[發(fā)明專利]光掩模的制造方法、光掩模以及顯示裝置的制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710793919.4
• 申請(qǐng)日: 2017-09-06
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107817648B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-12-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 山口昇
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: HOYA株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): G03F1/00
• 分類(lèi)號(hào): G03F1/00;G03F1/32
• 代理公司: 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 黃綸偉;朱麗娟

提供光掩模的制造方法、光掩模以及顯示裝置的制造方法。能減少使用了光掩模的曝光工序中的雜散光的產(chǎn)生風(fēng)險(xiǎn)。一種光掩模的制造方法，該光掩模具有對(duì)透明基板上的遮光膜和半透光膜分別進(jìn)行圖案形成而形成的轉(zhuǎn)印用圖案，該轉(zhuǎn)印用圖案具有透光部、半透光部和遮光部，該制造方法具有：遮光膜圖案形成工序，對(duì)透明基板上形成的遮光膜進(jìn)行圖案形成來(lái)形成遮光膜圖案；半透光膜形成工序，在包含遮光膜圖案的透明基板上形成半透光膜；透光部形成工序，部分地去除半透光膜、或半透光膜和遮光膜，從而形成透光部；半透光膜去除工序，去除遮光膜圖案上的半透光膜，在去除工序，在成為半透光部的區(qū)域形成抗蝕劑圖案，該抗蝕劑圖案在半透光部和遮光部相鄰的部分，在遮光部側(cè)有附加了規(guī)定尺寸的余裕的尺寸。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及在以液晶面板或有機(jī)EL(電致發(fā)光)面板為代表的顯示裝置的制造中有用的光掩模及其制造方法、以及使用了該光掩模的顯示裝置的制造方法。

背景技術(shù)

已知有如下的光掩模：其具備對(duì)在透明基板上形成的遮光膜和半透光膜進(jìn)行圖案形成而形成的轉(zhuǎn)印用圖案。半透光膜是使在光掩模的曝光中使用的曝光光部分透過(guò)的膜。根據(jù)包含該半透光膜的轉(zhuǎn)印用圖案，能夠?qū)⒃趯?duì)被轉(zhuǎn)印體上的抗蝕劑膜進(jìn)行感光和顯影時(shí)形成的抗蝕劑圖案的膜厚或形狀控制成期望的狀態(tài)。具有這樣的轉(zhuǎn)印用圖案的光掩模除了用于半導(dǎo)體裝置以外，還有效用于上述顯示裝置的制造。

如上述那樣的光掩模包含下述專利文獻(xiàn)1、2記載的多色調(diào)光掩模。多色調(diào)光掩模為具有色調(diào)的光掩模，也稱作灰色調(diào)掩模。此外，作為具有半透光部的其他光掩模，具有如下的相移掩模：使用使曝光光的相位反轉(zhuǎn)的相移膜，利用透過(guò)了光掩模后的光的干擾作用，由此提高分辨率或焦深。

專利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)2005-257712號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)2：日本特開(kāi)2007-114759號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

(發(fā)明所要解決的問(wèn)題)

多色調(diào)光掩模的轉(zhuǎn)印用圖案具有遮光部、透光部和半透光部這樣的光透射率不同的3個(gè)以上的部分，由此想要在被轉(zhuǎn)印體上形成具有多個(gè)殘留膜厚的抗蝕劑圖案。在加工在被轉(zhuǎn)印體上形成的薄膜時(shí)，該抗蝕劑圖案被用作蝕刻掩模。在該情況下，在使用抗蝕劑圖案進(jìn)行第1蝕刻，接著對(duì)抗蝕劑圖案進(jìn)行減膜時(shí)，減膜后的抗蝕劑圖案成為與第1蝕刻時(shí)不同的形狀。因此，能夠使用與第1蝕刻不同的形狀的蝕刻掩模進(jìn)行第2蝕刻。這樣，多色調(diào)光掩模可以說(shuō)是具有相當(dāng)于多張光掩模的功能的光掩模，主要能夠減少顯示裝置的制造所需的光掩模的張數(shù)，有助于提高生產(chǎn)效率。

上述專利文獻(xiàn)1、2記載的多色調(diào)光掩模具有轉(zhuǎn)印用圖案，該轉(zhuǎn)印用圖案除了具有透明基板露出的透光部和使用了遮光膜的遮光部以外，還具有使用了使曝光光部分透過(guò)的半透光膜的半透光部。因此，例如考慮通過(guò)適當(dāng)控制半透光部的光透射率或針對(duì)透射光的相位特性等，能夠使在被轉(zhuǎn)印體上形成的抗蝕劑圖案的部分厚度或其截面形狀等發(fā)生變化。因此，在設(shè)計(jì)多色調(diào)光掩模時(shí)，設(shè)定針對(duì)曝光時(shí)使用的光(曝光光)的期望的透射率或相位特性，選擇適合該多色調(diào)光掩模的膜材料或膜厚，準(zhǔn)備好成膜條件，由此能夠形成具有期望的光特性的多色調(diào)光掩模。

但是，在專利文獻(xiàn)1中記載了通過(guò)以下的方法制造的多色調(diào)光掩模(灰色調(diào)掩模)(參照?qǐng)D7和圖8)。

首先，準(zhǔn)備圖7的(a)所示的光掩模坯體100。該光掩模坯體100在透明基板101上形成遮光膜102，在其上涂覆正性抗蝕劑而形成了抗蝕劑膜103。

接著，在使用激光描繪機(jī)等在抗蝕劑膜103上進(jìn)行描繪(第1描繪)后，進(jìn)行顯影。由此，在與半透光部對(duì)應(yīng)的區(qū)域(A區(qū)域)中，去除抗蝕劑膜103。此外，通過(guò)抗蝕劑膜103的殘留，在與遮光部對(duì)應(yīng)的區(qū)域(B區(qū)域)和與透光部對(duì)應(yīng)的區(qū)域(C區(qū)域)中形成抗蝕劑圖案103a(參照?qǐng)D7的(b))。