[發明專利]曝光機

有效

• 申請號: 201710758280.6
• 申請日: 2017-08-29
• 公開（公告）號: CN107367909B
• 公開（公告）日: 2019-01-15
• 發明（設計）人: 許俊安;林明文;王維;江敏成;熊定;楊進森
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 深圳市德力知識產權代理事務所 44265
• 代理人: 林才桂

1.一種曝光機，其特征在于，包括曝光腔室(190)、以及設置于所述曝光腔室(190)外的光源燈室(110)、照明系鏡組(120)、及透明防護罩(180)；

所述透明防護罩(180)包圍所述光源燈室(110)和照明系鏡組(120)，為所述光源燈室(110)和照明系鏡組(120)提供一隔離外部環境的空間；

所述透明防護罩(180)與第一氣體輸送管道(170)連接并相通，所述第一氣體輸送管道(170)向所述透明防護罩(180)內輸送氣體從而對所述光源燈室(110)和照明系鏡組(120)進行冷卻處理；

所述透明防護罩(180)的材料為防靜電材料且不含有硅元素。

2.如權利要求1所述的曝光機，其特征在于，所述透明防護罩(180)的材料為聚氯乙烯。

3.如權利要求1所述的曝光機，其特征在于，所述透明防護罩(180)的形狀為長方體形。

4.如權利要求1所述的曝光機，其特征在于，所述第一氣體輸送管道(170)向所述透明防護罩(180)內輸送的氣體為經過過濾處理后的氣體。

5.如權利要求1所述的曝光機，其特征在于，所述光源燈室(110)上設有第一抽氣裝置(111)，所述第一抽氣裝置(111)抽取所述第一氣體輸送管道(170)向所述透明防護罩(180)內輸送的氣體對所述光源燈室(110)和照明系鏡組(120)進行冷卻處理。

6.如權利要求1所述的曝光機，其特征在于，所述光源燈室(110)包括高壓汞燈(112)、及罩設于所述高壓汞燈(112)上的透明燈罩(113)；

所述照明系鏡組(120)設置于所述曝光腔室(190)和光源燈室(110)之間并與所述光源燈室(110)相連接；

其中，所述光源燈室(110)和照明系鏡組(120)共同用于提供一光束。

7.如權利要求1所述的曝光機，其特征在于，為投影式曝光機，所述曝光腔室(190)內設有掩模(130)、設于所述掩模(130)下方的投影光學鏡組(140)、及設于所述投影光學鏡組(140)下方的用于承載基板的工作臺(150)；

其中，所述掩模(130)具有圖案信息，所述投影光學鏡組(140)用于產生包含該圖案信息的出射光對其下方的承載于工作臺(150)上的基板進行曝光。

8.如權利要求1所述的曝光機，其特征在于，所述曝光腔室(190)與第二氣體輸送管道(160)連接并相通，所述第二氣體輸送管道(160)向所述曝光腔室(190)內輸送氣體從而對所述曝光腔室(190)內進行冷卻處理。

9.如權利要求8所述的曝光機，其特征在于，所述曝光腔室(190)內設有第二抽氣裝置，所述第二抽氣裝置抽取第二氣體輸送管道(160)向所述曝光腔室(190)內輸送的氣體對所述曝光腔室(190)內進行冷卻處理。