[發明專利]鍍覆裝置

有效

• 申請號: 201710763259.5
• 申請日: 2017-08-30
• 公開（公告）號: CN107868975B
• 公開（公告）日: 2021-04-06
• 發明（設計）人: 谷澤昭尋;小林賢一;宮澤康之;相馬剛
• 申請（專利權）人: 株式會社荏原制作所
• 主分類號: C25D17/00
• 分類號: C25D17/00;C25D17/06;C25D7/12
• 代理公司: 上海華誠知識產權代理有限公司 31300
• 代理人: 肖華

提供一種鍍覆裝置，能夠一邊繼續運轉，一邊進行基板保持架的維護。鍍覆裝置包括：處理部(170C)，對基板W進行鍍覆；保管容器(20)，對用于保持基板W的基板保持架(11)進行保管；搬運機(140)，在處理部(170C)與保管容器(20)之間搬運基板保持架(11)；維護區域(21)，與保管容器(20)鄰接；以及基板保持架載體(25)，支承于保管容器(20)。基板保持架載體(25)構成為：能夠以支承有基板保持架(11)的狀態而在保管容器(20)與維護區域(21)之間移動。

技術領域

本發明涉及一種鍍覆裝置。

背景技術

已知有對保持于基板保持架的基板進行鍍覆的鍍覆裝置。在這種鍍覆裝置中，基板保持架在鍍覆裝置運轉前被收容于保管容器中，在鍍覆裝置運轉開始后被從保管容器取出。晶片等基板被設置于基板保持架，基板保持架在保持了基板的狀態下被搬運機搬運到處理部。然后，基板在處理部被鍍覆。

在基板被設置到基板保持架時，檢查基板是否正常地被設置于基板保持架。在基板未被正常地設置于基板保持架的情況下，不將基板保持架搬運到處理部而使基板保持架返回到保管容器，然后作業者對基板保持架進行維護。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2012-112026號公報

專利文獻2：日本特開2003-243473號公報

專利文獻3：日本特開2008-68964號公報

專利文獻4：日本特開2009-6802號公報

專利文獻5：美國專利申請公開第2012/0308344號說明書

發明所要解決的技術問題

近來，在包含鍍覆裝置的基板處理裝置中，基板大型化的傾向變得越來越明顯。若基板大型化，則每個基板保持架的大小增加，重量也變重。并且，在以往技術中，雖然將基板保持架運至位于裝置外部的維護區域來進行基板保持架的維護，但將如上所述的重量增加后的基板保持架運至位于裝置外部的維護區域的話，會增加作業者的負荷(時間負荷和作業負荷)。

另一方面，在裝置運轉中，搬運基板保持架的搬運機連續地通過保管容器的正上方。在這種狀況下，若作業者為了維護基板保持架而要將基板保持架從保管容器取出時，作業者有可能與移動的基板保持架或搬運機發生碰撞。因此，在基板保持架的維護作業時，不得不停止裝置的運轉。然而，若為了維護基板保持架而停止鍍覆裝置的運轉，則裝置運轉率降低，生產率下降。

發明內容

本發明鑒于上述以往的問題而作出，其目的在于提供一種能夠一邊繼續運轉，一邊進行基板保持架的維護的鍍覆裝置。

用于解決技術問題的手段

為了達成上述目的，本發明的一實施方式的特征在于，包括：處理部，對基板進行鍍覆；保管容器，對用于保持所述基板的基板保持架進行保管；搬運機，在所述處理部與所述保管容器之間搬運所述基板保持架；維護區域，與所述保管容器鄰接；基板保持架載體，支承于所述保管容器，所述基板保持架載體構成為：能夠以支承有所述基板保持架的狀態而在所述保管容器與維護區域之間移動。

本發明的優選的實施方式的特征在于，還包括隔壁，所述隔壁配置于所述維護區域與所述保管容器之間，所述隔壁位于比保管容器高的位置。

本發明的優選的實施方式的特征在于，所述基板保持架載體包括：臺座，供所述基板保持架載置；以及轉動體，安裝于所述臺座，所述轉動體與所述保管容器接觸。