[發明專利]水環境中痕量銅離子的測定方法

在審

• 申請號: 201710765214.1
• 申請日: 2017-08-30
• 公開（公告）號: CN107607503A
• 公開（公告）日: 2018-01-19
• 發明（設計）人: 王延敏
• 申請（專利權）人: 王延敏
• 主分類號: G01N21/64
• 分類號: G01N21/64
• 代理公司: 新鄉市平原智匯知識產權代理事務所(普通合伙)41139
• 代理人: 路寬

1.水環境中痕量銅離子的測定方法，其特征在于具體步驟為：

（1）標準曲線的繪制，取300μL合成的水溶性金納米簇于5mL比色管中，加入已知濃度梯度的銅離子溶液，再加入200μL pH=7的磷酸鹽緩沖溶液，用超純水定容至4mL，于30℃放置40min，用1cm*1cm的石英樣品池在入射和出射狹縫寬度均為10nm，電壓為850V的條件下測量熒光強度，在銅離子濃度范圍為0.01-40μmol/L時，F₀/F與銅離子呈良好的線性關系，回歸方程為：F₀/F=0.06968C+1.05944，相關系數R²=0.99425，檢出限為0.009μmol/L，銅離子濃度為20μmol/L平行測定12次，相對標準偏差為1.20%；

（2）待測水樣中痕量銅離子的測定，取300μL合成的水溶性金納米簇于5mL比色管中，加入已知體積的待測水樣，再加入200μL pH=7的磷酸鹽緩沖溶液，用超純水定容至4mL，于30℃放置40min，用1cm*1cm的石英樣品池在入射和出射狹縫寬度均為10nm，電壓為850V的條件下測量熒光強度，然后根據回歸方程F₀/F=0.06968C+1.05944得到待測水樣中銅離子的濃度，并根據待測水樣的體積計算得到待測水樣中銅離子的含量；

所述水溶性金納米簇的具體合成過程為：在5mL摩爾濃度為50mmol/L的頭孢噻肟鈉溶液中加入2.5mL摩爾濃度為2mol/L的氫氧化鈉溶液，再加入20mL去離子水，于100℃反應1h后用冷水冷卻至室溫，再加入鹽酸溶液調節至中性得到頭孢噻肟鈉降解物溶液備用；將1g HAuCl₄^.4H₂O溶于去離子水中并定容至500mL得到金溶液備用；將14mL金溶液置于反應容器中并油浴加熱至沸騰，沸騰10min后加入7mL頭孢噻肟鈉降解物溶液，繼續沸騰4h，待溶液由棕色到粉紫色再到淺黃色時停止加熱，自然冷卻至室溫，然后用0.45μm的親水PTFE針式過濾器過濾得到淺黃色透明溶液即水溶性金納米簇。