[發明專利]玻璃板和玻璃基板的制造方法

在審

• 申請號: 201710860184.2
• 申請日: 2017-09-21
• 公開（公告）號: CN107857480A
• 公開（公告）日: 2018-03-30
• 發明（設計）人: 佐藤啟史;似內佑輔;中谷嘉孝;山田兼士;富永龍;米道友廣
• 申請（專利權）人: 旭硝子株式會社
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00;G02F1/1333
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙)11277
• 代理人: 劉新宇,張會華

1.一種玻璃板，其中，

該玻璃板具有：

第1主表面；

第2主表面，其與所述第1主表面相對；以及

端面，其連接所述第1主表面和所述第2主表面，

所述第1主表面的第1表面粗糙度小于所述第2主表面的第2表面粗糙度，

所述第1主表面的Al/Si的值大于所述第2主表面的Al/Si的值。

2.根據權利要求1所述的玻璃板，其中，

所述第1主表面的所述Al/Si的值在所述第2主表面的所述Al/Si的值的1.3倍以上。

3.根據權利要求1或2所述的玻璃板，其中，

所述第1主表面的所述Al/Si的值在0.2以上。

4.根據權利要求1～3中任一項所述的玻璃板，其中，

所述第1主表面的氟的含量的平均值在所述第2主表面的氟的含量的平均值的1/2倍以下。

5.根據權利要求1～4中任一項所述的玻璃板，其中，

所述第1主表面的氟的含量的平均值小于0.39atm％。

6.根據權利要求1～5中任一項所述的玻璃板，其中，

所述第1主表面的比表面積率的增加量在所述第2主表面的比表面積率的增加量的1/3以下。

7.根據權利要求1～6中任一項所述的玻璃板，其中，

所述第1主表面的比表面積率的增加量在0.03％以下。

8.根據權利要求1～7中任一項所述的玻璃板，其中，

所述第1主表面的Ra在所述第2主表面的Ra的0.75倍以下。

9.根據權利要求1～7中任一項所述的玻璃板，其中，

所述第1主表面的Rku在所述第2主表面的Rku的0.65倍以下。

10.根據權利要求1～7中任一項所述的玻璃板，其中，

所述第1主表面的Rsm在所述第2主表面的Rsm的1.25倍以上。

11.根據權利要求1～7中任一項所述的玻璃板，其中，

所述第1主表面的Rv在所述第2主表面的Rv的0.6倍以下。

12.根據權利要求1～7中任一項所述的玻璃板，其中，

所述第1主表面的Rz在所述第2主表面的Rz的0.7倍以下。

13.根據權利要求1～12中任一項所述的玻璃板，其中，

所述端面包括：

第1端面；

第2端面，其與所述第1端面相對；

第3端面，其連接所述第1端面的一端和所述第2端面的一端；以及

第4端面，其連接所述第1端面的另一端和所述第2端面的另一端，且與所述第3端面相對，

所述第1端面、所述第2端面、所述第3端面以及所述第4端面的碎玻璃剝離率相等。

14.根據權利要求13所述的玻璃板，其中，

所述第1端面、所述第2端面、所述第3端面以及所述第4端面的表面粗糙度相等。

15.一種玻璃基板的制造方法，該玻璃基板為顯示器用玻璃基板，其中，

該制造方法具有：

制作玻璃基板的工序；以及

表面粗糙化工序，僅對所述玻璃基板的主表面中的一個主表面的玻璃表面使用反應氣體進行表面粗糙化。

16.根據權利要求15所述的玻璃基板的制造方法，其中，

在所述表面粗糙化工序中，

使用防止所述玻璃基板的主表面中的另一個主表面的玻璃表面與所述反應氣體接觸的接觸抑制構件。

17.根據權利要求15或16所述的玻璃基板的制造方法，其中，

在所述表面粗糙化工序中，

防止所述反應氣體向所述玻璃基板的主表面中的另一個主表面的玻璃表面側蔓延。

18.根據權利要求15～17中任一項所述的玻璃基板的制造方法，其中，

在所述表面粗糙化工序中，

包含連續輸送第1玻璃板和第2玻璃板的工序，

在使所述第1玻璃板表面粗糙化之后，在直到對所述第2玻璃板進行表面粗糙化之前，防止所述反應氣體在表面粗糙化裝置內滯留。

19.根據權利要求15～17中任一項所述的玻璃基板的制造方法，其中，

在所述表面粗糙化工序中，

包含連續輸送第1玻璃板和第2玻璃板的工序，

并且包含以下工序：在使所述第1玻璃板表面粗糙化之后，在直到所述第2玻璃板進行表面粗糙化之前，吹走因所述反應氣體在表面粗糙化裝置內滯留而形成的殘留氣體。