[發明專利]一種線性蒸發源裝置及蒸鍍設備

有效

• 申請號: 201710883034.3
• 申請日: 2017-09-26
• 公開（公告）號: CN107815648B
• 公開（公告）日: 2019-11-05
• 發明（設計）人: 鄭子明;趙軍;呂海超;彭勃
• 申請（專利權）人: 上海升翕光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 長春菁華專利商標代理事務所(普通合伙) 22210
• 代理人: 南小平

本發明涉及一種線性蒸發源裝置及蒸鍍設備，屬于有機器件制造技術領域。所述線性蒸發源裝置包括：坩堝，所述坩堝上設有坩堝出氣口；本體，所述本體的底部中央位置設有本體進氣口；及置于本體的頂部且呈線性均勻排布的多個噴嘴；還包括置于坩堝和本體之間的連通管；所述連通管上設有引入通道、壓縮通道及釋放通道；所述引入通道與所述坩堝出氣口相連，所述釋放通道與所述本體進氣口相連；所述壓縮通道設置于所述引入通道和所述釋放通道之間。該線性蒸發源裝置經加熱坩堝產生的蒸鍍氣體通過所述連通管的均勻混合、壓縮及釋放后，進入所述本體的腔體內作進一步的氣壓平衡混合，再通過所述噴嘴噴射到蒸鍍基板上，能提高有機材料鍍膜的厚度均勻性。

技術領域

本發明涉及有機器件制造技術領域，特別涉及一種線性蒸發源裝置及蒸鍍設備。

背景技術

目前，在大尺寸AMOLED(Active-matrix Organic Light-Emitting Diode)生產中，需要將有機材料等物質置于蒸鍍設備的蒸發源中進行蒸發(或升華)，形成的氣態有機材料通過蒸發源的噴嘴噴射到蒸發源上方的常溫基板后，冷凝于玻璃基板表面，從而完成蒸鍍作業。現有蒸鍍設備多采用線性蒸發源，由于在坩堝加熱及傳遞過程中不同位置的熱量和溫度存在差異，使得蒸發源不同位置的有機氣體分子的熱動能不一致，從而使不同位置的噴嘴噴出有機分子的蒸鍍速率不同，導致鍍膜的厚度均勻性差。

如圖1所示，圖1為現有的線型蒸發源裝置，包括用于盛放并加熱有機材料的坩堝1和長條形的線性蒸發源的本體2，所述坩堝1的頂部連通所述本體2的底部中央位置，所述本體2的頂部設置有若干噴嘴3。當正常蒸鍍作業時，所述坩堝1被加熱器(圖中未示出)加熱，坩堝1內的蒸鍍材料受熱蒸發(或升華)成氣體進入本體2的腔室內，再經過噴嘴3噴向基板(圖中未示出)并冷凝成薄膜。對于現有的線性蒸發源，由于本體2呈長條形，坩堝1內的蒸氣在進入本體2的腔室后，在腔室中鄰近坩堝1的中央位置濃度較大，而遠離坩堝1的兩側位置濃度較小。即，所述本體2的腔室內蒸氣的壓力不平衡，使得從不同位置噴嘴3噴出氣體的熱動能不一致，從而造成蒸鍍到基板上的薄膜厚度不均勻，尤其在制作大尺寸AMOLED時其缺陷更加明顯。

發明內容

本發明要解決現有技術中的技術問題，提供一種線性蒸發源裝置及蒸鍍設備。

為了解決上述技術問題，本發明的技術方案具體如下：

一種線性蒸發源裝置，包括：

坩堝，所述坩堝上設有坩堝出氣口；

本體，所述本體的底部中央位置設有本體進氣口；

及置于所述本體的頂部且呈線性均勻排布的多個噴嘴；

還包括置于所述坩堝和所述本體之間的連通管；所述連通管上設有引入通道、壓縮通道及釋放通道；所述引入通道與所述坩堝出氣口相連，所述釋放通道與所述本體進氣口相連；所述壓縮通道設置于所述引入通道和所述釋放通道之間。

在上述技術方案中，所述引入通道為“上小下大”的梯形截面形狀，所述壓縮通道為矩形截面形狀，所述釋放通道為“上大下小”的梯形截面形狀。

在上述技術方案中，所述引入通道比所述釋放通道長。

在上述技術方案中，所述引入通道的開口角度為30°～90°。

在上述技術方案中，所述釋放通道的開口角度為90°～150°。

在上述技術方案中，所述本體內設置有混合板，且所述混合板將所述本體的腔體分成第一混合腔和第二混合腔。

在上述技術方案中，所述混合板在所述本體的腔體內呈水平狀、“V”形狀、“U”形狀或圓弧狀設置。

在上述技術方案中，所述混合板上設有若干混合通孔，且所述混合通孔的投影位置對應于所述噴嘴的噴嘴通孔的位置。