[發明專利]液晶顯示面板及其制作方法

有效

• 申請號: 201710802022.3
• 申請日: 2017-09-07
• 公開（公告）號: CN107402471B
• 公開（公告）日: 2019-12-24
• 發明（設計）人: 曹武
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G02F1/1339;G02F1/1362
• 代理公司: 44265 深圳市德力知識產權代理事務所
• 代理人: 林才桂;聞盼盼

1.一種液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，包括：

提供第一基板(10)與第二基板(20)，在所述第一基板(10)上形成第一光阻薄膜(31)，在所述第一光阻薄膜(31)上形成第二光阻薄膜(32)；所述第一光阻薄膜(31)與第二光阻薄膜(32)的光敏特性不同，即所述第一光阻薄膜(31)與第二光阻薄膜(32)具有不同的光反應吸收波長，或者所述第一光阻薄膜(31)與第二光阻薄膜(32)對相同波長光的光反應靈敏度不同；

采用一道掩膜板(60)對所述第一光阻薄膜(31)與第二光阻薄膜(32)進行一次曝光顯影制程，形成具有不同圖形的第一光阻層(41)與第二光阻層(42)，從而在所述第一基板(10)上形成間隔設置的數個間隙子(40)，所述不同圖形是指在上底尺寸、下底尺寸及傾斜角中的至少一種參數上存在差異，所述間隙子(40)包括設于所述第一基板(10)上的第一光阻層(41)與設于所述第一光阻層(41)上的第二光阻層(42)，定義所述間隙子(40)的傾斜角θ為所述第一光阻層(41)的下底邊緣與所述第二光阻層(42)的上底邊緣之間的連線與第一基板(10)之間的夾角，所述間隙子(40)的結構為以下三種結構之一：

第一種結構為：所述第一光阻層(41)的上底寬度w1小于所述第二光阻層(42)的下底寬度w2，且所述第一光阻層(41)的傾斜角θ1等于所述第二光阻層(42)的傾斜角θ2，此時，所述間隙子(40)的傾斜角θ分別大于所述第一光阻層(41)的傾斜角θ1與所述第二光阻層(42)的傾斜角θ2；

第二種結構為：所述第一光阻層(41)的上底寬度w1小于所述第二光阻層(42)的下底寬度w2，且所述第一光阻層(41)的傾斜角θ1小于所述第二光阻層(42)的傾斜角θ2，此時，所述間隙子(40)的傾斜角θ分別大于所述第一光阻層(41)的傾斜角θ1與所述第二光阻層(42)的傾斜角θ2；

第三種結構為：所述第一光阻層(41)的上底寬度w1大于所述第二光阻層(42)的下底寬度w2，所述第一光阻層(41)的厚度T1小于所述第二光阻層(42)的厚度T2，且所述第一光阻層(41)的傾斜角θ1小于所述第二光阻層(42)的傾斜角θ2，此時，所述間隙子(40)的傾斜角θ大于所述第一光阻層(41)的傾斜角θ1且小于所述第二光阻層(42)的傾斜角θ2；

在所述第二光阻薄膜(32)上形成一層或多層第三光阻薄膜，該一層或多層第三光阻薄膜經過曝光顯影后形成一層或多層第三光阻層，所述間隙子由所述第一光阻層(41)、第二光阻層(42)及所述一層或多層第三光阻層構成，所述第一光阻層(41)、第二光阻層(42)及該一層或多層第三光阻層的光敏特性與圖形均不相同；

在所述第一基板(10)或第二基板(20)上滴注液晶材料，并將所述第一基板(10)與第二基板(20)對位組合，所述第一基板(10)與第二基板(20)之間的液晶材料形成液晶層(50)，所述數個間隙子(40)的頂端與所述第二基板(20)相接觸，制得液晶顯示面板。

2.如權利要求1所述的液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，所述間隙子(40)的傾斜角θ在20°-80°之間。

3.如權利要求1所述的液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，所述第一光阻薄膜(31)與第二光阻薄膜(32)具有不同的光反應吸收波長是指所述第一光阻薄膜(31)與第二光阻薄膜(32)含有吸收波長不同的光引發劑；所述第一基板(10)與第二基板(20)分別為彩膜基板與薄膜晶體管陣列基板，或者分別為薄膜晶體管陣列基板與彩膜基板。

4.如權利要求1所述的液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，所述第一基板(10)上的數個間隙子(40)的結構包括第一結構、第二結構與第三結構中的一種或多種。