[發明專利]一種調試方法及蒸鍍機

有效

• 申請號: 201710738931.5
• 申請日: 2017-08-22
• 公開（公告）號: CN107523787B
• 公開（公告）日: 2019-08-02
• 發明（設計）人: 蔣謙
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56
• 代理公司: 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) 44280
• 代理人: 鐘子敏

1.一種調試方法，用于調整精密型掩膜板與待作業基板的相對位置，其特征在于，包括：

裝載調試用基板至調試用蒸鍍腔內，其中，所述調試用基板包括基板以及設置在基板上的光致變色層和陽極薄膜層，所述光致變色層和所述陽極薄膜層之一被預先圖案化，且當所述調試用基板上的所述光致變色層被預先圖案化時，圖案化的所述光致變色層設置在所述陽極薄膜層遠離所述基板的一側，當所述調試用基板上的所述陽極薄膜層被預先圖案化時，圖案化的所述陽極薄膜層設置在所述光致變色層遠離所述基板的一側；

裝載所述精密型掩膜板至所述調試用蒸鍍腔內，其中，所述精密型掩膜板包括透光區和遮光區；

所述精密型掩膜板和所述調試用基板對位后，開啟所述調試用蒸鍍腔內的光源并通過所述精密型掩膜板而照射所述調試用基板上的所述光致變色層，其中，所述光致變色層中被照射光照射的部分區域發生變色；

根據所述光致變色層中發生變色的部分區域的位置，而獲取所述精密型掩膜板的補償值，其中，所述補償值用于供蒸鍍機調整所述精密型掩膜板與所述待作業基板的相對位置。

2.根據權利要求1所述的調試方法，其特征在于，當所述調試用基板上的所述光致變色層被預先圖案化時，圖案化的所述光致變色層設置在所述陽極薄膜層遠離所述基板的一側，其中，開啟所述調試用蒸鍍腔內的光源并通過所述精密型掩膜板而照射所述調試用基板上的所述光致變色層的步驟，包括：

照射光穿過所述精密型掩膜板中的所述透光區而照射至圖案化的所述光致變色層，以使得圖案化的所述光致變色層中的對應于所述透光區內的區域發生變色現象，其中，所述光致變色層中發生變色現象的區域為所述精密型掩膜板的所述透光區的邊緣處至圖案化的所述光致變色層的邊緣處之間的區域。

3.根據權利要求1所述的調試方法，其特征在于，當所述調試用基板上的所述陽極薄膜層被預先圖案化時，圖案化的所述陽極薄膜層設置在所述光致變色層遠離所述基板的一側，其中，開啟所述調試用蒸鍍腔內的光源并通過所述精密型掩膜板而照射所述調試用基板上的所述光致變色層的步驟，包括：

照射光穿過所述精密型掩膜板中的所述透光區和圖案化的所述陽極薄膜層而照射至所述光致變色層，以使得所述光致變色層中的部分區域發生變色現象，其中，所述光致變色層中發生變色現象的區域為所述精密型掩膜板的所述透光區的邊緣處至圖案化的所述陽極薄膜層的邊緣處之間的區域。

4.根據權利要求1所述的調試方法，其特征在于，所述光致變色層由光致變色材料形成或者為含有光致變色材料的光阻層。

5.根據權利要求4所述的調試方法，其特征在于，所述光致變色材料包括無機光致變色材料、有機光致變色材料中的至少一種。

6.根據權利要求5所述的調試方法，其特征在于，所述光致變色材料內添加有界面活性劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑和粘度改善劑中的至少一種。

7.一種蒸鍍機，其特征在于，包括多個正常工作的蒸鍍腔和至少一個調試用蒸鍍腔，其中，所述調試用蒸鍍腔用于獲取精密型掩膜板的補償值以供所述蒸鍍機調整在所述正常工作的蒸鍍腔內的所述精密型掩膜板與待作業基板的相對位置，所述調試用蒸鍍腔獲取所述精密型掩膜板的補償值的調試方法包括：

裝載調試用基板至所述調試用蒸鍍腔內，其中，所述調試用基板包括基板以及設置在基板上的光致變色層和陽極薄膜層，所述光致變色層和所述陽極薄膜層之一被預先圖案化，且當所述調試用基板上的所述光致變色層被預先圖案化時，圖案化的所述光致變色層設置在所述陽極薄膜層遠離所述基板的一側，當所述調試用基板上的所述陽極薄膜層被預先圖案化時，圖案化的所述陽極薄膜層設置在所述光致變色層遠離所述基板的一側；

裝載所述精密型掩膜板至所述調試用蒸鍍腔內，其中，所述精密型掩膜板包括透光區和遮光區；

所述精密型掩膜板和所述調試用基板對位后，開啟所述調試用蒸鍍腔內的光源并通過所述精密型掩膜板而照射所述調試用基板上的所述光致變色層，其中，所述光致變色層中被照射光照射的部分區域發生變色；

根據所述光致變色層中發生變色的部分區域的位置，而獲取所述精密型掩膜板的補償值。