[發明專利]一種陣列基板色阻層的制備方法、陣列基板及顯示面板

有效

• 申請號: 201710784294.5
• 申請日: 2017-09-01
• 公開（公告）號: CN107589581B
• 公開（公告）日: 2020-07-03
• 發明（設計）人: 孟小龍
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G03F7/20;G02F1/1362
• 代理公司: 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) 44280
• 代理人: 鐘子敏

1.一種陣列基板色阻層的制備方法，其特征在于，所述陣列基板包括依次設置的第一鈍化層、色阻層及第二鈍化層，其中，所述第一鈍化層、所述色阻層及所述第二鈍化層分別形成有第一通孔、第二通孔及第三通孔，所述制備方法包括：

在所述第一鈍化層上涂布色阻材料；

固化所述色阻材料，形成色阻薄膜；

對所述色阻薄膜進行曝光及顯影，以形成設有所述第二通孔的色阻層，其中，所述色阻層的第二通孔側壁部分的曝光強度小于所述色阻層其它部分的曝光強度；

對曝光及顯影后的所述色阻層進行UV光照射，以使所述色阻層的第二通孔側壁部分與所述色阻層的其它部分的交聯程度相同。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述UV光的波長范圍為172nm-650nm。

3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述第一通孔的尺寸及所述第三通孔的尺寸均大于所述第二通孔的尺寸。

4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述色阻材料至少包括紅色色阻材料、綠色色阻材料及藍色色阻材料。

5.一種陣列基板，其特征在于，包括依次設置的薄膜晶體管層、第一鈍化層、色阻層、第二鈍化層及透明電極層，其中，所述第一鈍化層、所述色阻層及所述第二鈍化層分別形成有第一通孔、第二通孔及第三通孔，所述透明電極層依次通過所述第三通孔、所述第二通孔及所述第一通孔與所述薄膜晶體管層連接，其中，對曝光及顯影后的所述色阻層進行UV光照射，以使所述色阻層的第二通孔側壁部分與所述色阻層的其它部分的交聯程度相同。

6.根據權利要求5所述的陣列基板，所述UV光的波長范圍為172nm-650nm。

7.根據權利要求5所述的陣列基板，其特征在于，所述第一通孔的尺寸及所述第三通孔的尺寸均大于所述第二通孔的尺寸。

8.根據權利要求5所述的陣列基板，其特征在于，所述薄膜晶體管層包括依次設置的下基板、柵極層、柵極絕緣層及源漏極層，所述透明電極層依次通過所述第三通孔、所述第二通孔及所述第一通孔與所述源漏極層的漏極連接。

9.根據權利要求5所述的陣列基板，其特征在于，所述色阻層的色阻材料至少包括紅色色阻材料、綠色色阻材料及藍色色阻材料。

10.一種顯示面板，所述顯示面板包括權利要求5至9任一項所述的陣列基板。