[發明專利]一種紫外輻照裝置有效
| 申請號： | 201710816121.7 | 申請日： | 2017-09-12 |
| 公開（公告）號： | CN107377533B | 公開（公告）日： | 2020-03-17 |
| 發明（設計）人： | 史婷 | 申請（專利權）人： | 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號： | B08B7/00 | 分類號： | B08B7/00;B29C35/08 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黃威 |
| 地址： | 518132 廣東省深*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 紫外 輻照 裝置 | ||
1.一種紫外輻照裝置，其特征在于，包括：
腔室，用于容置基材；
樣品臺，用于承載所述基材，位于所述腔室頂部或底部；
紫外燈，用于發射紫外光，與所述樣品臺相對設置，位于所述腔室頂部或底部；以及
鏡面反射結構，設置在所述腔室內，用于反射所述紫外燈發射的紫外光，所述鏡面反射結構包括有序排列的凸起或凹陷，用于將照射到所述鏡面反射結構的所述紫外光朝各個方向反射；
其中，所述樣品臺上設置有夾持部，用于夾持所述基材的兩端，下夾持部沿所述樣品臺水平移動，上夾持部與所述下夾持部平行且相向運動使所述基材與所述樣品臺呈一定角度，通過所述上夾持部與所述下夾持部的往復運動使得所述紫外光均勻的照射至所述基材的正面與背面。
2.根據權利要求1所述的紫外輻照裝置，其特征在于，所述鏡面反射結構設置在所述腔室的預定位置，所述腔室的預定位置至少包括所述腔室的四周、頂部、底部中的一者。
3.根據權利要求1所述的紫外輻照裝置，其特征在于，所述凸起或凹陷分布于整個所述鏡面反射結構。
4.根據權利要求3所述的紫外輻照裝置，其特征在于，所述凸起或凹陷呈圓錐狀、棱錐狀、棱臺狀、尖凸狀或者圓凸狀等。
5.根據權利要求1所述的紫外輻照裝置，其特征在于，所述凸起或凹陷的表面為鏡面。
6.根據權利要求1所述的紫外輻照裝置，其特征在于，所述紫外燈照射范圍大于所述樣品臺范圍。
7.根據權利要求1所述的紫外輻照裝置，其特征在于，所述腔室至少包括兩所述樣品臺，至少兩所述樣品臺位于所述腔室頂部或底部同側，用于承載至少一個所述基材。
8.根據權利要求1所述的紫外輻照裝置，其特征在于，所述紫外輻照裝置至少包括兩所述紫外燈，至少兩所述紫外燈中心對稱分布于所述腔室頂部或底部。
9.根據權利要求1所述的紫外輻照裝置，其特征在于，所述紫外燈為紫外燈板，所述紫外燈板覆蓋整個所述腔室頂部或底部。
10.根據權利要求1所述的紫外輻照裝置，其特征在于，所述樣品臺通過上升或下降用以取放所述基材。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司，未經深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710816121.7/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種橡膠制品模具的復合清洗方法
- 下一篇：一種基于換能器的變頻振動除塵裝置
