[發明專利]蝕刻機風刀的清洗機構及其控制方法

在審

• 申請號: 201710884612.5
• 申請日: 2017-09-26
• 公開（公告）號: CN107649438A
• 公開（公告）日: 2018-02-02
• 發明（設計）人: 劉超
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B13/00;F26B21/00
• 代理公司: 深圳市銘粵知識產權代理有限公司44304
• 代理人: 孫偉峰,顧楠楠

1.一種蝕刻機風刀的清洗機構，包括風刀(1)，其特征在于：所述風刀(1)上設有主管路(2)，在主管路(2)上設有兩路分支，一路為與清洗液水槽連接的水管(3)，另一路為通氣的通氣管(4)，所述水管(3)上設有第一氣動閥(5)，水管(3)上設有第二氣動閥(6)。

2.根據權利要求1所述的蝕刻機風刀的清洗機構，其特征在于：所述第一氣動閥(5)包括第一手動氣動閥(51)和第一電控氣動閥(52)，所述第一電控氣動閥(52)與蝕刻機的控制器連接。

3.根據權利要求1所述的蝕刻機風刀的清洗機構，其特征在于：所述第二氣動閥(6)包括第二手動氣動閥(61)和第二電控氣動閥(62)，所述第二電控氣動閥(62)與蝕刻機的控制器連接。

4.一種用于權利要求1的控制方法，其特征在于：所述控制方法包括清洗和風干；

所述清洗包括控制器開啟第一氣動閥(5)，將清洗液經水管(3)、主管路(2)通入風刀(1)，實現對風刀(1)進行清洗；

所述風干包括控制器關閉第一氣動閥(5)同時開啟第二氣動閥(6)，使氣體經通氣管(4)、主管路(2)通入風刀(1)，實現對風刀(1)中的殘留清洗液進行風干。

5.根據權利要求4所述的控制方法，其特征在于：所述控制方法還包括在進行清洗前對主管路(2)中的藥液進行藥液回流，所述藥液回流包括將殘留在主管路(2)中的藥液回收至藥液箱中。

6.根據權利要求4所述的控制方法，其特征在于：所述清洗的清洗時間為每個風刀(1)清洗400秒。

7.根據權利要求4所述的控制方法，其特征在于：所述清洗液為去離子水。

8.根據權利要求4所述的控制方法，其特征在于：所述風干的通氣時間為300秒。

9.根據權利要求4所述的控制方法，其特征在于：所述氣體為潔凈干燥的壓縮空氣。

10.根據權利要求5所述的控制方法，其特征在于：所述藥液回流的回流時間為5分鐘。