[發(fā)明專利]一種紫外輻照裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710816121.7
• 申請日: 2017-09-12
• 公開（公告）號(hào): CN107377533B
• 公開（公告）日: 2020-03-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 史婷
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): B08B7/00
• 分類號(hào): B08B7/00;B29C35/08
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

本發(fā)明提供一種紫外輻照裝置，所述紫外輻照裝置包括：腔室，用于容置基材；樣品臺(tái)，用于承載所述基材，位于所述腔室頂部或底部；紫外燈，用于發(fā)射紫外光，與所述樣品臺(tái)相對設(shè)置，位于所述腔室頂部或底部；以及鏡面反射結(jié)構(gòu)，設(shè)置在所述腔室內(nèi)，用于反射所述紫外燈發(fā)射的紫外光；其中，所述鏡面反射結(jié)構(gòu)包括有序排列的凸起或凹陷，用于將照射到所述鏡面反射結(jié)構(gòu)的所述紫外光朝各個(gè)方向反射；以解決紫外清洗或紫外輻射固化過程中紫外輻照不均勻的現(xiàn)象。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及紫外光技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種紫外輻照裝置。

背景技術(shù)

紫外光清洗技術(shù)是利用有機(jī)化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除黏附在材料表面上的有機(jī)物質(zhì)，經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達(dá)到原子清潔度。在LCD、OLED生產(chǎn)中，在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經(jīng)過光清洗，可以極大的提高基體表面潤濕性，增強(qiáng)基體表面的粘合力；大規(guī)模集成電路的密度越來越高，晶格的微細(xì)化越來越密，要求表面的潔凈度越來越高。在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，硅晶片涂保護(hù)膜、鋁蒸發(fā)膜前進(jìn)行光清洗，可以提高粘合力，防止針孔、裂縫的發(fā)生。光學(xué)玻璃經(jīng)過紫外光清洗后，鍍膜質(zhì)量更好。

此外，紫外光也用于輻射固化中。輻射固化是利用電磁輻射(如紫外線UV或電子束EB照射涂層)，產(chǎn)生輻射聚合、輻射交聯(lián)等反應(yīng)。迅速將低分子量物質(zhì)轉(zhuǎn)變成高分子量產(chǎn)物的化學(xué)過程，體系中不含溶劑或含極少量溶劑，輻照后液膜幾乎100％固化，因而VOC(揮發(fā)性有機(jī)化合物)排放量很低。

綜上所述，現(xiàn)有技術(shù)的紫外輻照裝置，存在著紫外輻照不均勻的現(xiàn)象，由于紫外光在腔室中分布的不均勻，從而影響紫外清洗性能與紫外輻射固化效果，在大尺寸生產(chǎn)過程中更為明顯。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種紫外輻照裝置，能夠增加紫外輻照的均勻性，可有效提高紫外清洗作用或紫外固化效果。

為解決上述問題，本發(fā)明提供的技術(shù)方案如下：

本發(fā)明提供一種紫外輻照裝置，包括：

腔室，用于容置基材；

樣品臺(tái)，用于承載所述基材，位于所述腔室頂部或底部；

紫外燈，用于發(fā)射紫外光，與所述樣品臺(tái)相對設(shè)置，位于所述腔室頂部或底部；以及

鏡面反射結(jié)構(gòu)，設(shè)置在所述腔室內(nèi)，用于反射所述紫外燈發(fā)射的紫外光；

其中，所述鏡面反射結(jié)構(gòu)包括有序排列的凸起或凹陷，用于將照射到所述鏡面反射結(jié)構(gòu)的所述紫外光朝各個(gè)方向反射。

根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例，所述鏡面反射結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述腔室的預(yù)定位置，所述腔室的預(yù)定位置至少包括所述腔室的四周、頂部、底部中的一者。

根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例，所述凸起或凹陷分布于整個(gè)所述鏡面反射結(jié)構(gòu)。

根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例，所述凸起或凹陷呈圓錐狀、棱錐狀、棱臺(tái)狀、尖凸?fàn)罨蛘邎A凸?fàn)畹取?/p>

根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例，所述凸起或凹陷的表面為鏡面。

根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例，所述紫外燈照射范圍大于所述樣品臺(tái)范圍。

根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例，所述腔室至少包括兩所述樣品臺(tái)，至少兩所述樣品臺(tái)位于所述腔室頂部或底部同側(cè)，用于承載至少一個(gè)所述基材。

根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例，所述紫外輻照裝置至少包括兩所述紫外燈，至少兩所述紫外燈中心對稱分布于所述腔室頂部或底部。

根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例，所述紫外燈為紫外燈板，所述紫外燈板覆蓋整個(gè)所述腔室頂部或底部。

根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例，所述樣品臺(tái)通過上升或下降用以取放所述基材。