[發(fā)明專利]顯示基板、顯示裝置及顯示基板制作方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710712077.5
• 申請日: 2017-08-18
• 公開（公告）號: CN109407410B
• 公開（公告）日: 2020-02-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 彭彬;馮永安;魏成銘;許志軍;余道平
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團股份有限公司;重慶京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/1337
• 分類號: G02F1/1337;G02F1/1339
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 彭久云

一種顯示基板、顯示裝置及顯示基板制作方法。該顯示基板包括襯底基板以及設(shè)置在襯底基板上的多個隔墊物，多個隔墊物的遠離襯底基板的一端具有傾斜表面；多個隔墊物的傾斜表面的傾斜方向一致。在對該顯示基板上的取向?qū)舆M行摩擦取向時，可以避免摩擦布表面的纖維經(jīng)過隔墊物時變形較大而導(dǎo)致的顯示不良。

技術(shù)領(lǐng)域

本公開至少一實施例涉及一種顯示基板、顯示裝置及顯示基板制作方法。

背景技術(shù)

在液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，液晶盒的制造過程包括采用取向技術(shù)對液晶進行取向。取向技術(shù)就是利用物理或化學(xué)方法，使取向?qū)泳哂惺挂壕Х肿右砸欢ǖ念A(yù)傾角沿同一方向排列的作用。摩擦取向是一種常用的對液晶進行取向的物理方法，它通常是利用滾筒外側(cè)的經(jīng)過特殊處理的摩擦布，在取向?qū)颖砻婺Σ脸鲆欢ㄉ疃取⒂蟹较蛐缘臏喜郏萌∠驅(qū)雍鸵壕Х肿又g的相互作用力，實現(xiàn)液晶分子的取向。

在摩擦取向過程中，如果取向?qū)拥牟糠謪^(qū)域上形成的溝槽的深度比其他區(qū)域淺，或者部分區(qū)域沒有形成摩擦溝槽，則這些區(qū)域?qū)?yīng)的液晶分子得不到理想的取向，則容易發(fā)生漏光現(xiàn)象，從而影響液晶顯示裝置的顯示質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容

本公開至少一實施例提供一種顯示基板，該顯示基板包括襯底基板以及設(shè)置在所述襯底基板上的多個隔墊物，所述多個隔墊物的遠離所述襯底基板的一端具有傾斜表面；所述多個隔墊物的傾斜表面的傾斜方向一致。

例如，該顯示基板中，所述隔墊物為棱柱狀。

例如，該顯示基板中，每個所述隔墊物的傾斜表面為平面。

例如，該顯示基板還包括設(shè)置于所述襯底基板上的取向?qū)樱鋈∠驅(qū)痈采w所述襯底基板和所述隔墊物。

例如，該顯示基板中，所述傾斜表面的至少一端的形狀在與所述取向?qū)拥哪Σ寥∠蚍较虼怪钡姆较蛏系膶挾妊厮鋈∠驅(qū)拥哪Σ寥∠蚍较蛑饾u減小。

例如，該顯示基板中，所述隔墊物的材料為光刻膠。

例如，該顯示基板中，所述多個隔墊物包括多個主隔墊物和多個輔隔墊物，其中，所述輔隔墊物的高度小于所述主隔墊物的高度。

例如，該顯示基板中，多個主隔墊物的高度相等，所述多個輔隔墊物的高度相等。

本公開至少一實施例還提供一種顯示裝置，包括上述任意一種顯示基板和對置基板，其中所述顯示基板和對置基板彼此相對設(shè)置以將所述多個隔墊物夾置在二者之間。

例如，該顯示裝置中，所述顯示基板為彩膜基板或陣列基板。

本公開至少一實施例還提供一種顯示基板制作方法，包括：提供襯底基板；在所述襯底基板上形成多個隔墊物，所述多個隔墊物的遠離所述襯底基板的一端具有傾斜表面；所述多個隔墊物的傾斜表面的傾斜方向一致。

例如，該顯示基板制作方法中，所述形成多個隔墊物包括：在所述襯底基板上形成光刻膠層；執(zhí)行灰色調(diào)光刻工藝，其中，對應(yīng)所述隔墊物的部分曝光區(qū)域的曝光強度沿所述取向?qū)拥哪Σ寥∠蚍较蛑饾u減弱或逐漸增強。

例如，該顯示基板制作方法中，使用所述光刻膠層形成所述隔墊物。

例如，該顯示基板制作方法中，所述隔墊物包括主隔墊物和輔隔墊物，所述部分曝光區(qū)域包括用于形成所述主隔墊物的第一部分曝光區(qū)域和用于形成所述輔隔墊物的第二部分曝光區(qū)域，所述第一部分曝光區(qū)域的曝光強度與所述第二部分曝光區(qū)域的曝光強度不同。

例如，該顯示基板制作方法還包括：形成取向?qū)樱鋈∠驅(qū)痈采w所述襯底基板和所述隔墊物；對所述取向?qū)舆M行摩擦取向，其中，所述隔墊物相對于摩擦裝置的移動方向與所述取向?qū)拥哪Σ寥∠蚍较蛞恢隆?/p>

附圖說明