[發明專利]一種新型激光振鏡鏡片、激光振鏡以及鍍膜方法在審
| 申請號: | 201710754414.7 | 申請日: | 2017-08-29 |
| 公開(公告)號: | CN107329196A | 公開(公告)日: | 2017-11-07 |
| 發明(設計)人: | 鄭璇;李婷 | 申請(專利權)人: | 鎮江金海創科技有限公司 |
| 主分類號: | G02B5/08 | 分類號: | G02B5/08;G02B26/08 |
| 代理公司: | 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙)11371 | 代理人: | 史明罡 |
| 地址: | 212000 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 新型 激光 鏡片 以及 鍍膜 方法 | ||
技術領域
本發明涉及激光振鏡技術領域,尤其是涉及一種新型激光振鏡鏡片、激光振鏡以及鍍膜方法。
背景技術
目前,振鏡鏡片是掃描振鏡在對激光的掃描控制應用過程中,通過X和Y反射鏡片的擺動,將激光在工作平面內實現高速精確定位。傳統激光振鏡鏡片滿足工作波長的高反射(反射率大于99.4%),指定指示光反射(反射率大于80%),其缺點主要為幾點:工作波長只有一種;指示光波長受限制,不具備通用性;振鏡片導熱性較差,主要基片材質為BK7(光學玻璃);振鏡片重量較重,主要由于基片材質BK7的密度造成。
公開于該背景技術部分的信息僅僅旨在加深對本的總體背景技術的理解,而不應當被視為承認或以任何形式暗示該信息構成已為本領域技術人員所公知的現有技術。
發明內容
本發明的目的在于提供一種新型激光振鏡鏡片、激光振鏡以及鍍膜方法,以解決現有技術中存在的工作波長只有一種、指示光波長受限制,不具備通用性的技術問題。
為了實現上述目的,本發明采用以下技術方案:
第一方面,本發明提供一種新型激光振鏡鏡片,其包括:自下而上依次設置的基底膜層、中間膜層和高反膜層;所述中間膜層包括:自下而上依次設置的第一連接膜層、Al膜和第二連接膜層。
作為一種進一步的技術方案,所述第一連接膜層包括但不限于:Al2O3膜。
作為一種進一步的技術方案,所述第二連接膜層包括但不限于:Al2O3膜。
作為一種進一步的技術方案,所述基底膜層包括但不限于:Si基片。
作為一種進一步的技術方案,所述高反膜層包括:自下而上交替設置的L型膜、H型膜,其中,所述L型膜采用低折射率材料制成,所述H型膜采用高折射率材料制成。
作為一種進一步的技術方案,所述L型膜采用的低折射率材料包括但不限于:SiO2。
作為一種進一步的技術方案,所述H型膜采用的高折射率材料包括但不限于:HfO2。
第二方面,本發明還提供一種激光振鏡,其包括所述的新型激光振鏡鏡片。該新型激光振鏡鏡片包括:自下而上依次設置的基底膜層、中間膜層和高反膜層;所述中間膜層包括:自下而上依次設置的第一連接膜層、Al膜和第二連接膜層。
第三方面,本發明還提供一種用于制作所述新型激光振鏡鏡片的鍍膜方法,其包括:
采用真空蒸發鍍膜技術,在基底膜層采用電子束蒸發的方式沉積第一連接膜層,在第一連接膜層上采用電阻加熱蒸發的方式沉積Al膜,在Al膜上采用電子束蒸發的方式沉積第二連接膜層,在第二連接膜層上采用電子束蒸發的方式沉積高反膜層。
作為一種進一步的技術方案,該鍍膜方法還包括:采用真空蒸發鍍膜技術,并在鍍膜過程中全程使用離子源進行沉積輔助。
采用上述技術方案,本發明具有如下有益效果:
1)、該新型激光振鏡鏡片可以滿足400-700nm任意波段指示光需求,使鏡片更具有通用性;
2)、該新型激光振鏡鏡片可以實現最少滿足兩個成倍頻關系的激光波長,除了635nm紅光指示反射以外,能同時滿足532nm和1064nm兩個波段99.8%以上的高反射要求;
3)、該新型激光振鏡鏡片進一步采用Si基片作為基底膜層,具有優良的導熱性,可以在同樣規格的鏡片基礎上,大幅提升鏡片單位面積的激光反射功率,承受更大功率的激光器;
4)、該新型激光振鏡鏡片進一步采用Si基片作為基底膜層,相比常規的BK7和石英鏡片而言,可以大幅減輕激光振鏡反射鏡片的重量,從而提高振鏡的響應速度。
附圖說明
為了更清楚地說明本發明具體實施方式或現有技術中的技術方案,下面將對具體實施方式或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單的介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖是本發明的一些實施方式,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創造性勞動的前提下,還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為本發明實施例提供的新型激光振鏡鏡片的結構示意圖;
圖2為本發明實施例提供的鍍膜工藝的流程圖。
附圖標記:
1-基底膜層;2-第一連接膜層;3-Al膜;
4-第二連接膜層;5-高反膜層。
具體實施方式
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