[發明專利]一種基于超像素分割的圖像處理方法及系統

有效

• 申請號: 201710756910.6
• 申請日: 2017-08-29
• 公開（公告）號: CN107665493B
• 公開（公告）日: 2020-07-14
• 發明（設計）人: 詹肇楷
• 申請（專利權）人: 成都西緯科技有限公司
• 主分類號: G06T7/11
• 分類號: G06T7/11;G06T11/40
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 安衛靜

本發明公開了一種基于超像素分割的圖像處理方法及系統，該方法通過對提供的引導圖進行超像素分割，形成第一超像素圖像掩膜，然后將超像素圖像掩膜合成到一待填充圖像，在待填充圖像上產生由超像素形成的第一分割，根據第一分割，以單個超像素為單位，對所述待填充圖像的中的空洞區域進行填充。超像素能夠很好的附著于圖像的邊界，保證同一個像素中的像素值基本一致，使得填充出來的值也具有一致性，讓最后的處理圖像達到較好的處理效果。

技術領域

本發明涉及數字圖像處理領域，尤其涉及一種基于超像素分割的圖像處理方法及系統。

背景技術

隨著照相技術的越來越發達，對圖像的處理技術也要求越來越高；圖像處理技術是運用計算機對圖像進行分析，以達到所需結果的一種技術；而區域填充方法則是圖像處理技術中一種常用的技術，該技術常被用于圖像空洞區域填充。

區域填充方法在對圖像空洞區域填充的過程中，常常會面臨空洞區域填充不準的情況；傳統的區域填充的方法為：對空洞區域中每一個像素所在的行上進行往左往右的搜索；獲取空洞區域的左右邊界像素；找到兩個邊界像素后根據邊界的兩個像素估計空洞區域的值，通常是取兩個像素值的平均值。但是這種做法往往會使邊界區域填充不準確，使得最后得到的圖像達不到想要的效果。所以，為了達到更好的圖像處理效果，就需要一種更合適處理空洞區域的方法。

發明內容

本發明的目的在于克服現有技術的不足，提供一種基于超像素分割的圖像處理方法及系統，解決了空洞邊界區域填充不準確的問題。

本發明的目的是通過以下技術方案來實現的：一種基于超像素分割的圖像處理方法，該方法的步驟如下：

提供一待填充圖像以及所述待填充圖像的引導圖，其中，所述待填充圖像根據所述引導圖生成，所述待填充圖像中存在空洞區域；

對所述引導圖進行超像素分割，形成第一超像素圖像掩膜；

將所述第一超像素圖像掩膜合成到所述待填充圖像，在所述待填充圖像上產生由超像素形成的第一分割；

根據所述第一分割，以單個超像素為單位，對所述待填充圖像的中的空洞區域進行填充。

所述的超像素個數的計算公式如下：

M=（W×H）/S；

其中W表示待處理圖像的寬度，H表示待處理圖像的高度。

所述的超像素分割方法包括線性迭代聚類方法和基于能量驅動采樣超像素提取方法。

所述空洞區域的填充方法的步驟如下：

判斷當前超像素中是否包含有空洞區域；

如果包含有空洞區域，則對當前超像素中非空洞區域像素的進行統計，決定填充像素值，將所述填充像素值賦給位于當前超像素空洞區域內的所有像素；

如果不包含有空洞區域就轉到下一個超像素再次判斷是否有空洞區域；

當所有空洞區域均消除后，完成填充。

所述的空洞區域為圖像進行超像素分割后邊界像素不一致的區域。

所述的像素不一致包括顏色不一致、亮度不一致和紋理結構不一致。

在一個實施例中所述方法還包括：

對所述引導圖進行超像素分割，形成第二超像素圖像掩膜，其中，所述第二超像素圖像掩膜的超像素設置大小小于所述第一超像素圖像掩膜；

將所述第二超像素圖像掩膜合成到所述待填充圖像，在所述待填充圖像上產生由超像素形成的第二分割；