[發明專利]噴墨打印方法

有效

• 申請號: 201710842271.5
• 申請日: 2017-09-18
• 公開（公告）號: CN109515020B
• 公開（公告）日: 2021-03-23
• 發明（設計）人: 趙景訓;卜維亮;彭兆基
• 申請（專利權）人: 云谷（固安）科技有限公司
• 主分類號: B41M5/00
• 分類號: B41M5/00
• 代理公司: 上海波拓知識產權代理有限公司 31264
• 代理人: 楊波

一種噴墨打印方法，包括：提供一待處理表面；提供一掩膜版，掩膜版具有一開口，開口的面積小于待處理表面的面積；利用掩膜版對待處理表面進行表面處理，使待處理表面上和開口對應的區域與墨水的接觸角小于其它區域與墨水的接觸角；移除掩膜版，在待處理表面上噴墨打印薄膜層。本發明利用開口面積小于待處理表面面積的掩膜版對噴墨打印的待處理表面進行表面處理，使待處理表面上和掩膜版開口對應的區域與墨水的接觸角小于其它區域與墨水的接觸角，形成對噴墨打印的墨水潤濕程度不同的區域，達到在噴墨打印時有效控制墨水分布范圍的目的。

技術領域

本發明涉及噴墨打印的技術領域，特別是關于一種噴墨打印方法。

背景技術

近年來，噴墨打印(Inkjet)制膜技術得到越來越多的關注，噴墨打印制膜技術可在多種基底上快速、高效地制備均勻且大面積的薄膜，并可輕易地實現各種精細圖案化的制作，可溶液加工，能夠很好地節約原料，降低能耗和制作成本。

在進行噴墨打印時，根據處理區域的不同，要求墨水與待處理表面的接觸角也不同，在邊緣要求接觸角大，可防止墨水的擴散，而中間區域則要求接觸角小，從而使墨水分布均勻。然而，現有的表面處理是對整個區域進行的，沒有選擇性，所以造成墨水與噴墨打印的待處理表面整個區域的接觸角相同，不能有效控制墨水的分布范圍。以薄膜封裝技術(Thin Film Encapsulation，TFE)為例，薄膜封裝技術是制作有機發光二極管(OLED)顯示產品的關鍵技術，薄膜封裝結構一般為兩層或者兩層以上的多層薄膜堆疊結構，包括無機薄膜層、有機薄膜層兩類，其中，無機薄膜層的主要作用是阻水阻氧，有機薄膜層的主要作用是為后續工藝提供平坦化的薄膜沉積條件以及提供優異的微粒(Particle)包覆效果，有機薄膜層的形成方式一般采用噴墨打印方式，為控制噴墨打印時墨水的分布范圍，通常做法是在封裝邊緣區域使用2道擋墻(Dam)來防止墨水擴散，但這種方式增加了成本，效果也不好。

發明內容

本發明的目的在于提供一種噴墨打印方法，可在噴墨打印時有效控制墨水分布范圍。

本發明提供一種噴墨打印方法，包括：

提供一待處理表面；

提供一掩膜版，所述掩膜版具有一開口，所述開口的面積小于所述待處理表面的面積；

利用所述掩膜版對所述所述待處理表面進行表面處理，使所述所述待處理表面上和所述開口對應的區域與墨水的接觸角小于其它區域與墨水的接觸角；

移除所述掩膜版，在所述待處理表面上噴墨打印薄膜層。

其中，所述開口形成于所述掩膜版的中間區域，所述開口為矩形開口。

其中，所述掩膜版設置在所述待處理表面上方的設定距離處，所述待處理表面上和所述開口對應的區域的邊緣具有接觸角過渡區。

其中，所述利用所述掩膜版對所述待處理表面進行表面處理的步驟包括：

將所述掩膜版的開口中心與所述待處理表面的中心對齊；

利用等離子體對所述待處理表面進行表面處理，使等離子體的處理面積小于所述待處理表面的面積。

其中，所述等離子體為氧氣等離子體、氬氣等離子體或氦氣等離子體。

其中，所述利用所述掩膜版對所述待處理表面進行表面處理的步驟包括：

將所述掩膜版的開口中心與所述待處理表面的中心對齊；

在所述待處理表面沉積無機薄膜層，使所述無機薄膜層的覆蓋面積小于所述待處理表面的面積。

其中，利用化學氣相沉積工藝在所述待處理表面沉積所述無機薄膜層。

其中，所述無機薄膜層為氧化硅薄膜層或氮氧化硅薄膜層。