[發明專利]Tl-2223超導薄膜的制備方法有效
| 申請號: | 201710837904.3 | 申請日: | 2017-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN107482110B | 公開(公告)日: | 2019-07-26 |
| 發明(設計)人: | 謝清連;陳名賢;唐平英;蔣艷玲;黃佳;蒙美娘;黃國華 | 申請(專利權)人: | 廣西師范學院 |
| 主分類號: | H01L39/12 | 分類號: | H01L39/12;H01L39/24;C23C18/12 |
| 代理公司: | 北京遠大卓悅知識產權代理事務所(普通合伙) 11369 | 代理人: | 靳浩 |
| 地址: | 530299 廣西*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | tl 2223 超導 薄膜 制備 方法 | ||
1.一種Tl-2223超導薄膜的制備方法,其特征在于,使用銀箔或金箔將含鉈的非晶態先驅膜與含鉈的陪燒靶密封包裹,并在密封氬氣或流氧環境中燒結:
氬氣環境中:在0~650℃溫區,升溫速度0.5~20℃/s,在650~850℃溫區,升溫速度10~40℃/s,在燒結溫度830~850℃恒溫5~20min,在冷卻循環水作用下降至室溫,轉移至流氧環境中,以速度1~20℃/s升溫至400~710℃溫區恒溫20~60min,冷卻,即得;或
流氧環境中:在0~650℃溫區,升溫速度0.5~20℃/s,在650~930℃溫區,升溫速度10~40℃/s,在燒結溫度918~930℃恒溫2~5min,在冷卻循環水作用下降至室溫,即得;
其中,含鉈的非晶態先驅膜的Tl、Ba、Ca、Cu的金屬離子摩爾比為2.4~4.5:2:2:3.2~3.8;
含鉈的陪燒靶由金屬離子摩爾比為Tl:Ba:Ca:Cu=0.8~1.2:2:1~2:2~3的Ba、Ca、Cu的氧化物與Tl2O3燒結制得。
2.如權利要求1所述的Tl-2223超導薄膜的制備方法,其特征在于,含鉈的陪燒靶的制備方法為:將金屬離子摩爾比為Ba:Ca:Cu=2:1~2:2~3的Ba、Ca、Cu的氧化物為起始材料混合研磨,在流氧環境中890~940℃下恒溫4~8h,冷卻后粉碎再研磨,重復燒結一次,加入Tl2O3混合研磨壓片,使Tl與Ba的摩爾比為Tl:Ba=0.8~1.2:2,在流氧環境中860~890℃下恒溫1~3h,得到陪燒靶。
3.如權利要求2所述的Tl-2223超導薄膜的制備方法,其特征在于,將金屬離子摩爾比為Ba:Ca:Cu=2:2:3的BaO2、CaO和CuO為起始材料混合研磨燒結制成223粉,進行后續步驟。
4.如權利要求2所述的Tl-2223超導薄膜的制備方法,其特征在于,將金屬離子摩爾比為Ba:Ca:Cu=2:1:2的BaO2、CaO和CuO為起始材料混合研磨燒結制成212粉,進行后續步驟。
5.如權利要求1所述的Tl-2223超導薄膜的制備方法,其特征在于,含鉈的非晶態先驅膜的制備方法采用離子濺射沉積法、脈沖激光沉積法、金屬有機物沉積法或溶膠-凝膠法。
6.如權利要求5所述的Tl-2223超導薄膜的制備方法,其特征在于,含鉈的非晶態先驅膜的制備方法采用離子濺射沉積法:
S1、將金屬離子摩爾比為Ba:Ca:Cu=2.4~2.8:2:3.2~3.6的BaO2或BaO、CaO或CaCO3和CuO為起始材料混合研磨,在流氧環境中890~940℃下恒溫4~8h,加入Tl2O3混合研磨壓片,使Tl與Ca的摩爾比為Tl:Ca=3~4:2,在流氧環境中850~900℃下恒溫1~5h,冷卻后得到濺射靶;
S2、對濺射靶采用射頻磁控濺射,濺射氣體為高純Ar、或Ar/O2混合氣,濺射氣壓為2~8Pa,濺射功率為30~60W。
7.如權利要求1所述的Tl-2223超導薄膜的制備方法,其特征在于,襯底為鋁酸鑭、藍寶石、氧化鎂、釔穩定氧化鋯或有織構的金屬襯底材料合金。
8.如權利要求1所述的Tl-2223超導薄膜的制備方法,其特征在于,氬氣或流氧環境中燒結時,氬氣或氧氣壓力為1atm。
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