[發明專利]支撐裝置和半導體檢測裝置有效
| 申請號: | 201710775323.1 | 申請日: | 2017-08-31 |
| 公開(公告)號: | CN109427641B | 公開(公告)日: | 2021-01-01 |
| 發明(設計)人: | 施勝男;朱岳彬;徐兵;楊輔強;王保亮 | 申請(專利權)人: | 上海微電子裝備(集團)股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/683 | 分類號: | H01L21/683;H01L21/687;H01L21/66 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李時云 |
| 地址: | 201203 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 支撐 裝置 半導體 檢測 | ||
1.一種支撐裝置,用于承載板狀工件,其特征在于,包括:
安裝基座;
驅動組件,固定在所述安裝基座上;
支撐吸附單元,用于承載并吸附板狀工件,所述支撐吸附單元包括H型支撐框架和多個中空的支撐桿,所述H型支撐框架與多個所述支撐桿固定連接,所述H型支撐框架的內部開設有真空氣道,所述真空氣道與所有的所述支撐桿的內部連通,所述支撐桿用于支撐和吸附所述板狀工件,所述驅動組件用于驅動H型支撐框架升降,所述H型支撐框架帶動多個所述支撐桿升降。
2.如權利要求1所述的支撐裝置,其特征在于,所述支撐吸附單元還包括輔助支撐桿,所述輔助支撐桿與所述H型支撐框架固定連接,所述輔助支撐桿用于支撐所述板狀工件。
3.如權利要求2所述的支撐裝置,其特征在于,所述輔助支撐桿包括輔助支撐柱和輔助支撐頭,所述輔助支撐柱設置在所述H型支撐框架上,所述輔助支撐頭固定在所述輔助支撐柱上,所述輔助支撐頭用于支撐所述板狀工件。
4.如權利要求1所述的支撐裝置,其特征在于,多個所述支撐桿均勻分布。
5.如權利要求1所述的支撐裝置,其特征在于,所述支撐吸附單元還包括提升件,所述提升件安裝在驅動組件上,所述H型支撐框架安裝在所述提升件上。
6.如權利要求5所述的支撐裝置,其特征在于,所述支撐吸附單元還包括導軌組件,所述導軌組件安裝在安裝基座上,所述提升件沿所述導軌組件移動。
7.如權利要求1所述的支撐裝置,其特征在于,所述支撐吸附單元包括真空吸盤,所述真空吸盤固定在所述支撐桿的頂端,所述真空吸盤與所述支撐桿的內部連通,所述真空吸盤用于吸附所述板狀工件。
8.如權利要求1所述的支撐裝置,其特征在于,所述支撐裝置包括流量傳感器,所述流量傳感器用于檢測真空氣道中的流量是否在額定范圍內,以判斷所述板狀工件是否承載在所述支撐裝置上。
9.如權利要求1所述的支撐裝置,其特征在于,所述板狀工件為玻璃基板。
10.一種半導體檢測裝置,其特征在于,包括如權利要求1至9 任一項所述的支撐裝置。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





