[發(fā)明專利]一種用于加工太陽能硅片的燒結(jié)、抗光衰一體機(jī)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710742885.6 | 申請日: | 2017-08-25 |
| 公開(公告)號: | CN107768480B | 公開(公告)日: | 2023-08-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉品德;朱速鋒 | 申請(專利權(quán))人: | 蘇州南北深科智能科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 32103 | 代理人: | 馬明渡;吳雯玨 |
| 地址: | 215200 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 加工 太陽能 硅片 燒結(jié) 抗光衰 一體機(jī) | ||
本發(fā)明涉及一種用于加工太陽能硅片的燒結(jié)、抗光衰一體機(jī),包括燒結(jié)爐和抗光衰爐,燒結(jié)爐包括烘干段、燒結(jié)段以及冷卻段,烘干段處設(shè)有一燃燒塔,燃燒塔包括一燃燒箱體,其內(nèi)部空間由隔熱墻依次分隔為第一燃燒區(qū)、過渡區(qū)、第二燃燒區(qū)以及冷卻區(qū)。燒結(jié)段包括燒結(jié)爐腔,在該燒結(jié)爐腔的一端頂部設(shè)有第一排廢口、另一端頂部設(shè)有第二排廢口以及中部頂端設(shè)有第三排廢口;針對第一排廢口設(shè)有第一有機(jī)回收裝置,針對第二排廢口設(shè)有第二有機(jī)回收裝置,針對第三排廢口設(shè)有第三有機(jī)回收裝置。抗光衰爐包括一光源箱箱體,光源箱箱體內(nèi)設(shè)有光源,光源采用LED燈陣列布置,在光源箱箱體內(nèi)設(shè)有冷卻裝置,冷卻裝置包括風(fēng)冷冷卻結(jié)構(gòu)和水冷冷卻結(jié)構(gòu)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于太陽能硅片的制備設(shè)備,具體涉及一種用于加工太陽能硅片的燒結(jié)、抗光衰一體機(jī)。
背景技術(shù)
眾所周知,在晶體硅太陽能電池硅片的生產(chǎn)中,當(dāng)硅片印刷之后,需要將帶有漿料的硅片通過燒結(jié)爐烘干燒結(jié),然后再通過抗光衰爐激活硅片的抗光衰能力。其中,燒結(jié)爐通常包括烘干區(qū)、燒結(jié)區(qū)以及冷卻區(qū)。抗光衰爐通常包括光源箱、傳送裝置以及加熱裝置,光源箱體上設(shè)置有燈管、冷凝器以及離心風(fēng)機(jī)。
其中,在燒結(jié)爐中,由于對帶銀漿的硅片進(jìn)行烘干,此時(shí)產(chǎn)生的有機(jī)廢氣較多,為了提高排廢效率,以往的燒結(jié)爐在烘干區(qū)設(shè)置有機(jī)排廢風(fēng)管,將有機(jī)廢氣從有機(jī)排廢風(fēng)管中排出。
為了將烘干段的有機(jī)廢氣及時(shí)消除,現(xiàn)有市場上出現(xiàn)將烘干段有機(jī)廢氣吸收并燃燒的燃燒塔,但是這種燃燒塔存在以下缺點(diǎn):1、現(xiàn)有燃燒塔采用直通式,容易導(dǎo)致有機(jī)廢氣在燃燒塔中燃燒不充分,使得排至外界的氣體中仍然殘留有機(jī)廢氣,甚至存在未經(jīng)燃燒完全的有毒氣體(例如CO)排至燃燒塔外,最終污染環(huán)境;2、現(xiàn)有燃燒塔采用直通式,為了盡量燃燒充分,需要將燃燒塔設(shè)置較高,但是又因?yàn)閺S房樓層較低,使得燃燒塔的高度受室內(nèi)空間高度的限制,直接導(dǎo)致燃燒塔內(nèi)的燃燒程度受室內(nèi)空間高度限制。綜上,由此看來,現(xiàn)有的燃燒塔具有燃燒不充分、占地空間大、以及燃燒塔燃燒率和燃燒塔空間高度之間存在矛盾的致命缺點(diǎn),即若要提高燃燒率,就需要加長燃燒塔高度,若要縮短燃燒塔高度,就只能降低燃燒率。
據(jù)發(fā)明人了解,在燒結(jié)過程中,燒結(jié)段中大約有90%的有機(jī)廢氣能夠從兩端的排廢口排出,但仍然有剩余的10%無法抵達(dá)兩端并排出,如果中部產(chǎn)生的有機(jī)物廢氣抵達(dá)不了兩端,就會(huì)產(chǎn)生有機(jī)廢物覆在燒結(jié)爐的爐腔中,爐腔積有機(jī)廢物必然對燒結(jié)的硅片產(chǎn)生污染。
另外,在抗光衰過程中,現(xiàn)有抗光衰爐包括上爐膽、下爐膽、光源箱、傳送裝置以及加熱裝置,光源箱體上設(shè)置有光源、冷凝器以及離心風(fēng)機(jī),冷凝器的一端與光源箱體內(nèi)部相通,另一端與離心風(fēng)機(jī)相通。現(xiàn)有技術(shù)光源強(qiáng)度不夠,溫度缺過高,雖然光源箱體內(nèi)部設(shè)有冷卻裝置,即采用冷凝器,但是這種冷卻方式通常是在銅管中輸送冷卻水對光源進(jìn)行冷卻,但是由于銅管的銅管壁很薄,且在銅管拐彎處采用焊接連接,因此容易發(fā)生泄漏,如果將冷凝器靠近光源設(shè)置,容易因泄漏導(dǎo)致元器件漏電,因此只能將冷凝器設(shè)置在離光源較遠(yuǎn)位置,這種冷卻方式效果不理想,帶走的熱量有限,導(dǎo)致光源箱內(nèi)高溫積蓄,造成硅片通過通道處的溫度過高,不僅無法達(dá)到光源箱內(nèi)所需的溫度條件,而且還對元器件有損壞。
另外,目前市場上還未出現(xiàn)過將燒結(jié)爐和抗光衰爐設(shè)置成一整機(jī)的結(jié)構(gòu),因?yàn)闊Y(jié)爐和抗光衰爐分開設(shè)置,分開加工,從而導(dǎo)致加工工序長,加工設(shè)備長度過長、占地面積較大。
因此,提供一種用于加工太陽能硅片的燒結(jié)、抗光衰一體機(jī)是本發(fā)明所要研究的課題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明目的是提供一種用于加工太陽能硅片的燒結(jié)、抗光衰一體機(jī),以解決現(xiàn)有技術(shù)中燒結(jié)爐中的燃燒塔有機(jī)廢氣燃燒不充分、燃燒塔占地空間大、燒結(jié)段排廢不及時(shí),導(dǎo)致有機(jī)廢物堆積污染硅片的問題;以及抗光衰爐中冷卻裝置冷卻效果差等問題。
為達(dá)到上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:一種用于加工太陽能硅片的燒結(jié)、抗光衰一體機(jī),包括傳輸網(wǎng)鏈、燒結(jié)爐以及抗光衰爐,所述燒結(jié)爐和抗光衰爐由傳輸網(wǎng)鏈串聯(lián)連接;
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





