[發(fā)明專利]顯示基板、顯示裝置及顯示基板制作方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710712077.5
• 申請日: 2017-08-18
• 公開（公告）號: CN109407410B
• 公開（公告）日: 2020-02-21
• 發(fā)明（設計）人: 彭彬;馮永安;魏成銘;許志軍;余道平
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;重慶京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/1337
• 分類號: G02F1/1337;G02F1/1339
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 彭久云

1.一種顯示基板，其特征在于，所述顯示基板包括襯底基板以及設置在所述襯底基板上的多個隔墊物和取向層，所述取向層覆蓋所述襯底基板和所述多個隔墊物；

其中，所述多個隔墊物的遠離所述襯底基板的一端具有傾斜表面；所述多個隔墊物的傾斜表面的傾斜方向一致；所述多個隔墊物的傾斜表面相對于所述襯底基板的高度沿所述取向層的摩擦取向方向逐漸減小。

2.根據(jù)權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述隔墊物為棱柱狀。

3.根據(jù)權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，每個所述隔墊物的傾斜表面為平面。

4.根據(jù)權利要求3所述的顯示基板，其特征在于，所述傾斜表面的至少一端的形狀在與所述取向層的摩擦取向方向垂直的方向上的寬度沿所述摩擦取向方向逐漸減小。

5.根據(jù)權利要求1-4任一所述的顯示基板，其特征在于，所述隔墊物的材料為光刻膠。

6.根據(jù)權利要求1-4任一所述的顯示基板，其特征在于，所述多個隔墊物包括多個主隔墊物和多個輔隔墊物，所述輔隔墊物的高度小于所述主隔墊物的高度。

7.根據(jù)權利要求6所述的顯示基板，其特征在于，所述多個主隔墊物的高度相等，所述多個輔隔墊物的高度相等。

8.一種顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置包括權利要求1-7任一所述的顯示基板和對置基板，其中，所述顯示基板和對置基板彼此相對設置，以將所述多個隔墊物夾置在二者之間。

9.根據(jù)權利要求8所述的顯示裝置，其特征在于，所述顯示基板為彩膜基板或陣列基板。

10.一種顯示基板制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：

提供襯底基板；以及

在所述襯底基板上形成多個隔墊物和取向層，所述取向層覆蓋所述襯底基板和所述隔墊物；所述多個隔墊物的遠離所述襯底基板的一端具有傾斜表面；所述多個隔墊物的傾斜表面的傾斜方向一致；所述多個隔墊物的傾斜表面相對于所述襯底基板的高度沿所述取向層的摩擦取向方向逐漸減小。

11.根據(jù)權利要求10所述的顯示基板制作方法，其特征在于，所述形成多個隔墊物包括：

在所述襯底基板上形成光刻膠層；

執(zhí)行灰色調光刻工藝，其中，對應所述隔墊物的部分曝光區(qū)域的曝光強度沿與所述取向層的摩擦取向方向逐漸減弱或逐漸增強。

12.根據(jù)權利要求11所述的顯示基板制作方法，其特征在于，使用所述光刻膠層形成所述隔墊物。

13.根據(jù)權利要求11所述的顯示基板制作方法，其特征在于，所述隔墊物包括主隔墊物和輔隔墊物，所述部分曝光區(qū)域包括對應所述主隔墊物的第一部分曝光區(qū)域和對應所述輔隔墊物的第二部分曝光區(qū)域，所述第一部分曝光區(qū)域的曝光強度與所述第二部分曝光區(qū)域的曝光強度不同。

14.根據(jù)權利要求10-13任一所述的顯示基板制作方法，其特征在于，所述制作方法還包括：

對所述取向層進行摩擦取向，其中，所述隔墊物相對于摩擦裝置的移動方向與所述取向層的摩擦取向方向一致。