[發明專利]一種陣列基板色阻層的制備方法、陣列基板及顯示面板

有效

• 申請號: 201710784294.5
• 申請日: 2017-09-01
• 公開（公告）號: CN107589581B
• 公開（公告）日: 2020-07-03
• 發明（設計）人: 孟小龍
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G03F7/20;G02F1/1362
• 代理公司: 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) 44280
• 代理人: 鐘子敏

本發明公開了一種陣列基板色阻層的制備方法、陣列基板及顯示面板。該陣列基板包括依次設置的第一鈍化層、色阻層及第二鈍化層，色阻層形成有第二通孔，該方法包括：在第一鈍化層上涂布色阻材料；固化色阻材料，形成色阻薄膜；對色阻薄膜進行曝光顯影，形成設有第二通孔的色阻層；對曝光及顯影后的色阻層進行UV光照射，以使色阻層的第二通孔側壁部分與色阻層的其它部分的交聯程度相同。通過這種方式，能夠提高色阻層的穩定性。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，特別是涉及一種陣列基板色阻層的制備方法、陣列基板及顯示面板。

背景技術

COA(Color Filter on Array)基板所采用的技術是一種將彩色濾光片集成在陣列基板上的技術。相比傳統的彩色濾光片與薄膜晶體管基板對組技術，COA技術提供了一種降低顯示面板制備過程中對盒制程的難度的設計思路。

本發明的發明人在長期的研發中發現，在目前現有技術中，為實現將彩色濾光片集成在陣列基板上，一般是將色阻層制作于薄膜晶體管層上，該色阻層位于絕緣層之間，但由于對色阻層進行曝光顯影形成過孔時，對過孔側壁位置的曝光量較弱，該位置的色阻交聯不充分，化學性能不穩定，嚴重影響陣列基板的后續制程及陣列基板的質量。

發明內容

本發明主要解決的技術問題是提供一種陣列基板色阻層的制備方法、陣列基板及顯示面板，以提高色阻層的穩定性，提高陣列基板及顯示面板的質量。

為解決上述技術問題，本發明采用的一個技術方案是：提供一種陣列基板色阻層的制備方法。所述陣列基板包括依次設置的第一鈍化層、色阻層及第二鈍化層，其中，所述第一鈍化層、所述色阻層及所述第二鈍化層分別形成有第一通孔、第二通孔及第三通孔，所述制備方法包括：在所述第一鈍化層上涂布色阻材料；固化所述色阻材料，形成色阻薄膜；對所述色阻薄膜進行曝光及顯影，以形成設有所述第二通孔的色阻層，其中，所述色阻層的第二通孔側壁部分的曝光強度小于所述色阻層其它部分的曝光強度；對曝光及顯影后的所述色阻層進行UV光照射，以使所述色阻層的第二通孔側壁部分與所述色阻層的其它部分的交聯程度相同。

為解決上述技術問題，本發明采用的另一個技術方案是：提供一種陣列基板。所述陣列基板包括依次設置的薄膜晶體管層、第一鈍化層、所述色阻層、所述第二鈍化層及透明電極層，其中，所述第一鈍化層、色阻層及第二鈍化層分別形成有第一通孔、第二通孔及第三通孔，所述透明電極層依次通過所述第三通孔、所述第二通孔及所述第一通孔與所述薄膜晶體管層連接，其中，對曝光及顯影后的所述色阻層進行UV光照射，以使所述色阻層的第二通孔側壁部分與所述色阻層的其它部分的交聯程度相同。

為解決上述技術問題，本發明采用的又一個技術方案是：提供一種顯示面板。所述顯示面板包括上述陣列基板。

本發明實施例的有益效果是：區別于現有技術，本發明實施例陣列基板包括依次設置的第一鈍化層、色阻層及第二鈍化層，其中，第一鈍化層、色阻層及第二鈍化層分別形成有第一通孔、第二通孔及第三通孔，本發明實施例陣列基板色阻層的制備方法先在第一鈍化層上涂布色阻材料，并固化色阻材料，形成色阻薄膜；然后對色阻薄膜進行曝光及顯影，以形成設有第二通孔的色阻層，其中，色阻層的第二通孔側壁部分的曝光強度小于色阻層其它部分的曝光強度；最后對曝光及顯影后的色阻層進行UV光照射，以使色阻層的第二通孔側壁部分與色阻層的其它部分的交聯程度相同。在對色阻層進行曝光及顯影時，因光罩的透光部分與遮光部分交界處光散射或衍射等光學現象，導致色阻層的第二通孔側壁部分曝光量較弱，從而導致交聯不充分，本發明實施例通過對曝光顯影后的色阻層進行UV光照射，能夠使色阻層的第二通孔側壁部分交聯充分，從而能夠提高色阻層的穩定性，提高陣列基板及顯示面板的質量。

附圖說明

圖1是本發明陣列基板一實施例的結構示意圖；

圖2是本發明陣列基板中色阻層一結構示意圖；

圖3是本發明陣列基板色阻層的制備方法一實施例的流程示意圖；