[發明專利]曝光機

有效

• 申請號: 201710758280.6
• 申請日: 2017-08-29
• 公開（公告）號: CN107367909B
• 公開（公告）日: 2019-01-15
• 發明（設計）人: 許俊安;林明文;王維;江敏成;熊定;楊進森
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 深圳市德力知識產權代理事務所 44265
• 代理人: 林才桂

本發明提供一種曝光機，曝光腔室外設有包圍光源燈室和照明系鏡組的透明防護罩，為所述光源燈室和照明系鏡組提供了一隔離外部環境即潔凈室內空氣的空間，且所述透明防護罩與第一氣體輸送管道連接并相通，所述第一氣體輸送管道向所述透明防護罩內輸送氣體從而對所述光源燈室和照明系鏡組進行冷卻處理，能夠避免現有技術直接抽取潔凈室內空氣對光源燈室和照明系鏡組進行冷卻而造成曝光腔室外鏡片霧化的問題，使所述光源燈室和照明系鏡組的鏡片可以得到保護，進而可節省售價非常昂貴的高壓汞燈或鏡片，有效降低了生產成本。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種曝光機。

背景技術

在顯示技術領域，液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)與有機發光二極管顯示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板顯示器已經逐步取代CRT顯示器，廣泛的應用于液晶電視、手機、個人數字助理、數字相機、計算機屏幕或筆記本電腦屏幕等。

在LCD和OLED的制造過程中，會多次利用構圖工藝。具體為，在涂有光刻膠的基板上方放置掩模，然后利用曝光機對基板進行曝光，具體的，曝光機通過開啟超高壓汞燈發出UV紫外光線，將掩模上的圖像信息轉移到涂有光刻膠的基板表面上，基于掩模的圖案，光刻膠會有被曝光的部分和未被曝光的部分。再利用顯影液對光刻膠進行顯影，即可去除光刻膠被曝光的部分，保留光刻膠未被曝光的部分(正性光刻膠)，或者去除光刻膠未被曝光的部分，保留光刻膠被曝光的部分(負性光刻膠)，從而使光刻膠形成所需的圖形。

構圖工藝通常在無塵的潔凈室內進行，即曝光機放置于潔凈室中對基板進行曝光。所述曝光機的構架通常主要包括光源燈室(Lamp House)、設于光源燈室上與光源燈室相連接的照明系鏡組、設于光源燈室及照明系鏡組下方具有構圖圖案的掩模、設于掩模下方的投影光學鏡組、及設于投影光學鏡組下方用于承載基板的工作臺，另外為了保證曝光環境便于調節，曝光機還通常會采用密封的曝光腔體設計，其中，掩模、投影光學鏡組、及工作臺設置于曝光腔體內，該曝光腔體內通過整體送風方式來控制曝光環境的溫度、濕度、以及潔凈度等，而高壓汞燈作為光源在工作時的溫度高達400℃，為避免對曝光環境產生影響，包含高壓汞燈的光源燈室、及設于光源燈室上的照明系鏡組便設置于曝光腔體之外，那么為了保證局部工作環境溫度的可控性，防止局部工作環境溫度過高，曝光腔體外的所述光源燈室、及照明系鏡組也會配有獨立的冷卻降溫裝置，通常是在光源燈室的基座上設置抽氣裝置，其通過抽取潔凈室內的空氣對所述光源燈室進行吹風而降溫。

然而在曝光過程中，由于基板上的光刻膠會產生揮發性氣體，因此潔凈室內的有機物、酸、堿等揮發性氣體的濃度會隨著制程的進行而上升，而所述光源燈室、及照明系鏡組又是通過抽取潔凈室內的空氣而進行冷卻的，當這些有機物、酸、堿的揮發性氣體遇見光源燈室的用于保護高壓汞燈并進行聚光的燈罩、及燈罩上照明系鏡組的這些鏡片時，便會產生鹽類而附著于鏡片上，從而造成燈罩、及照明系鏡片出現霧化現象。

進一步地，當曝光機的燈罩及照明系鏡組的鏡片出現霧化現象時，鏡片的透光率會下降，曝光機的照度也會下降，當曝光機照度下降就會影響產能，如果要維持相同照度而不影響產能，便需要提高高壓汞燈的出力值，這就會造成高壓汞燈壽命縮短，由于高壓汞燈單價很高，這就會進一步造成生產成本提高，或者是更換受霧化的鏡片，這同樣也會增加生產成本，而如果要保持整個潔凈室的空氣乾凈，則所需的生產成本更是巨大。目前一些廠家所用的方案是從工廠外接經過化學濾網過濾后的氣體，直接供給曝光機腔體使用，但此方案并無法保護曝光腔體外的燈罩、及照明系鏡片。

發明內容

本發明的目的在于提供一種曝光機，曝光腔室外設有包圍光源燈室和照明系鏡組的透明防護罩，能夠改善光源燈室和照明系鏡組的鏡片霧化問題，進而可節省售價非常昂貴的高壓汞燈或鏡片，降低生產成本。

為實現上述目的，本發明提供一種曝光機，包括曝光腔室、以及設置于所述曝光腔室外的光源燈室、照明系鏡組、及透明防護罩；