[發(fā)明專利]一種顯示面板、其制作方法及顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710765411.3 | 申請日: | 2017-08-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107393870B | 公開(公告)日: | 2020-03-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐德智;宮奎 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;合肥京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/77 | 分類號(hào): | H01L21/77;H01L27/12 |
| 代理公司: | 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭潤湘 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 顯示 面板 制作方法 顯示裝置 | ||
1.一種顯示面板的制作方法,其特征在于,包括:
在襯底基板上形成第一金屬層的圖形,以及位于所述第一金屬層背離所述襯底基板一側(cè)的金屬氧化物導(dǎo)電層的圖形,且所述金屬氧化物導(dǎo)電層通過至少一個(gè)通孔與所述第一金屬層電性連接;其中,
在形成所述金屬氧化物導(dǎo)電層的圖形之前,在所述第一金屬層遠(yuǎn)離所述襯底基板一側(cè)的表面形成一層還原金屬層;所述還原金屬層為由金屬氫化物材料構(gòu)成的膜層;
在形成所述金屬氧化物導(dǎo)電層的圖形之后,對所述還原金屬層和所述金屬氧化物導(dǎo)電層進(jìn)行處理,以使所述還原金屬層還原為第二金屬層,以及所述金屬氧化物導(dǎo)電層靠近所述襯底基板一側(cè)的表面還原出金屬顆粒。
2.如權(quán)利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述在所述第一金屬層遠(yuǎn)離所述襯底基板一側(cè)的表面形成一層還原金屬層,包括:
將還原劑與所述還原金屬層對應(yīng)的化合物水溶液在設(shè)定條件下反應(yīng),將得到的溶液涂覆到所述第一金屬層遠(yuǎn)離所述襯底基板一側(cè)的表面,以形成所述還原金屬層。
3.如權(quán)利要求2所述的制作方法,其特征在于,所述將還原劑與所述還原金屬層對應(yīng)的化合物水溶液在設(shè)定條件下反應(yīng),包括:
將還原劑與所述金屬氫化物對應(yīng)的化合物水溶液混合,在酸性環(huán)境以及溫度為40℃~50℃的條件下反應(yīng)。
4.如權(quán)利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述第一金屬層與所述第二金屬層采用的金屬材料相同;
所述在所述第一金屬層遠(yuǎn)離所述襯底基板一側(cè)的表面形成一層還原金屬層,包括:
采用還原性氣體,對所述第一金屬層遠(yuǎn)離所述襯底基板一側(cè)的表面進(jìn)行等離子體處理。
5.如權(quán)利要求4所述的制作方法,其特征在于,所述采用還原性氣體,對所述第一金屬層遠(yuǎn)離所述襯底基板一側(cè)的表面進(jìn)行等離子體處理,包括:
采用H2,NH3,N2H4,H2S,CH4,C2H6或HCN中的一種或多種氣體,對所述第一金屬層遠(yuǎn)離所述襯底基板一側(cè)的表面進(jìn)行等離子體處理。
6.如權(quán)利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述對所述還原金屬層和所述金屬氧化物導(dǎo)電層進(jìn)行處理,以使所述還原金屬層氧化為第二金屬層,以及所述金屬氧化物導(dǎo)電層靠近所述襯底基板一側(cè)的表面還原出金屬顆粒,包括:
將形成所述金屬氧化物導(dǎo)電層的圖形之后的襯底基板加熱至60℃~100℃。
7.如權(quán)利要求1~6任一項(xiàng)所述的制作方法,其特征在于,所述在襯底基板上形成一層第一金屬層之前,還包括:
在所述襯底基板上形成阻擋金屬層。
8.如權(quán)利要求1~6任一項(xiàng)所述的制作方法,其特征在于,所述在形成所述金屬氧化物導(dǎo)電層的圖形之前,在所述第一金屬層遠(yuǎn)離所述襯底基板一側(cè)的表面形成一層還原金屬層,包括:
在形成所述第一金屬層之后,以及形成所述第一金屬層的圖形之前,在所述第一金屬層遠(yuǎn)離所述襯底基板一側(cè)的表面形成一層還原金屬層;或,
在形成所述第一金屬層的圖形之后,以及形成用于導(dǎo)通所述第一金屬層與所述金屬氧化物導(dǎo)電層的通孔之前,在所述第一金屬層遠(yuǎn)離所述襯底基板一側(cè)的表面形成一層還原金屬層;或,
在形成導(dǎo)通所述第一金屬層與所述金屬氧化物導(dǎo)電層的通孔之后,以及形成金屬氧化物導(dǎo)電層的圖形之前,在所述第一金屬層遠(yuǎn)離所述襯底基板一側(cè)的表面形成一層還原金屬層。
9.一種顯示面板,其特征在于,所述顯示面板由權(quán)利要求1~8任一項(xiàng)所述的顯示面板的制作方法制作而成。
10.一種顯示裝置,其特征在于,包括:權(quán)利要求9所述的顯示面板。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





