[發明專利]一種二氫赤霉素的批量合成方法有效
| 申請號: | 201710722731.0 | 申請日: | 2017-08-22 |
| 公開(公告)號: | CN107353264B | 公開(公告)日: | 2020-02-14 |
| 發明(設計)人: | 張建軍;田昊;譚偉明;段留生 | 申請(專利權)人: | 中國農業大學 |
| 主分類號: | C07D307/00 | 分類號: | C07D307/00 |
| 代理公司: | 11245 北京紀凱知識產權代理有限公司 | 代理人: | 關暢;吳愛琴 |
| 地址: | 100191 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 赤霉素 目標產物 羥基 三氟甲磺酸酐 羧基保護基 甲氧基芐 路易斯酸 氫化還原 最終產物 赤霉酸 乙酸酐 乙?;?/a> 產率 雙鍵 羧基 合成 | ||
本發明提供一種二氫赤霉素的批量合成方法。本發明采用商業上易得的、價格便宜的赤霉酸為原料,乙酸酐保護C3與C13位的羥基,利用甲氧基芐醇保護羧基,然后氫化還原C1?C2與C16?C17雙鍵,然后選擇性脫C3位乙?;萌谆撬狒约奥芬姿顾嵩谝诲佒邢鼵3位羥基以及脫掉羧基保護基,生成目標產物二氫赤霉素。本發明所用的方法均在非常溫和的條件下進行,在室溫下很快即可得到目標產物,產率高達95%。本發明最終產物純度高,不低于95%。
技術領域
本發明屬于有機合成領域,具體涉及二氫赤霉素的批量合成方法。
背景技術
二氫赤霉素是赤霉素A5(GA5)的其中一個衍生物,化學結構是外式-16,17-二氫-13-乙?;?GA5。二氫赤霉素是一種可降解的、環境友好型的植物生長調節劑。例如,在溫室環境下,每公頃使用500毫克的二氫赤霉素就可以顯著降低小麥、大麥以及許多禾本科植物的株高。在大田實驗中,二氫赤霉素對作物的倒伏有明顯改善作用。每公頃使用25克二氫赤霉素大約與每公頃使用200克調環酸鈣或每公頃使用1000克矮壯素的效果相當(Can.J.Chem.2004,82,293-300.)。二氫赤霉素作用的機理是作為GA3ox(屬于2-酮戊二酸依賴型雙加氧酶)的競爭性底物來發揮作用的。二氫赤霉素在結構上與GA9以及GA20極為相似,可以緊密地與酶的作用位點相結合,但不能產生進一步的生理作用。所以,GA9與GA20就不能被順利氧化成具有促進生長活性的GA4與GA1,這就使得植物的莖的伸長受阻,表現為株高降低(Annual review of plant biology 2008,59,225-251;Plant Physiol.2004,135,1000-1007.)。
鑒于二氫赤霉素的可降解、高的植物生長調節活性以及對環境友好等優點,它的高效合成方法一直在受到人們的持續關注。文獻中已經報道的合成方法主要是化學合成,也就是以赤霉酸為原料通過用甲酯保護羧基、乙?;Wo羥基,經過一系列化學反應轉化得到最終產物二氫赤霉素(Can.J.Chem.,2004,82,293-300.;Phytochemistry,1998,49,2195-2206)。
上述文獻公開的合成方法存在如下問題:現有文獻報道的化學合成方法路線較長(至少7步反應)、產率很低(最多30%)、重復性差(Lewis N.Mander等采用的ZnCl2催化的保護羧基的反應很難重復得到結果)、條件劇烈有危險性(脫甲酯保護以及消除甲磺酸酯需要高溫條件下回流,損失較多,產率很低)、純化難度大(脫甲酯保護需要強堿,劇烈的條件會導致其它雜質點的生成),并不能作為二氫赤霉素大量制備的方法。
發明內容
本發明的目的是提供一種二氫赤霉素的批量合成方法,本發明方法能夠有效提高二氫赤霉素的合成產率。
本發明所提供的二氫赤霉素的批量合成方法,包括下述步驟:
(1)以式Ⅱ所示赤霉酸為起始原料進行C3與C13的全乙?;磻?,得到式Ⅲ所示化合物;
(2)使式Ⅲ所示化合物進行C6位羧基芐基化反應得到式Ⅳ所示化合物;
式Ⅳ中,R1具體可為:對甲氧基芐基、2,4-二甲氧基芐基、3,4-二甲氧基芐基或α-甲基對甲氧基芐基;
(3)使得式Ⅳ所示化合物發生加氫還原反應,得到式Ⅴ所示化合物;
(4)使得式Ⅴ所示化合物進行選擇性脫乙酰基反應,脫去C13的乙?;?,得到式Ⅵ所示化合物;
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國農業大學,未經中國農業大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710722731.0/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





