[發明專利]一種二氫赤霉素的批量合成方法有效
| 申請號: | 201710722731.0 | 申請日: | 2017-08-22 |
| 公開(公告)號: | CN107353264B | 公開(公告)日: | 2020-02-14 |
| 發明(設計)人: | 張建軍;田昊;譚偉明;段留生 | 申請(專利權)人: | 中國農業大學 |
| 主分類號: | C07D307/00 | 分類號: | C07D307/00 |
| 代理公司: | 11245 北京紀凱知識產權代理有限公司 | 代理人: | 關暢;吳愛琴 |
| 地址: | 100191 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 赤霉素 目標產物 羥基 三氟甲磺酸酐 羧基保護基 甲氧基芐 路易斯酸 氫化還原 最終產物 赤霉酸 乙酸酐 乙酰基 產率 雙鍵 羧基 合成 | ||
1.一種二氫赤霉素的合成方法,包括下述步驟:
(1)以式Ⅱ所示赤霉酸為起始原料進行C3與C13的全乙?;磻?,得到式Ⅲ所示化合物;
(2)使式Ⅲ所示化合物進行C6位羧基芐基化反應得到式Ⅳ所示化合物;
R1為:對甲氧基芐基、2,4-二甲氧基芐基、3,4-二甲氧基芐基或α-甲基對甲氧基芐基;
(3)使得式Ⅳ所示化合物發生加氫還原反應,得到式Ⅴ所示化合物;
(4)使得式Ⅴ所示化合物進行選擇性脫乙?;磻?,脫去C13的乙?;玫绞舰鏊净衔铮?/p>
(5’)使得式Ⅵ所示化合物進行三步一鍋反應,得到式Ⅰ所示二氫赤霉素;
步驟(2)中,所述C6位羧基芐基化反應的操作為:將式Ⅲ所示化合物溶于有機溶劑,冰浴下加入EDCI、DMAP,攪拌,滴加含有各種保護基的芐醇,繼續反應,反應完畢后加水淬滅反應,后處理,甲醇重結晶得到全保護的赤霉酸;
所述含有各種保護基的芐醇為:對甲氧基芐醇、2,4-二甲氧基芐醇、3,4-二甲氧基芐醇或α-甲基對甲氧基芐醇;
步驟(3)中,所述加氫還原反應的操作為:將式Ⅳ所示化合物溶于溶劑,加入催化劑Rh-Al2O3,在氫氣氛圍下反應;過濾掉催化劑,抽干溶劑即得到C1,C2雙鍵以及C16,C17雙鍵還原的全保護赤霉酸;
步驟(5’)中,所述三步一鍋反應的操作為:低溫下,在有機堿作用下,使得式Ⅵ所示化合物與三氟甲磺酸酐反應,反應完成后,升至室溫,將體系pH調至中性,加入路易斯酸繼續反應,得到目標化合物式Ⅰ所示二氫赤霉素,
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于:步驟(1)中,所述全乙酰化反應的操作為:在有機堿作用下使得式Ⅱ所示赤霉酸與乙酸酐進行反應,得到全乙?;某嗝顾?;
所述有機堿為4-二甲氨基吡啶;
所述全乙?;磻谟袡C溶劑中進行,所述有機溶劑為吡啶;
式Ⅱ所示赤霉酸與乙酸酐、4-二甲氨基吡啶的質量比依次為1.0/4.0-10.0/0.01-0.1;
所述全乙?;磻臅r間為12h-24h。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于:步驟(2)中,所述反應的溫度為0-25度,時間為3-12小時;
式Ⅲ所示化合物與EDCI、DMAP以及芐醇的摩爾比依次為1.0/1.1-3.0/0.01-0.05/1.0。
4.根據權利要求1所述的方法,其特征在于:步驟(3)中,所述溶劑選自下述至少一種:甲醇、乙醇、丙酮、四氫呋喃、乙酸乙酯和乙腈;
所述加氫還原反應的時間為24h-48h。
5.根據權利要求1所述的方法,其特征在于:步驟(4)中,所述選擇性脫乙酰基反應的操作為:將式Ⅴ所示化合物溶于甲醇水的混合溶液中,加入堿的飽和水溶液使反應液的pH達到9-10,反應0.5-1.0小時,反應完成后將pH調至中性,后處理得到式Ⅵ所示化合物;
其中,甲醇水的體積比為4-10:1;
所述堿選自下述至少一種:碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸氫鉀。
6.根據權利要求1所述的方法,其特征在于:步驟(5’)中,所述有機堿為吡啶;
三氟甲磺酸酐、吡啶與式Ⅵ所示化合物的摩爾比依次為1.1-1.4/2.3-3.0/1.0;
所述低溫的溫度為-20-0度,所述低溫下反應的時間為:1.5-3.0小時;
采用酸性樹脂調節體系的pH值至中性;
所述路易斯酸選自下述至少一種:三氯化鐵、氯化鋅、三氯化鋁和三氟化硼;
路易斯酸與式Ⅵ所示化合物的摩爾比為5-15/1;
室溫下反應的時間為:1-3小時。
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