[發(fā)明專利]圖像檢測(cè)系統(tǒng)、圖像檢測(cè)裝置以及圖像檢測(cè)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710867556.4 | 申請(qǐng)日: | 2017-09-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109539978B | 公開(公告)日: | 2021-06-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱志浩;周揚(yáng);陳閣 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 沈機(jī)(上海)智能系統(tǒng)研發(fā)設(shè)計(jì)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01B11/00 | 分類號(hào): | G01B11/00;G01B11/24 |
| 代理公司: | 上海知錦知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 31327 | 代理人: | 高靜;李麗 |
| 地址: | 200433 上海市楊浦區(qū)*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 圖像 檢測(cè) 系統(tǒng) 裝置 以及 方法 | ||
1.一種圖像檢測(cè)系統(tǒng),適于對(duì)待測(cè)件進(jìn)行檢測(cè),其特征在于,所述圖像檢測(cè)系統(tǒng)包括:
照明模塊,適于照亮所述待測(cè)件,所述照明模塊包括多個(gè)光源,所述多個(gè)光源發(fā)出的光分別從不同方向斜入射至所述待測(cè)件,其中,所述光源發(fā)出的光在所述待測(cè)件表面的入射角為30°至60°;
圖像采集模塊,設(shè)置于所述待測(cè)件的上方,適于對(duì)所述待測(cè)件進(jìn)行圖像采集;
采集控制模塊,與所述照明模塊和所述圖像采集模塊相連,適于控制所述多個(gè)光源分別開啟和關(guān)閉,并在光源開啟時(shí)控制所述圖像采集模塊對(duì)所述待測(cè)件進(jìn)行圖像采集,獲得不同光源照亮下所述待測(cè)件的多幅圖像;
圖像處理模塊,與所述圖像采集模塊相連,適于對(duì)所述多幅圖像進(jìn)行合成以獲得合成圖像,還適于對(duì)所述合成圖像進(jìn)行邊緣特征提取以實(shí)現(xiàn)所述待測(cè)件的檢測(cè);
所述圖像處理模塊適于對(duì)所述多幅圖像進(jìn)行合成,包括:獲得每一幅圖像中各像素點(diǎn)的灰度,并以多幅圖像中同一像素點(diǎn)的灰度最小值作為所述合成圖像中對(duì)應(yīng)像素點(diǎn)的灰度,實(shí)現(xiàn)多幅圖像的合成。
2.如權(quán)利要求1所述的圖像檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于,所述光源包括發(fā)光面,所述發(fā)光面靠近所述待測(cè)件一側(cè)的最大長度大于所述待測(cè)件在與所述發(fā)光面平行方向上的最大長度。
3.如權(quán)利要求1所述的圖像檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于,所述光源為條形光源、弧形光源和點(diǎn)光源中的一種或多種。
4.如權(quán)利要求1所述的圖像檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于,所述圖像采集模塊為具有觸發(fā)拍照功能的工業(yè)相機(jī)。
5.如權(quán)利要求1所述的圖像檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于,所述圖像處理模塊為工控機(jī)或者計(jì)算機(jī)處理系統(tǒng)。
6.如權(quán)利要求1所述的圖像檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于,所述圖像處理模塊還與所述采集控制模塊相連,適于向所述采集控制模塊發(fā)送指令,以觸發(fā)所述采集控制模塊對(duì)所述照明模塊和所述圖像采集模塊的控制。
7.如權(quán)利要求1所述的圖像檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于,所述采集控制模塊為可編程邏輯控制器和繼電器。
8.如權(quán)利要求1所述的圖像檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于,所述待測(cè)件具有凹凸邊緣特征;
所述照明模塊中光源的數(shù)量大于等于四個(gè),且所述多個(gè)光源圍繞所述待測(cè)件設(shè)置。
9.如權(quán)利要求8所述的圖像檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于,所述多個(gè)光源圍繞所述待測(cè)件均勻分布。
10.如權(quán)利要求8所述的圖像檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于,所述照明模塊包括四個(gè)條形光源,且所述四個(gè)條形光源圍繞所述待測(cè)件呈矩形排布。
11.如權(quán)利要求1所述的圖像檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于,所述待測(cè)件具有高光表面;
所述照明模塊包括至少兩個(gè)光源,所述光源分別照亮所述待測(cè)件時(shí),在所述高光表面的不同位置形成高光區(qū)域。
12.如權(quán)利要求11所述的圖像檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于,所述高光表面為弧面;
所述照明模塊包括兩個(gè)條形光源,所述兩個(gè)條形光源相互平行且分別位于所述弧面兩頂端的外側(cè)上方。
13.一種圖像檢測(cè)裝置,其特征在于,包括:
如權(quán)利要求1~12任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的圖像檢測(cè)系統(tǒng);
支架,適于固定照明模塊和圖像采集模塊。
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