[發(fā)明專利]一種含萘并茚芴單元的有機(jī)發(fā)光小分子材料及其制備方法與應(yīng)用在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710766030.7 | 申請(qǐng)日: | 2017-08-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107501101A | 公開(公告)日: | 2017-12-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 應(yīng)磊;胡黎文;郭婷;楊偉;彭俊彪;曹鏞 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 華南理工大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C07C211/54 | 分類號(hào): | C07C211/54;C07C13/62;C07C13/72;C07C13/66;C07D209/86;C09K11/06;H01L51/50;H01L51/54 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標(biāo)代理有限公司44102 | 代理人: | 何淑珍 |
| 地址: | 510640 廣*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 單元 有機(jī) 發(fā)光 分子 材料 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種含萘并茚芴單元的有機(jī)發(fā)光小分子材料,其特征在于,化學(xué)結(jié)構(gòu)式如下:
Ar1、Ar2、Ar3、Ar4、Ar5和Ar6均獨(dú)立選自于如下結(jié)構(gòu)式及其衍生物中的一種:
其中,X為O、S、Se、Te或N-R;Y為C、Si或Ge;
R為H、C1~C30的直鏈或者支鏈烷基、R1為H、C1~C30的直鏈或者支鏈烷基。
2.制備權(quán)利要求1所述的一種含萘并茚芴單元的有機(jī)發(fā)光小分子材料的方法,其特征在于,包括如下步驟:
(1)在低溫條件下,將烷基化的7,13-二氫苯并[g]茚[1,2-b]芴溶解在三氯甲烷中,惰性氣體環(huán)境中逐滴滴加液溴,攪拌進(jìn)行反應(yīng);反應(yīng)結(jié)束后,用二氯甲烷萃取,濃縮,干燥,柱層析提純,得到二溴-7,7,13,13-烷基-7,13-二氫苯并[g]茚[1,2-b]芴;
(2)惰性氣體環(huán)境下,將二溴-7,7,13,13-烷基-7,13-二氫苯并[g]茚[1,2-b]芴溶于甲苯中,加入Ar1~Ar6的芳基硼酸酯或Ar1~Ar6的芳基硼酸,再加入四丁基溴化銨、碳酸鉀以及四(三苯基膦)鈀,加熱進(jìn)行Suzuki偶聯(lián)反應(yīng);反應(yīng)結(jié)束后,冷卻到室溫,萃取,干燥,柱層析提純,得到所述含萘并茚芴單元的有機(jī)發(fā)光小分子材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)中,所述低溫的溫度為-20~25℃;所述烷基化的7,13-二氫苯并[g]茚[1,2-b]芴與液溴的摩爾比為1:2~6。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)中,所述惰性氣體包括氬氣;所述反應(yīng)的時(shí)間為2~24小時(shí)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)中,所述惰性氣體包括氬氣;所述二溴-7,7,13,13-烷基-7,13-二氫苯并[g]茚[1,2-b]芴、Ar1~Ar6的芳基硼酸酯或Ar1~Ar6的芳基硼酸、四丁基溴化銨、碳酸鉀以及四(三苯基膦)鈀的摩爾比為1:2~6:0.05~0.2:5~10:0.02-0.1。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)中,所述Suzuki偶聯(lián)反應(yīng)是在50~120℃反應(yīng)8~48小時(shí)。
7.權(quán)利要求1所述的一種含萘并茚芴單元的有機(jī)發(fā)光小分子材料在制備有機(jī)電致發(fā)光器件的發(fā)光層中的應(yīng)用,其特征在于,將含萘并茚芴單元的有機(jī)發(fā)光小分子材料通過真空蒸鍍方法或者溶液加工法制備成膜,得到有機(jī)電致發(fā)光器件的發(fā)光層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的應(yīng)用,其特征在于,所述有機(jī)電致發(fā)光器件的結(jié)構(gòu)為包括依次層疊的襯底、陽極層、空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層和陰極層,或?yàn)榘ㄒ来螌盈B的襯底、陰極層、電子注入層、電子傳輸層、發(fā)光層、空穴傳輸層、空穴注入層和陽極層。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的應(yīng)用,其特征在于,所述發(fā)光層的厚度為10~1000nm。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的應(yīng)用,其特征在于,所述溶液加工法包括旋涂、刷涂、噴涂、浸涂、輥涂、絲網(wǎng)印刷、印刷或噴墨打印方法。
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