[發明專利]掩膜板和曝光設備

有效

• 申請號: 201710895606.X
• 申請日: 2017-09-28
• 公開（公告）號: CN107807493B
• 公開（公告）日: 2020-08-07
• 發明（設計）人: 徐元杰;祁小敬;高山
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G03F1/32
• 分類號: G03F1/32
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 姜春咸;陳源

1.一種掩膜板，用于對陣列基板進行曝光，所述陣列基板包括顯示區域和環繞所述顯示區域的周邊區域，所述顯示區域包括多個顯示有源區，所述周邊區域包括多個周邊有源區，所述周邊有源區的長度大于所述顯示有源區的長度，所述掩膜板包括掩膜層，其特征在于，所述掩膜層包括對應于所述周邊有源區的第一掩膜部，所述第一掩膜部包括多個彼此間隔的掩膜條；在所述第一掩膜部中，所述掩膜條的透光程度與其他部分的透光程度不同；

所述掩膜層還包括與所述顯示有源區對應的第二掩膜部，該第二掩膜部為半透光膜或者由第三掩膜部、第四掩膜部和兩個遮光塊環繞的全透光區。

2.根據權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，在所述第一掩膜部中，所述掩膜條的透光程度低于其他部分的透光程度。

3.根據權利要求2所述的掩膜板，其特征在于，在所述第一掩膜部中，

所述掩膜條不透光，其他部分全透光；

或者，所述掩膜條半透光，其他部分全透光；

或者，所述掩膜條不透光，其他部分半透光。

4.根據權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一掩膜部包括沿其寬度方向排列的兩個所述掩膜條，所述掩膜條的延伸方向與所述第一掩膜部的寬度方向交叉；兩個所述掩膜條之間的距離大于所述周邊有源區的寬度；所述第一掩膜部中，所述掩膜條以外的部分半透光。

5.根據權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一掩膜部包括沿其寬度方向排列的多個所述掩膜條，所述掩膜條的延伸方向與所述第一掩膜部的寬度方向相交叉，距離最遠的兩個第一掩膜條之間的距離小于所述周邊有源區的寬度；或者，

所述第一掩膜部包括沿其長度方向排列的多個所述掩膜條，所述掩膜條的延伸方向與所述第一掩膜部的長度方向相交叉，距離最遠的兩個掩膜條之間的距離小于所述周邊有源區的長度。

6.根據權利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜條的寬度在0.5μm～1.5μm之間，相鄰兩個掩膜條之間的間距在0.5μm～1.5μm之間。

7.一種曝光設備，其特征在于，包括掃描光源和權利要求1至6中任意一項所述的掩膜板。

8.根據權利要求7所述的曝光設備，其特征在于，當所述掩膜板為權利要求4所述的掩膜板時，所述掃描光源的掃描方向為所述第一掩膜部的長度方向；

當所述掩膜板為權利要求5所述的掩膜板時，所述掃描光源的掃描方向為所述掩膜條的排列方向。