[發(fā)明專利]一種用適配體調控納米二氧化硅活性?吸收光譜測定Hg2+的方法

在審

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• 申請日: 2017-08-16
• 公開（公告）號: CN107870152A
• 公開（公告）日: 2018-04-03
• 發(fā)明（設計）人: 歐陽輝祥;李重寧;梁愛惠;蔣治良
• 申請（專利權）人: 廣西師范大學
• 主分類號: G01N21/31
• 分類號: G01N21/31;G01N1/38
• 代理公司: 桂林市華杰專利商標事務所有限責任公司45112
• 代理人: 劉梅芳

技術領域

本發(fā)明涉及分析化學領域，具體是一種用適配體調控納米二氧化硅活性-吸收光譜測定Hg²⁺的方法。

背景技術

適配體是一小段經體外篩選得到的寡核苷酸序列，能與多種目標物質高特異性、高親和力和高選擇性地結合，當核酸適配體與目標物質發(fā)生特異性結合時，核酸適配體自身的構型會發(fā)生變化，其檢測信號隨之發(fā)生變化從而實現對目標物的檢測。汞是毒性很強的重金屬，汞很容易通過食物鏈在人體和動物，特別是魚類體內產生富集作用，即便在其濃度很低的情況下，汞也會對人體和環(huán)境造成很大的、長期的毒害作用。因此，研究痕量汞的測定方法具有重要意義。

目前，汞的測定方法主要有原子吸收光譜法和氣液相色譜-質譜聯用法以及與免疫反應結合的方法如比色法、熒光光譜法、共振瑞利散射光譜法、表面增強拉曼散射光譜法。這些方法中，原子吸收光譜法雖然儀器普及、穩(wěn)定性好，但儀器精密度較差；氣液相色譜-質譜聯用技術比原子吸收光譜法較靈敏、具有線性范圍寬等優(yōu)點，但是過程繁雜，成本較高，且檢測靈敏度依賴于柱后檢測技術；免疫比色法簡便易行、經濟，但靈敏度欠佳；熒光光譜法過程繁雜，成本較高；共振瑞利散射光譜法靈敏、快速、簡便在生物化學、分析化學、納米材料研究等方面均有應用。然而，以上免疫分析方法基本是依據Hg²⁺與適配體中的胸腺嘧啶形成T-Hg²⁺-T結構，構建免疫探針分子，然后再進行相應的實驗方法操作，總的來說實驗操作都較復雜。

納米酶是一類既有納米材料的獨特性能，又有催化功能的模擬酶。納米酶具有催化效率高、穩(wěn)定、經濟和規(guī)模化制備的特點。自2007年HRP納米酶報道以來，納米酶的研究迅速崛起，研究的涉及面也逐漸廣泛，已經包括材料科學、物理、化學、生物、醫(yī)學和環(huán)境等不同領域。與天然酶相比，納米材料具有穩(wěn)定性高、催化活性高及廉價易得等優(yōu)點,特別是避免了天然酶所具備的不穩(wěn)定和易變性特征，增加了其在過程催化和酶促動力學領域應用的前景，因而這些具有模擬酶活性的納米材料在分析化學中具有重要的意義。納米酶應用于分析化學中，主要涉及重金屬離子檢測以及生物分子檢測和免疫分析，但均基于金屬納米酶的研究應用較多，對于非金屬納米酶的研究甚少。表面等離子共振(Surface Plasmon Resonance,SPR)依據入射光從臨界角照射到不同折射率的介質表面產生的金屬自由電子共振，得到生物分子之間的相互作用特異性信號來對分子組分進行定性和定量分析。納米二氧化硅作為一種新的納米材料越來越得到廣泛的應用，應用適配體調控納米二氧化硅非金屬納米酶的催化作用與表面等離子共振吸收光譜技術應用于定量測定Hg²⁺的分析方法尚未見報道。

發(fā)明內容

本發(fā)明的目的是針對測定Hg²⁺現有技術的不足，而提供一種用適配體調控納米二氧化硅活性-吸收光譜測定Hg²⁺的方法。這種方法不需要構建適配體納米探針的復雜過程，方法更簡便、快速；非金屬納米酶催化，靈敏度高，體系更穩(wěn)定。

實現本發(fā)明目的的技術方案是：

一種用適配體調控二氧化硅活性-吸收光譜測定Hg²⁺的方法，包括如下步驟：

(1)制備已知濃度的Hg²⁺標準溶液體系：于刻度試管中，依次加入10μL-200μL 100nmol/L的Hg²⁺標準溶液、50μL-120μL 66ng/mL汞適配體和10μL-20μL 100μg/mL二氧化硅，混勻，靜置10分鐘；然后在各試管中依次加入100μL-200μL 0.5moL/L葡萄糖、100μL-180μL 0.01moL/L HCl和100μL-120μL 84μmoL/L HAuCl₄，混勻，用二次蒸餾水定容至1.5mL，75℃水浴反應20分鐘，取出試管，用冰水冷卻終止反應，用二次蒸餾水定容至2.0mL；

(2)制備空白對照溶液體系：用步驟(1)的方法不加Hg²⁺標準溶液制備空白對照溶液體系；

(3)分別取按步驟(1)、(2)制備的Hg²⁺標準溶液體系及空白對照溶液體系傾入比色皿中，在分光光度計上，設定儀器參數狹縫為5nm，掃描獲得體系的吸收光譜，測定580nm處的吸光度值為A，同時測定空白對照溶液體系的吸光度值為A₀，計算ΔA＝A-A₀；

(4)以ΔA對Hg²⁺的濃度關系做工作曲線；