[發明專利]還原氧化石墨烯、其制備方法及包含它的器件在審
| 申請號: | 201710795144.4 | 申請日: | 2017-09-06 |
| 公開(公告)號: | CN109455948A | 公開(公告)日: | 2019-03-12 |
| 發明(設計)人: | 曾煒;陶肖明 | 申請(專利權)人: | 香港理工大學 |
| 主分類號: | C03C17/36 | 分類號: | C03C17/36;D06M11/83;D06M11/74;C08J7/06;H01L35/34;H01L35/12;G01D5/26;C08L67/02;C08L83/04 |
| 代理公司: | 隆天知識產權代理有限公司 72003 | 代理人: | 馮志云;王芝艷 |
| 地址: | 中國香港九龍紅磡理*** | 國省代碼: | 中國香港;81 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 還原氧化石墨烯 制備 基體表面 熱電薄膜 石墨烯薄膜 氧化石墨烯 分散液中 高導電率 器件提供 分散液 石墨烯 浸沒 覆銅 銅膜 薄膜 取出 改進 | ||
1.一種還原氧化石墨烯的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1:提供一種基體;
S2:在所述基體表面形成2-30nm厚的銅膜;
S3:將濃H2SO4、NaNO3和石墨粉置于容器中,在冰浴條件下攪拌;然后將KMnO4加入混合物中攪拌;之后將去離子水滴加到混合物中并同時攪拌得到黃褐色分散體系;用去離子水將黃褐色分散體系稀釋,將H2O2滴入稀釋的泥漿中直到黃褐色分散體系變成金黃色;待降溫至室溫后用去離子水離心洗滌至PH值到5-6,得到氧化石墨烯分散液;以及
S4:將從S2步驟中得到的表面覆銅膜的基體浸沒于所述氧化石墨烯分散液中一定時間后取出,在所述基體表面形成所述還原氧化石墨烯。
2.一種還原氧化石墨烯,其特征在于,根據權利要求1所述的方法制備。
3.一種太陽能電池,其特征在于,包括權利要求2所述的還原氧化石墨烯。
4.一種超級電容器,其特征在于,包括權利要求2所述的還原氧化石墨烯。
5.一種發光二極管,其特征在于,包括權利要求2所述的還原氧化石墨烯。
6.一種觸摸屏,其特征在于,包括權利要求2所述的還原氧化石墨烯。
7.一種光電檢測器件,其特征在于,包括權利要求2所述的還原氧化石墨烯。
8.一種傳感器,其特征在于,包括權利要求2所述的還原氧化石墨烯。
9.一種熱電薄膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1:提供一種基體;
S2:在所述基體表面形成2-30nm厚的銅膜;
S3:將濃H2SO4、NaNO3和石墨粉置于容器中,在冰浴條件下攪拌;然后將KMnO4加入混合物中攪拌;之后將去離子水滴加到混合物中并同時攪拌得到黃褐色分散體系;用去離子水將黃褐色分散體系稀釋,將H2O2滴入稀釋的泥漿中直到黃褐色分散體系變成金黃色;待降溫至室溫后用去離子水離心洗滌至PH值到5-6,得到氧化石墨烯分散液;以及
S4:將從S2步驟中得到的表面覆銅膜的基體浸沒于所述氧化石墨烯分散液中一定時間后取出形成所述熱電薄膜。
10.根據權利要求9所述的熱電薄膜的制備方法,其特征在于,所述基體是由玻璃、織物或聚合物形成。
11.根據權利要求10所述的熱電薄膜的制備方法,其特征在于,所述基體由聚合物3D打印形成。
12.根據權利要求11所述的熱電薄膜的制備方法,其特征在于,所述基體的孔隙率是10%-50%。
13.一種熱電薄膜,其特征在于,通過權利要求9-12所述的方法制備。
14.一種熱電器件,其特征在于,包括權利要求13所述的熱電薄膜。
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