一像素界定單元的開口面積。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的像素界定層,其中,所述多個(gè)第一像素界定單元的開口面積大小不同,并且位于最內(nèi)層的所述第二像素界定單元的開口面積等于與其相鄰的所述第一像素界定單元的開口面積。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的像素界定層,其中,所述輔助像素界定區(qū)包括3-6層所述第二像素界定單元。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的像素界定層,其中,位于同一層的所述第二像素界定單元的開口相對(duì)于與其最近鄰的所述第一像素界定單元的開口形狀相同,大小成相同比例放大。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一所述的像素界定層,其中,所述第一像素界定單元和所述第二像素界定單元呈矩陣形式排列。
8.一種利用權(quán)利要求1-7任一所述的像素界定層進(jìn)行噴墨打印的方法,包括:
在所述第一像素界定單元和所述第二像素界定單元的開口內(nèi)進(jìn)行噴墨打印。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的噴墨打印的方法,其中,在所述第二像素界定單元的開口中噴墨打印的墨水量不少于在所述第一像素界定單元的開口噴墨打印的墨水量。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的噴墨打印的方法,其中,在所述第二像素界定單元和所述第一像素界定單元中噴墨打印的墨水量分別與所述第二像素界定單元和所述第一像素界定單元的開口面積大小成正比。
11.一種顯示基板,具有顯示區(qū)域和周邊區(qū)域,包括權(quán)利要求1-7任一所述的像素界定層,其中,
所述像素界定層的顯示像素界定區(qū)和輔助像素界定區(qū)分別對(duì)應(yīng)于所述顯示區(qū)域和所述周邊區(qū)域,
所述多個(gè)第一像素界定單元配置為形成顯示像素,所述多個(gè)第二像素界定單元配置為形成輔助像素。
12.一種顯示基板的制備方法,所述顯示基板包括顯示區(qū)域和周邊區(qū)域,該方法包括:
形成根據(jù)權(quán)利要求1-7任一所述的像素界定層,其中,所述像素界定層的顯示像素界定區(qū)和輔助像素界定區(qū)分別對(duì)應(yīng)于所述顯示區(qū)域和所述周邊區(qū)域;
通過所述多個(gè)第一像素界定單元在所述顯示區(qū)域形成多個(gè)第一像素,
通過所述多個(gè)第二像素界定單元在所述周邊區(qū)域形成多個(gè)第二像素。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的顯示基板的制備方法,其中,形成所述多個(gè)第一像素和所述多個(gè)第二像素包括:
在所述第一像素界定單元和所述第二像素界定單元的開口內(nèi)噴墨打印有機(jī)材料以形成有機(jī)功能層。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的顯示基板的制備方法,其中,在所述第二像素界定單元和所述第一像素界定單元的開口中噴墨打印的有機(jī)材料的量分別與所述第二像素界定單元和所述第一像素界定單元的開口面積大小成正比。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的顯示基板的制備方法,其中,所述有機(jī)功能層包括發(fā)光層、電子注入層、空穴注入層、電子傳輸層和空穴傳輸層中的一種或幾種。
16.一種顯示裝置,包括權(quán)利要求11所述的顯示基板。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





