[發明專利]一種含萘并茚芴單元的有機發光小分子材料及其制備方法與應用

在審

• 申請號: 201710766030.7
• 申請日: 2017-08-30
• 公開（公告）號: CN107501101A
• 公開（公告）日: 2017-12-22
• 發明（設計）人: 應磊;胡黎文;郭婷;楊偉;彭俊彪;曹鏞
• 申請（專利權）人: 華南理工大學
• 主分類號: C07C211/54
• 分類號: C07C211/54;C07C13/62;C07C13/72;C07C13/66;C07D209/86;C09K11/06;H01L51/50;H01L51/54
• 代理公司: 廣州粵高專利商標代理有限公司44102
• 代理人: 何淑珍

1.一種含萘并茚芴單元的有機發光小分子材料，其特征在于，化學結構式如下：

Ar₁、Ar₂、Ar₃、Ar₄、Ar₅和Ar₆均獨立選自于如下結構式及其衍生物中的一種：

其中，X為O、S、Se、Te或N-R；Y為C、Si或Ge；

R為H、C₁～C₃₀的直鏈或者支鏈烷基、R₁為H、C₁～C₃₀的直鏈或者支鏈烷基。

2.制備權利要求1所述的一種含萘并茚芴單元的有機發光小分子材料的方法，其特征在于，包括如下步驟：

(1)在低溫條件下，將烷基化的7,13-二氫苯并[g]茚[1,2-b]芴溶解在三氯甲烷中，惰性氣體環境中逐滴滴加液溴，攪拌進行反應；反應結束后，用二氯甲烷萃取，濃縮，干燥，柱層析提純，得到二溴-7,7,13,13-烷基-7,13-二氫苯并[g]茚[1,2-b]芴；

(2)惰性氣體環境下，將二溴-7,7,13,13-烷基-7,13-二氫苯并[g]茚[1,2-b]芴溶于甲苯中，加入Ar₁～Ar₆的芳基硼酸酯或Ar₁～Ar₆的芳基硼酸，再加入四丁基溴化銨、碳酸鉀以及四(三苯基膦)鈀，加熱進行Suzuki偶聯反應；反應結束后，冷卻到室溫，萃取，干燥，柱層析提純，得到所述含萘并茚芴單元的有機發光小分子材料。

3.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)中，所述低溫的溫度為-20～25℃；所述烷基化的7,13-二氫苯并[g]茚[1,2-b]芴與液溴的摩爾比為1:2～6。

4.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)中，所述惰性氣體包括氬氣；所述反應的時間為2～24小時。

5.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，步驟(2)中，所述惰性氣體包括氬氣；所述二溴-7,7,13,13-烷基-7,13-二氫苯并[g]茚[1,2-b]芴、Ar₁～Ar₆的芳基硼酸酯或Ar₁～Ar₆的芳基硼酸、四丁基溴化銨、碳酸鉀以及四(三苯基膦)鈀的摩爾比為1：2～6：0.05～0.2：5～10：0.02-0.1。

6.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，步驟(2)中，所述Suzuki偶聯反應是在50～120℃反應8～48小時。

7.權利要求1所述的一種含萘并茚芴單元的有機發光小分子材料在制備有機電致發光器件的發光層中的應用，其特征在于，將含萘并茚芴單元的有機發光小分子材料通過真空蒸鍍方法或者溶液加工法制備成膜，得到有機電致發光器件的發光層。

8.根據權利要求7所述的應用，其特征在于，所述有機電致發光器件的結構為包括依次層疊的襯底、陽極層、空穴注入層、空穴傳輸層、發光層、電子傳輸層、電子注入層和陰極層，或為包括依次層疊的襯底、陰極層、電子注入層、電子傳輸層、發光層、空穴傳輸層、空穴注入層和陽極層。

9.根據權利要求7所述的應用，其特征在于，所述發光層的厚度為10～1000nm。

10.根據權利要求7所述的應用，其特征在于，所述溶液加工法包括旋涂、刷涂、噴涂、浸涂、輥涂、絲網印刷、印刷或噴墨打印方法。