[發明專利]聚焦監控組件

有效

• 申請號: 201710896853.1
• 申請日: 2017-09-28
• 公開（公告）號: CN107632499B
• 公開（公告）日: 2019-08-06
• 發明（設計）人: 龔成波
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02F1/13
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫;熊永強

本發明屬于曝光制程技術領域，提供了一種聚焦監控組件，包括層疊設置的掩膜版和基板，且掩膜版設置于基板的正上方，掩膜版上設有第一圖案和多個第一聚焦標識，基板上形成第二圖案和多個第二聚焦標識，第一圖案內部的最小間隙為第一間隙，第一聚焦標識內部設有第二間隙，第二間隙的尺寸小于或等于第一間隙的尺寸，聚焦監控組件還包括監控模塊。本發明通過使第一聚焦標識內的第二間隙的尺寸小于或等于第一圖案內部的最小間隙，當光線對掩膜版的解析度增大時，景深減小，第二聚焦標識的內部間隙的形狀會發生變化，不能完整顯示第一聚焦標識的形狀，通過監控模塊對第二聚焦標識的形狀的變化以實現監控曝光制程的異常。

技術領域

本發明屬于曝光制程技術領域，尤其涉及一種聚焦監控組件。

背景技術

在液晶顯示技術領域，曝光顯影是必不可少的步驟，該步驟目前廣泛采用光刻技術進行，主要是利用曝光機將掩膜版(Mask)上面的圖案(Pattern)投影到玻璃基板的光阻上面，然后通過顯影機最終在玻璃基板上面復制了掩膜版(Mask)的圖案。

隨著液晶面板行業的發展，對產品的線寬要求越來越高。曝光機在解析度不斷提升的同時，景深(Depth of Focus-DOF)明顯下降。在解析度為2um時，曝光機能夠使用的DOF為±20um；而當解析度為1.5um時，曝光機能夠使用的DOF為±5um。因此針對曝光機的聚焦(Focus)狀況監控的要求大大提高，目前缺乏能夠實現對曝光機聚焦狀況進行監控的標識，急需開發出一種監控曝光機聚焦狀況的標識，以利于產線生產。

發明內容

本發明的目的是提供一種聚焦監控組件，能監控設備聚焦狀況。

為實現本發明的目的，本發明提供了如下的技術方案：

第一方面，本發明提供了一種聚焦監控組件，用于曝光制程，包括層疊設置的掩膜版和基板，且所述掩膜版設置于所述基板的正上方，所述掩膜版正上方還設有光源，所述光源的光線垂直射入所述掩膜版，所述掩膜版上設有第一圖案和多個第一聚焦標識，所述光源的光線將所述第一圖案和所述第一聚焦標識曝光至所述基板，以使所述基板上形成第二圖案和多個第二聚焦標識，所述第二圖案為所述第一圖案在所述基板上的投影，所述第二聚焦標識為所述第一聚焦標識在所述基板上的投影，所述第一圖案內部的最小間隙為第一間隙，所述第一聚焦標識內部設有第二間隙，所述第二間隙的尺寸小于或等于所述第一間隙的尺寸，所述聚焦監控組件還包括監控模塊，所述監控模塊監控所述第二聚焦標識的形狀變化以判斷所述曝光制程的異常。

在第一方面的第一種可能的實現方式中，所述第一聚焦標識包括四個相同的第一聚焦單元、第二聚焦單元、第三聚焦單元和第四聚焦單元，所述第一聚焦單元為長條形，所述第二聚焦單元垂直于所述第一聚焦單元的長度方向，并設置于所述第一聚焦單元長度方向的中點的垂線的延長線上，所述第三聚焦單元設置于所述第一聚焦單元一側并與所述第一聚焦單元的長度方向的夾角呈45°，所述第四聚焦單元設置于所述第一聚焦單元一側并與所述第一聚焦單元的長度方向的夾角呈45°，所述第三聚焦單元和所述第四聚焦單元對稱設置于所述第二聚焦單元兩側，所述第二聚焦單元、所述第三聚焦單元和所述第四聚焦單元設置于所述第一聚焦單元的同一側。

結合第一方面及第一方面的第一種可能的實現方式，在第一方面的第二種可能的實現方式中，所述第一聚焦單元包括至少3條相同的第一聚焦帶，所述多條第一聚焦帶平行設置，相鄰兩條所述第一聚焦帶之間的距離為第一間隙。

在第一方面的第三種可能的實現方式中，所述監控模塊包括拍照單元，所述拍照單元用于拍攝所述基板并得到所述第二聚焦標識的圖片，所述圖片包括所述曝光制程異常的信息，所述監控模塊接收所述信息并判斷是否對異常進行處理。

結合第一方面及第一方面的第二種可能的實現方式，在第一方面的第四種可能的實現方式中，所述第一聚焦帶沿其長度方向的長度的范圍為8～12μm，垂直于所述第一聚焦帶的長度方向的寬度的范圍為大于或等于3μm。