[發明專利]偏振器、其制造方法和包括其的顯示裝置

有效

• 申請號: 201710740592.4
• 申請日: 2017-08-25
• 公開（公告）號: CN107783219B
• 公開（公告）日: 2021-09-03
• 發明（設計）人: 安文貞;南重建;楊受京;白炅旼;韓康洙;樸俊龍;申相原;申鉉億
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;G02F1/1335
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 劉燦強;尹淑梅

1.一種偏振器，所述偏振器包括：

基體層；以及

線柵層，設置在所述基體層上，并包括沿第一方向延伸的多個布線金屬圖案，所述多個布線金屬圖案沿與所述第一方向交叉的第二方向彼此分隔開，

其中，所述線柵層由包含鎳和鑭的鋁合金制成，

其中，所述鋁合金中的鎳的含量為0.01at％至0.08at％，所述鋁合金中的鑭的含量為0.01at％至0.08at％。

2.根據權利要求1所述的偏振器，

其中，所述鋁合金中的鎳和鑭的總含量為0.1at％或更小。

3.根據權利要求1所述的偏振器，

其中，所述鋁合金中的鎳的含量為0.02at％，所述鋁合金中的鑭的含量為0.04at％。

4.根據權利要求1所述的偏振器，

其中，所述鋁合金的折射率為0.9至1.1，所述鋁合金的消光系數為6.4或更大。

5.根據權利要求1所述的偏振器，

其中，所述線柵層還包括形成在所述多個布線金屬圖案中的每個的表面上的氧化膜，所述氧化膜由所述鋁合金的氧化物制成。

6.根據權利要求1所述的偏振器，

其中，所述線柵層還包括設置在所述多個布線金屬圖案中的每個上的硬掩模圖案。

7.根據權利要求6所述的偏振器，

其中，所述硬掩模圖案包含氧化硅或氮化硅。

8.根據權利要求6所述的偏振器，

其中，所述線柵層還包括形成在所述多個布線金屬圖案中的每個的側面上的氧化膜，所述氧化膜由所述鋁合金的氧化物制成。

9.一種制造偏振器的方法，所述方法包括：

在基體層上形成金屬層；

使用化學氣相沉積在所述金屬層上形成硬掩模層；

在所述硬掩模層上形成抗蝕劑層；

使用模具按壓所述抗蝕劑層，以形成抗蝕劑圖案；

使用所述抗蝕劑圖案作為掩模來蝕刻所述硬掩模層；以及

使用所述蝕刻了的硬掩模層作為掩模來蝕刻所述金屬層，

其中，所述金屬層由包含鎳和鑭的鋁合金制成，

其中，所述鋁合金中的鎳的含量為0.01at％至0.08at％，所述鋁合金中的鑭的含量為0.01at％至0.08at％。

10.一種顯示裝置，所述顯示裝置包括：

第一基底，包括基體層和第一線柵層，第一線柵層設置在所述基體層上并包括沿第一方向延伸的多個第一布線金屬圖案，所述多個第一布線金屬圖案沿與所述第一方向交叉的第二方向彼此間隔開；

第二基底，面對所述第一基底；以及

液晶層，設置在所述第一基底與所述第二基底之間，

其中，所述第一線柵層由包含鎳和鑭的鋁合金制成，

其中，所述鋁合金中的鎳的含量為0.01at％至0.08at％，所述鋁合金中的鑭的含量為0.01at％至0.08at％。

11.根據權利要求10所述的顯示裝置，

其中，所述鋁合金中的鎳和鑭的總含量為0.1at％或更小。

12.根據權利要求11所述的顯示裝置，

其中，所述鋁合金中的鎳的含量為0.02at％，所述鋁合金中的鑭的含量為0.04at％。

13.根據權利要求10所述的顯示裝置，

其中，所述第一線柵層還包括形成在所述多個第一布線金屬圖案中的每個的表面上的氧化膜，所述氧化膜由所述鋁合金的氧化物制成。

14.根據權利要求10所述的顯示裝置，

其中，所述第一線柵層還包括設置在所述多個第一布線金屬圖案中的每個上的硬掩模圖案。