[發明專利]檢查等離子體處理裝置的噴淋板的方法

有效

• 申請號: 201710711805.0
• 申請日: 2017-08-18
• 公開（公告）號: CN107768224B
• 公開（公告）日: 2019-12-17
• 發明（設計）人: 網倉紀彥;實吉梨沙子
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 11322 北京尚誠知識產權代理有限公司
• 代理人: 龍淳

本發明提供一種檢查等離子體處理裝置的噴淋板的方法。在一個實施方式的方法中被檢查的所述等離子體處理裝置中，氣體排出部具有噴淋板。噴淋板形成有多個氣體排出孔。該方法包括：(i)設定從第一流量控制器輸出的氣體的流量的步驟；和(ii)在將以設定的流量從第一流量控制器輸出的氣體供給到氣體排出部且在第一流量控制器與氣體排出部之間分支而供給到壓力控制式的第二流量控制器的內部的流路的狀態下，利用該第二流量控制器的壓力計取得表示該第二流量控制器的內部的所述流路中的壓力的測定值的步驟。

技術領域

本發明的實施方式涉及檢查等離子體處理裝置的噴淋板的方法。

背景技術

在半導體器件之類的電子器件的制造中使用等離子體處理裝置。作為等離子體處理裝置的一種，已知電容耦合型的等離子體處理裝置。電容耦合型的等離子體處理裝置包括腔室主體、載置臺和氣體排出部。

腔室主體提供其內部空間作為腔室。載置臺設置在腔室內，包括下部電極。氣體排出部包括噴淋板。噴淋板設置在載置臺的上方。在噴淋板設置有多個氣體排出孔。該噴淋板和/或氣體排出部構成上部電極。專利文獻1記載有這種等離子體處理裝置。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2013-51315號公報

發明內容

發明想要解決的技術問題

噴淋板的多個氣體排出孔的直徑隨著等離子體處理的時間經過而變化。另外，多個氣體排出孔的直徑有時因制造誤差而與設計值不同。多個氣體排出孔的直徑發生變化或與設計值不同，等離子體處理的結果就與期望的結果不同。因此，需要檢查噴淋板。

用于解決技術問題的技術方案

在一個方式中，提供一種檢查等離子體處理裝置的噴淋板的方法。等離子體處理裝置包括：腔室主體；載置臺；和氣體排出部。腔室主體提供腔室。載置臺設置腔室內。氣體排出部具有噴淋板。噴淋板設置在載置臺的上方。在噴淋板形成有多個氣體排出孔。本方法包括：(i)設定從第一流量控制器輸出的氣體的流量的步驟；和(ii)在將以設定的流量從所述第一流量控制器輸出的氣體供給到氣體排出部且在第一流量控制器與氣體排出部之間分支而供給到壓力控制式的第二流量控制器的內部的流路的狀態下，利用該第二流量控制器的壓力計取得表示該第二流量控制器的內部的流路中的壓力的測定值的步驟。

噴淋板的氣體排出孔的直徑越小，氣體排出部的上游側(第一流量控制器側)的壓力就越高，而該直徑越大，壓力就越低。即，氣體排出部的上游側的壓力反映噴淋板的氣體排出孔的直徑的大小。在上述方法中，從第一流量控制器輸出的氣體除了氣體排出部外還供給到第二流量控制器的內部的流路。第二流量控制器為壓力控制式的流量控制器，所以具有壓力計。由該壓力計得到的測定值是表示第二流量控制器的內部的流路的壓力的值，且為反映氣體排出部的上游側的壓力的值。因此，根據本方法，能夠得到反映噴淋板的氣體排出孔的直徑大小的測定值。所以，根據本方法，能夠檢查噴淋板。

在一個實施方式中，測定值可以為所述壓力的多個瞬時值的平均值。在該實施方式中，能夠根據由壓力計測定的壓力的多個瞬時值求取平均值作為測定值，因此能夠抑制第二流量控制器的壓力計的測定精度所致的誤差。

在一個實施方式中，從第二流量控制器到所述噴淋板的腔室側的開口端為止的之間的流路長度可以為1.5m以下。在該實施方式中，由壓力計測定的壓力隨著氣體排出孔的直徑的變化而大幅變化。因此，能夠以高靈敏度檢測氣體排出孔的直徑的變化。

在一個實施方式中，多個氣體排出孔構成多個氣體排出孔組。而且等離子體處理裝置還包括分流器。分流器具有輸入和多個輸出。分流器的輸入與所述第一流量控制器的輸入連接。分流器的輸出分別與所述多個氣體排出孔組連接。