[發明專利]聚焦監控組件

有效

• 申請號: 201710896853.1
• 申請日: 2017-09-28
• 公開（公告）號: CN107632499B
• 公開（公告）日: 2019-08-06
• 發明（設計）人: 龔成波
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02F1/13
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫;熊永強

1.一種聚焦監控組件，用于曝光制程，其特征在于，包括層疊設置的掩膜版和基板，且所述掩膜版設置于所述基板的正上方，所述掩膜版正上方還設有光源，所述光源的光線垂直射入所述掩膜版，所述掩膜版上設有第一圖案和多個第一聚焦標識，所述光源的光線將所述第一圖案和所述第一聚焦標識曝光至所述基板，以使所述基板上形成第二圖案和多個第二聚焦標識，所述第二圖案為所述第一圖案在所述基板上的投影，所述第二聚焦標識為所述第一聚焦標識在所述基板上的投影，所述第一圖案內部的最小間隙為第一間隙，所述第一聚焦標識內部設有第二間隙，所述第二間隙的尺寸小于或等于所述第一間隙的尺寸，所述聚焦監控組件還包括監控模塊，所述監控模塊監控所述第二聚焦標識的形狀變化以判斷所述曝光制程的異常。

2.如權利要求1所述的聚焦監控組件，其特征在于，所述第一聚焦標識包括四個相同的第一聚焦單元、第二聚焦單元、第三聚焦單元和第四聚焦單元，所述第一聚焦單元為長條形，所述第二聚焦單元垂直于所述第一聚焦單元的長度方向，并設置于所述第一聚焦單元長度方向的中點的垂線的延長線上，所述第三聚焦單元設置于所述第一聚焦單元一側并與所述第一聚焦單元的長度方向的夾角呈45°，所述第四聚焦單元設置于所述第一聚焦單元一側并與所述第一聚焦單元的長度方向的夾角呈45°，所述第三聚焦單元和所述第四聚焦單元對稱設置于所述第二聚焦單元兩側，所述第二聚焦單元、所述第三聚焦單元和所述第四聚焦單元設置于所述第一聚焦單元的同一側。

3.如權利要求2所述的聚焦監控組件，其特征在于，所述第一聚焦單元包括至少3條相同的第一聚焦帶，至少3條所述第一聚焦帶平行設置，相鄰兩條所述第一聚焦帶之間的距離為第一間隙。

4.如權利要求1所述的聚焦監控組件，其特征在于，所述監控模塊包括拍照單元，所述拍照單元用于拍攝所述基板并得到所述第二聚焦標識的圖片，所述圖片包括所述曝光制程異常的信息，所述監控模塊接收所述信息并判斷是否對異常進行處理。

5.如權利要求3所述的聚焦監控組件，其特征在于，所述第一聚焦帶沿其長度方向的長度的范圍為8～12μm，垂直于所述第一聚焦帶的長度方向的寬度的范圍為大于或等于3μm。

6.如權利要求2所述的聚焦監控組件，其特征在于，所述第一聚焦標識相對所述掩膜版的高度的范圍為1～2μm。

7.如權利要求1所述的聚焦監控組件，其特征在于，多個所述第一聚焦標識陣列排列于所述掩膜版上。

8.如權利要求7所述的聚焦監控組件，其特征在于，所述第一聚焦標識為四個，且四個所述第一聚焦標識分別設于所述掩膜版的四角。

9.如權利要求8所述的聚焦監控組件，其特征在于，所述聚焦監控組件還包括設于所述掩膜版中心的一個第一聚焦標識，設于所述掩膜版四角的四個所述第一聚焦標識相對設于所述掩膜版中心的所述第一聚焦標識中心對稱。

10.如權利要求1所述的聚焦監控組件，其特征在于，所述第一聚焦標識粘貼于所述掩膜版上，所述基板上涂布有光阻，所述第二聚焦標識形成于所述光阻上。