[發(fā)明專利]一種靜渦旋盤及其生產工藝

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710895071.6
• 申請日: 2017-09-28
• 公開（公告）號: CN107725370A
• 公開（公告）日: 2018-02-23
• 發(fā)明（設計）人: 李杰
• 申請（專利權）人: 埼玉鋁合金精密鍛造（丹陽）有限公司
• 主分類號: F04C29/00
• 分類號: F04C29/00;F04C29/06;F04C29/04;F04C18/02;C21D9/00
• 代理公司: 南京常青藤知識產權代理有限公司32286
• 代理人: 史慧敏

1.一種靜渦旋盤，包括盤體、渦旋線齒、進氣口和排氣孔，所述盤體正面上設有所述渦旋線齒，所述進氣口設置在所述盤體邊緣上所述渦旋線齒的一端處，所述排氣孔設置在所述盤體中心上所述渦旋線齒的另一端處，所述排氣孔貫穿所述盤體正反面，其特征在于，所述排氣孔為與所述渦旋線齒螺旋方向一致的螺旋孔，所述渦旋線齒內設有與所述渦旋線齒高度一致的渦旋凹槽。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種靜渦旋盤，其特征在于，所述進氣口處還設有氣體過濾網(wǎng)，所述盤體上所述進氣口兩側設有沉孔，所述氣體過濾網(wǎng)兩側固定有固定塊，所述固定塊和所述盤體通過插入所述沉孔的螺絲連接。

3.根據(jù)權利要求1所述的一種靜渦旋盤，其特征在于，所述盤體反面上還設有若干梯形凹槽，所述梯形凹槽位于所述排氣孔外圍，所述梯形凹槽之間通過梯形凸起隔開。

4.根據(jù)權利要求3所述的一種靜渦旋盤，其特征在于，所述梯形凹槽在所述盤體反面上均勻分布。

5.根據(jù)權利要求1至4中任一項所述的靜渦旋盤生產工藝，其特征在于，包括如下工藝步驟,

S1：材料加熱，將材料在連續(xù)加熱爐內進行加熱，使材料表面達到一定溫度；

S2：鍛造，將材料放入鍛造機中進行鍛造，模具溫度300-380℃，鍛造成靜渦旋盤粗型；

S3：切邊，對靜渦旋盤粗型上的毛刺殘留用車床進行切邊；

S4：熱處理，再將切邊后的產品在熱處理爐內進行熱處理；

S5：酸洗處理，將熱處理后的產品在酸洗處理設備進行酸洗處理；

S6：熒光探傷和外加工，將酸洗處理后的產品在熒光探傷裝置內進行熒光探傷檢測，有鍛造缺陷的產品進行粗加工；

S7：在產品上安裝氣體過濾網(wǎng)。

6.根據(jù)權利要求5所述的一種靜渦旋盤，其特征在于，所述步驟S1中加熱溫度大于等于400℃。

7.根據(jù)權利要求5所述的一種靜渦旋盤，其特征在于，所述步驟S4中溶體化處理溫度為505-515℃，溶體化處理時間170-190分鐘，淬火水溫35-45℃，浸泡時間大于3分鐘，時效化處理溫度175-185℃，時效化處理時間330-390分鐘。