[發(fā)明專利]彩膜基板修補裝置和方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710721127.6
• 申請日: 2017-08-17
• 公開（公告）號: CN107390396B
• 公開（公告）日: 2023-04-14
• 發(fā)明（設計）人: 向長江
• 申請（專利權(quán)）人: 東旭（昆山）顯示材料有限公司;東旭集團有限公司;東旭科技集團有限公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13
• 代理公司: 北京潤平知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11283
• 代理人: 金旭鵬;肖冰濱

1.一種彩膜基板修補裝置，其特征在于，該修補裝置包括：

檢測器、研磨器和控制器，所述檢測器還包括激光發(fā)射單元和激光接收單元，其中，

所述研磨器用于研磨所述彩膜基板的缺陷凸起；

所述檢測器用于檢測彩膜基板的缺陷凸起的高度，以及當高度大于制程要求高度的缺陷凸起經(jīng)研磨后小于制程要求高度時產(chǎn)生檢測信號；以及

所述控制器用于在所述缺陷凸起的高度大于所述彩膜基板的制程要求高度時，控制所述研磨器對所述缺陷凸起進行研磨；以及

在接收到所述檢測信號時，控制研磨器停止研磨；

所述控制器還用于：

控制所述激光發(fā)射單元和所述激光接收單元移動，使所述激光發(fā)射單元發(fā)出的激光在所述彩膜基板的制程要求高度，所述缺陷凸起使所述激光接收單元無法接收到所述激光發(fā)射單元發(fā)出的激光；

計算所述缺陷凸起的高度與所述彩膜基板的制程要求高度的高度差；

控制所述激光發(fā)射單元和所述激光接收單元從所述缺陷凸起的高度向所述彩膜基板的方向移動所述高度差以使所述激光發(fā)射單元發(fā)出的激光在所述彩膜基板的制程要求高度；以及

通過所述研磨器進行研磨，在所述激光接收單元接收到所述激光時，控制所述研磨器停止研磨。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板修補裝置，其特征在于，所述檢測器還包括：

位移檢測單元，用于檢測所述激光發(fā)射單元和所述激光接收單元的位移，以便所述控制器監(jiān)控所述激光發(fā)射單元和所述激光接收單元是否移動到位。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板修補裝置，其特征在于，所述控制器還包括：

校正單元，用于校正所述激光發(fā)射單元和所述激光接收單元，使所述激光發(fā)射單元和所述激光接收單元位于同一水平高度，并且所述激光發(fā)射單元發(fā)射的激光與所述彩膜基板平行。

4.一種彩膜基板修補方法，其特征在于，該修補方法包括：

檢測彩膜基板的缺陷凸起的高度；

在所述缺陷凸起的高度大于所述彩膜基板的制程要求高度時，對所述缺陷凸起進行研磨；

當高度大于制程要求高度的缺陷凸起經(jīng)研磨后小于制程要求高度時，使用激光發(fā)射單元和激光接收單元產(chǎn)生檢測信號；以及

響應于所述檢測信號，停止研磨；

其中，所述對所述缺陷凸起進行研磨包括：

控制所述激光發(fā)射單元和所述激光接收單元移動，使所述激光發(fā)射單元發(fā)出的激光在所述彩膜基板的制程要求高度，所述缺陷凸起使所述激光接收單元無法接收到所述激光發(fā)射單元發(fā)出的激光；以及

對所述缺陷凸起進行研磨。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的彩膜基板修補方法，其特征在于，所述當高度大于制程要求高度的缺陷凸起經(jīng)研磨后小于制程要求高度時產(chǎn)生檢測信號包括：

通過研磨，在所述激光接收單元接收到所述激光時產(chǎn)生所述檢測信號。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的彩膜基板修補方法，其特征在于，所述控制所述激光發(fā)射單元和所述激光接收單元移動，使所述激光發(fā)射單元在所述彩膜基板的制程要求高度發(fā)出激光包括：

計算所述缺陷凸起的高度與所述彩膜基板的制程要求高度的高度差；

控制所述激光發(fā)射單元和所述激光接收單元從所述缺陷凸起的高度向所述彩膜基板的方向移動所述高度差以使所述激光發(fā)射單元發(fā)出的激光在所述彩膜基板的制程要求高度。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的彩膜基板修補方法，其特征在于，該修補方法還包括：

校正所述激光發(fā)射單元和所述激光接收單元，使所述激光發(fā)射單元和所述激光接收單元位于同一水平高度，并且所述激光發(fā)射單元發(fā)射的激光與所述彩膜基板平行。