[發明專利]一種基于超像素分割的圖像處理方法及系統

有效

• 申請號: 201710756910.6
• 申請日: 2017-08-29
• 公開（公告）號: CN107665493B
• 公開（公告）日: 2020-07-14
• 發明（設計）人: 詹肇楷
• 申請（專利權）人: 成都西緯科技有限公司
• 主分類號: G06T7/11
• 分類號: G06T7/11;G06T11/40
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 安衛靜

1.一種圖像處理方法，其特征在于：該方法的步驟如下：

提供一待填充圖像以及所述待填充圖像的引導圖，其中，所述待填充圖像根據所述引導圖生成，所述待填充圖像中存在空洞區域；

對所述引導圖進行超像素分割，形成第一超像素圖像掩膜；

將所述第一超像素圖像掩膜合成到所述待填充圖像，在所述待填充圖像上產生由超像素形成的第一分割；

根據所述第一分割，以單個超像素為單位，對所述待填充圖像的中的空洞區域進行填充；

對所述引導圖進行超像素分割，形成第二超像素圖像掩膜，其中，所述第二超像素圖像掩膜的超像素設置大小小于所述第一超像素圖像掩膜；

將所述第二超像素圖像掩膜合成到所述待填充圖像，在所述待填充圖像上產生由超像素形成的第二分割；

根據所述第一分割和所述第二分割，確定填充所述空洞區域所采用的超像素集，以所述超像素集中的單個超像素為單位，對所述待填充圖像的中的空洞區域進行填充；其中：

根據所述第一分割和所述第二分割，確定填充所述空洞區域所采用的超像素集，包括：

在所述第一分割中，尋找出所有含有空洞區域的超像素，作為第一超像素集；

在所述第二分割中，尋找出所有含有空洞區域的超像素，作為第二超像素集；

根據所述第一超像素集和第二超像素集確定填充所述空洞區域所采用的超像素集。

2.根據權利要求1所述的圖像處理方法，其特征在于：對所述引導圖進行超像素分割的具體步驟如下：

設置圖像的超像素大小為S個像素，根據超像素大小計算和引導圖的大小，計算出超像素的個數M；

通過超像素分割方法對輸入圖像進行超像素分割。

3.根據權利要求2所述的圖像處理方法，其特征在于：所述的超像素個數的計算公式如下：

M=（W×H）/S；

其中W表示所述引導圖的像素寬度，H表示所述引導圖的像素高度，M保留整數值。

4.根據權利要求1所述的圖像處理方法，其特征在于：對所述空洞區域進行填充方法的步驟如下：

判斷當前超像素中是否包含有空洞區域；

如果包含有空洞區域，則對當前超像素中非空洞區域像素的進行統計，決定填充像素值，將所述填充像素值賦給位于當前超像素空洞區域內的所有像素；

如果不包含有空洞區域就轉到下一個超像素再次判斷是否有空洞區域；

當所有空洞區域均消除后，完成填充。

5.根據權利要求4所述的圖像處理方法，其特征在于，所述填充像素值為當前超像素中非空洞區域像素內出現頻率最多的像素值。

6.根據權利要求4所述的圖像處理方法，其特征在于，所述填充像素值為當前超像素中非空洞區域內像素統計的中位像素值。

7.根據權利要求1所述的圖像處理方法，其特征在于：根據所述第一超像素集和第二超像素集確定填充所述空洞區域所采用的超像素集包括：

在所述第一超像素集中，統計每個超像素的非空洞區域中，出現最多的像素值的出現頻數，形成第一頻率集；

在所述第二超像素集中，統計每個超像素的非空洞區域中，出現最多的像素值的出現頻數，形成第二頻率集；

如果所述第一頻率集中有任意頻數低于第一閾值的，則將所述第二超像素集作為填充空洞區域所采用的超像素集；

如果所述第二頻率集中有任意頻數低于所述第一閾值的，則將所述第一超像素集作為填充所述空洞區域所采用的超像素集；

如果所述第一頻率集和所述第二頻率集的所有頻率均大于所述第一閾值，或所述第一頻率集和所述第二頻率集中均有頻數小于所述第一閾值，分別統計所述第一頻率集與所述第二頻率集中的頻數之和，選擇頻數之和較大的頻率集所對應的超像素集，作為填充所述空洞區域所采用的超像素集。