[發明專利]一種新型激光振鏡鏡片、激光振鏡以及鍍膜方法在審
| 申請號： | 201710754414.7 | 申請日： | 2017-08-29 |
| 公開（公告）號： | CN107329196A | 公開（公告）日： | 2017-11-07 |
| 發明（設計）人： | 鄭璇;李婷 | 申請（專利權）人： | 鎮江金海創科技有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/08 | 分類號： | G02B5/08;G02B26/08 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙)11371 | 代理人： | 史明罡 |
| 地址： | 212000 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 新型 激光 鏡片 以及 鍍膜 方法 | ||
1.一種新型激光振鏡鏡片，其特征在于，包括：自下而上依次設置的基底膜層、中間膜層和高反膜層；所述中間膜層包括：自下而上依次設置的第一連接膜層、Al膜和第二連接膜層。
2.根據權利要求1所述的新型激光振鏡鏡片，其特征在于，所述第一連接膜層包括但不限于：Al2O3膜。
3.根據權利要求1所述的新型激光振鏡鏡片，其特征在于，所述第二連接膜層包括但不限于：Al2O3膜。
4.根據權利要求1所述的新型激光振鏡鏡片，其特征在于，所述基底膜層包括但不限于：Si基片。
5.根據權利要求1所述的新型激光振鏡鏡片，其特征在于，所述高反膜層包括：自下而上交替設置的L型膜、H型膜，其中，所述L型膜采用低折射率材料制成，所述H型膜采用高折射率材料制成。
6.根據權利要求5所述的新型激光振鏡鏡片，其特征在于，所述L型膜采用的低折射率材料包括但不限于：SiO2。
7.根據權利要求5所述的新型激光振鏡鏡片，其特征在于，所述H型膜采用的高折射率材料包括但不限于：HfO2。
8.一種激光振鏡，其特征在于，包括如權利要求1-7中任一項所述的新型激光振鏡鏡片。
9.一種用于制作如權利要求1-7中任一項所述的新型激光振鏡鏡片的鍍膜方法，其特征在于，包括：
采用真空蒸發鍍膜技術，在基底膜層采用電子束蒸發的方式沉積第一連接膜層，在第一連接膜層上采用電阻加熱蒸發的方式沉積Al膜，在Al膜上采用電子束蒸發的方式沉積第二連接膜層，在第二連接膜層上采用電子束蒸發的方式沉積高反膜層。
10.根據權利要求9所述的鍍膜方法，其特征在于，包括：采用真空蒸發鍍膜技術，并在鍍膜過程中全程使用離子源進行沉積輔助。
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