[發(fā)明專(zhuān)利]一種扇出型封裝方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710740477.7 | 申請(qǐng)日: | 2017-08-24 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107611043A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-01-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 俞國(guó)慶 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 通富微電子股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L21/56 | 分類(lèi)號(hào): | H01L21/56;H01L21/60;H01L23/373 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)44280 | 代理人: | 鐘子敏 |
| 地址: | 226000 *** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 扇出型 封裝 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體封裝技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種扇出型封裝方法。
背景技術(shù)
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,芯片的尺寸越來(lái)越小,芯片表面的I/O(輸入/輸出)引腳密度也越來(lái)越高,扇出型封裝應(yīng)運(yùn)而生,扇出型封裝將芯片高密度的I/O引腳扇出為低密度的封裝引腳。
目前,現(xiàn)有的扇出型封裝方法包括如下流程:提供載板,在載板上貼附一層雙面膠膜,將芯片的正面貼附在膠膜上,將芯片進(jìn)行塑封后,剝離膠膜和載板,在芯片的正面形成再布線(xiàn)層、植球、切割。
本發(fā)明的發(fā)明人在長(zhǎng)期研究過(guò)程中發(fā)現(xiàn),上述扇出型封裝方法中由于采用了膠膜,在芯片塑封時(shí)溫度變化使得膠膜發(fā)生伸縮、塑封時(shí)由于塑封材料、芯片和載板的熱膨脹系數(shù)(CTE)不同發(fā)生翹曲等情況,導(dǎo)致芯片在塑封時(shí)產(chǎn)生偏移。芯片的偏移導(dǎo)致后續(xù)制程如光刻對(duì)位發(fā)生困難。;另外,用上述扇出型封裝方法制備的再布線(xiàn)層在窄線(xiàn)寬/線(xiàn)距上都受到一定限制。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明主要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種扇出型封裝方法,能夠防止芯片發(fā)生偏移;同時(shí)可使再布線(xiàn)層的線(xiàn)寬和線(xiàn)距更窄。
為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是:提供一種扇出型封裝方法,所述方法包括:提供封裝基板,所述封裝基板包括硅晶圓基層、焊盤(pán)及第一再布線(xiàn)層,所述焊盤(pán)設(shè)置于所述硅晶圓基層一側(cè),所述第一再布線(xiàn)層設(shè)置于所述硅晶圓基層的另一側(cè),其中,所述焊盤(pán)和所述第一再布線(xiàn)層電連接;將芯片與所述封裝基板的所述焊盤(pán)電連接。
本發(fā)明的有益效果是:區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的情況,本發(fā)明所采用的扇出型封裝方法中的封裝基板包括硅晶圓基層、焊盤(pán)及第一再布線(xiàn)層,焊盤(pán)和第一再布線(xiàn)層分別位于硅晶圓基層的兩側(cè),焊盤(pán)與第一再布線(xiàn)層電連接,芯片與焊盤(pán)電連接;一方面,封裝基板包括焊盤(pán),芯片與封裝基板的焊盤(pán)電連接,從而避免采用膠膜的封裝方法導(dǎo)致的芯片在塑封時(shí)溫度變化導(dǎo)致的膠膜伸縮、塑封時(shí)由于塑封材料、芯片和載板的熱膨脹系數(shù)(CTE)不同發(fā)生翹曲等情況,導(dǎo)致芯片在塑封時(shí)產(chǎn)生偏移的情況;另一方面,封裝基板包括硅晶圓基層,硅晶圓基層的導(dǎo)熱性較好,從而有利于扇出型封裝器件的散熱;再一方面,封裝基板的焊盤(pán)與第一再布線(xiàn)層位于硅晶圓基層的相對(duì)兩側(cè),為后續(xù)提供雙面有焊球結(jié)構(gòu)的扇出型封裝結(jié)構(gòu)提供技術(shù)支持;又一方面,本發(fā)明所提供的扇形封裝方法為先做再布線(xiàn)層再在再布線(xiàn)層上制備芯片,該方法比先做芯片再在芯片上進(jìn)行再布線(xiàn)的方法的再布線(xiàn)層的線(xiàn)寬和線(xiàn)距更窄。
附圖說(shuō)明
圖1是本發(fā)明扇出型封裝方法一實(shí)施方式的流程示意圖;
圖2是半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域晶圓一實(shí)施方式的俯視圖;
圖3是硅晶圓基層設(shè)置硅通孔一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4是本發(fā)明扇出型封裝方法一實(shí)施方式的流程示意圖;
圖5是圖4中步驟S201-S206對(duì)應(yīng)的扇出型封裝器件一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖6是圖4中步驟S207-S217對(duì)應(yīng)的扇出型封裝器件一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖7是圖4中步驟S207對(duì)應(yīng)的扇出型封裝器件另一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖8是圖4中步驟S217對(duì)應(yīng)的扇出型封裝器件另一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖9是本發(fā)明扇出型封裝方法另一實(shí)施方式的流程示意圖;
圖10是圖9中步驟S301-S309對(duì)應(yīng)的扇出型封裝器件一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖11是圖9中步驟S307對(duì)應(yīng)的扇出型封裝器件另一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖12是本發(fā)明扇出型封裝方法另一實(shí)施方式的流程示意圖;
圖13是圖12中步驟S407-S422對(duì)應(yīng)的扇出型封裝器件一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖14是圖12中步驟S412對(duì)應(yīng)的扇出型封裝器件另一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖15是圖12中步驟S422對(duì)應(yīng)的扇出型封裝器件另一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖16是本發(fā)明扇出型封裝方法另一實(shí)施方式的流程示意圖;
圖17是圖16中步驟S507-S519對(duì)應(yīng)的扇出型封裝器件一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖18是本發(fā)明扇出型封裝器件一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖19是本發(fā)明扇出型封裝器件另一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖20是本發(fā)明扇出型封裝器件另一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖21是本發(fā)明扇出型封裝器件另一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
請(qǐng)參閱圖1,圖1為本發(fā)明扇出型封裝方法一實(shí)施方式的流程示意圖,該方法包括:
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專(zhuān)門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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