[發明專利]一種液態石墨烯應用于GaN基材料及器件的方法在審
| 申請號: | 201710887677.5 | 申請日: | 2017-09-27 |
| 公開(公告)號: | CN107808819A | 公開(公告)日: | 2018-03-16 |
| 發明(設計)人: | 孫曉娟;黎大兵;賈玉萍;劉賀男;宋航;李志明;陳一仁;繆國慶;蔣紅;張志偉 | 申請(專利權)人: | 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所 |
| 主分類號: | H01L21/02 | 分類號: | H01L21/02;H01L21/3205 |
| 代理公司: | 長春菁華專利商標代理事務所(普通合伙)22210 | 代理人: | 南小平 |
| 地址: | 130033 吉*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 液態 石墨 應用于 gan 基材 料及 器件 方法 | ||
技術領域
本發明屬于半導體技術領域,具體涉及一種液態石墨烯應用于GaN基材料及器件的方法。
背景技術
GaN基材料屬于直接寬帶隙半導體材料,鍵合能很大,具有良好的化學穩定性和熱穩定性。技術上可以實現與AlN、InN等形成組分連續可變的三元或多元固溶體合金:AlxGa1-xN、InxGa1-x N、四元固溶體合金AlxInyGa1-x-y N。其禁帶寬度從0.7eV到6.2eV連續可調,對應的波長從近紅外覆蓋到紫外波段,因此GaN基材料是制備發光二極管、光電探測器、太陽能電池等光電子器件的理想材料。此外,GaN基材料的高電子遷移率,高電子飽和速率以及高擊穿電場特性使得其在研制高頻大功率器件、耐高溫,抗輻照半導體微電子器件上也具有先天優勢。
然而,如何進一步提高及拓展GaN基光電子器件及微電子器件的性能依然是人們追求的目標。如何解決GaN基光電子及微電子器件的工作速度有待提高、散熱性不良、集成與互聯難度大等問題依然是制約GaN基光電子器件及微電子器件發展及進一步應用的重要問題。石墨烯的發現,為解決這些問題,優化及拓展GaN基光電子及微電子器件的發展和應用提供了新的途徑。其主要體現在以下幾個方面:
1)石墨烯的高透光性能有望成為GaN基光電子器件的透明電極:石墨烯在可見光范圍內的透光性為97.7%,且透光分布均勻,與傳統的ITO電極相比具有很大優勢,如果可以用石墨烯作為GaN材料激光器、LED、探測器等光電器件的透明電極,可以有望大大提高GaN材料器件的透光性。
2)石墨烯的導熱系數為5300Wm-1k-1是銅的十倍,因此,石墨烯的優良導熱性有望解決GaN基微電子器件的散熱問題。
3)石墨烯的電子遷移率非常高——200000cm2/Vs,是硅電子遷移率的100倍以上,同時石墨烯的電導率也可高達106S/m,這些性能遠遠超過人類之前用來制造電子器件的絕大部分導電材料,因此,石墨烯優良的導電性有望提高GaN材料器件的工作速度,解決GaN材料器件存在工作速度不足的問題。
4)石墨烯超強的機械強度有望改善GaN材料器件的集成互聯問題:石墨烯的抗拉強度可以達到42N/m2,是鋼鐵拉伸強度的100倍,可以用此性能有效改善GaN材料制備的光電子器件和微電子器件存在的集成互聯問題。
到目前為止,關于將石墨烯應用于GaN基器件中,石墨烯的轉移問題在很大程度上限制了石墨烯應用于GaN基光電子和微電子器件。目前的石墨烯轉移方法如下:
1)利用化學氣相沉積(CVD)的方法在Cu基板襯底上生長石墨烯;
2)利用腐蝕液腐蝕掉Cu基板襯底;
3)將與Cu襯底分離的石墨烯轉移到GaN基材料表面。
不難發現,利用上述方法轉移石墨烯過程復雜,難度大,不但石墨烯在轉移過程中很容易受到損傷,而且,很難控制轉移的石墨烯的尺寸和轉移后的位置。因此,石墨烯的轉移問題一直是人們關注的問題,如何簡化石墨烯的轉移過程是將石墨烯應用于GaN基器件的重要環節。此問題的解決,將在很大程度上推動將石墨烯應用于GaN基光電子和微電子器件。
發明內容
本發明要解決現有技術中的技術問題,提供一種液態石墨烯應用于GaN基材料及器件的方法,該方法通過液態石墨烯滴定或者旋涂的方式實現將石墨烯應用于GaN基光電子和微電子器件,本方法操作簡單,重復性強,避免了傳統石墨烯轉移的損傷問題;并且可以通過光刻的方式,實現轉移后的石墨烯尺寸可控,實現石墨烯與GaN基材料相結合,優化及拓展GaN基光電子和微電子器件的性能。本發明提供的利用液態石墨烯轉移石墨烯的方法,為石墨烯應用于GaN基材料及器件,實現石墨烯與GaN基材料相結合提供了新思路。
為了解決上述技術問題,本發明的技術方案具體如下:
一種液態石墨烯應用于GaN基材料及器件的方法,包括以下步驟:
步驟1、生長GaN基材料;
步驟2、配置石墨烯溶液;
步驟3、在GaN基材料表面界定石墨烯窗口;
步驟4、通過旋涂或者滴定的方式,將步驟2配置的石墨烯溶液滴加到GaN基材料表面界定石墨烯窗口中;
步驟5、揮發溶劑,實現基于石墨烯的GaN基器件。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學院長春光學精密機械與物理研究所,未經中國科學院長春光學精密機械與物理研究所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710887677.5/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種柔性電容器的制備方法
- 下一篇:層疊晶片的加工方法
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





