[發(fā)明專利]一種調(diào)試方法及蒸鍍機(jī)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710738931.5
• 申請(qǐng)日: 2017-08-22
• 公開（公告）號(hào): CN107523787B
• 公開（公告）日: 2019-08-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蔣謙
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/04
• 分類號(hào): C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56
• 代理公司: 深圳市威世博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44280
• 代理人: 鐘子敏

本發(fā)明公開了一種調(diào)試方法及蒸鍍機(jī)，該方法用于調(diào)整精密型掩膜板與待作業(yè)基板的相對(duì)位置，包括：裝載調(diào)試用基板至調(diào)試用蒸鍍腔內(nèi)；裝載精密型掩膜板至調(diào)試用蒸鍍腔內(nèi)；開啟調(diào)試用蒸鍍腔內(nèi)的光源并通過(guò)精密型掩膜板而照射調(diào)試用基板上的光致變色層，其中，光致變色層中被照射光照射的部分區(qū)域發(fā)生變色；根據(jù)光致變色層中發(fā)生變色的部分區(qū)域的位置，而獲取精密型掩膜板的補(bǔ)償值。上述方法在調(diào)整時(shí)可以省去有機(jī)材料，提高調(diào)試速度。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種調(diào)試方法及蒸鍍機(jī)。

背景技術(shù)

有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light Emitting Diode,OLED)顯示面板具有主動(dòng)發(fā)光、亮度高、對(duì)比度高、超薄、功耗低、視角大以及工作溫度范圍寬等諸多優(yōu)點(diǎn)，是一種具有廣泛應(yīng)用的新型平板顯示裝置。

在制備OLED顯示面板的過(guò)程中，需要采用真空蒸鍍技術(shù)制備OLED薄膜，具體地，在真空環(huán)境中加熱有機(jī)材料，使得有機(jī)材料受熱升華，通過(guò)具有圖案的精密型掩膜板，在基板子像素對(duì)應(yīng)的陽(yáng)極圖案上形成具有一定形狀的有機(jī)薄膜(也稱為發(fā)光層)，其中，不同顏色的子像素對(duì)應(yīng)不同的精密型掩膜板，每種顏色的子像素都需要一張精密型掩膜板。經(jīng)歷多種材料的連續(xù)沉積成膜，即可形成具有多層薄膜結(jié)構(gòu)的OLED結(jié)構(gòu)。目前精密型掩膜板與待作業(yè)基板進(jìn)行對(duì)位時(shí)，對(duì)位精度通常可以控制在<±3μm范圍內(nèi)，但是即使對(duì)位達(dá)到規(guī)格，實(shí)際沉積在子像素陽(yáng)極圖案之上的有機(jī)薄膜位置也會(huì)發(fā)生偏移，當(dāng)子像素陽(yáng)極圖案上的有機(jī)薄膜或金屬薄膜發(fā)生偏移時(shí)，在顯示面板被點(diǎn)亮后，容易發(fā)生混色效應(yīng)，因此在全自動(dòng)生產(chǎn)前，都要對(duì)精密型掩膜板的位置進(jìn)行補(bǔ)償，使得蒸鍍成膜后，成膜圖案覆蓋在子像素陽(yáng)極圖案上，并且陽(yáng)極圖案位于成膜圖案的中央。

現(xiàn)有的調(diào)整精密型掩膜板成膜圖案位置的方法，浪費(fèi)較多的成膜材料，且調(diào)試速度較慢。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明主要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種調(diào)整精密型掩膜板與待作業(yè)基板的相對(duì)位置的調(diào)試方法，能夠在調(diào)整精密型掩膜板與待作業(yè)基板的相對(duì)位置的過(guò)程中省去有機(jī)材料，并且提高調(diào)試速度。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是：提供一種調(diào)試方法，用于調(diào)整精密型掩膜板與待作業(yè)基板的相對(duì)位置，包括：

裝載調(diào)試用基板至調(diào)試用蒸鍍腔內(nèi)，其中，所述調(diào)試用基板包括基板以及設(shè)置在基板上的光致變色層和陽(yáng)極薄膜層，所述光致變色層和所述陽(yáng)極薄膜層之一被預(yù)先圖案化；

裝載所述精密型掩膜板至所述調(diào)試用蒸鍍腔內(nèi)，其中，所述精密型掩膜板包括透光區(qū)和遮光區(qū)；

所述精密型掩膜板和所述調(diào)試用基板對(duì)位后，開啟所述調(diào)試用蒸鍍腔內(nèi)的光源并通過(guò)所述精密型掩膜板而照射所述調(diào)試用基板上的所述光致變色層，其中，所述光致變色層中被照射光照射的部分區(qū)域發(fā)生變色；

根據(jù)所述光致變色層中發(fā)生變色的部分區(qū)域的位置，而獲取所述精密型掩膜板的補(bǔ)償值，其中，所述補(bǔ)償值用于供蒸鍍機(jī)調(diào)整所述精密型掩膜板與所述待作業(yè)基板的相對(duì)位置。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用的另一個(gè)技術(shù)方案是：提供一種蒸鍍機(jī)，包括多個(gè)正常工作的蒸鍍腔和至少一個(gè)調(diào)試用蒸鍍腔，其中，所述調(diào)試用蒸鍍腔用于獲取精密型掩膜板的補(bǔ)償值以供所述蒸鍍機(jī)調(diào)整在所述正常工作的蒸鍍腔內(nèi)的所述精密型掩膜板與待作業(yè)基板的相對(duì)位置，所述調(diào)試用蒸鍍腔獲取所述精密型掩膜板的補(bǔ)償值的調(diào)試方法包括：

裝載調(diào)試用基板至所述調(diào)試用蒸鍍腔內(nèi)，其中，所述調(diào)試用基板包括基板以及設(shè)置在基板上的光致變色層和陽(yáng)極薄膜層，所述光致變色層和所述陽(yáng)極薄膜層之一被預(yù)先圖案化；

裝載所述精密型掩膜板至所述調(diào)試用蒸鍍腔內(nèi)，其中，所述精密型掩膜板包括透光區(qū)和遮光區(qū)；