[發明專利]用于在復雜圖案化結構中進行測量的方法和系統

有效

• 申請號: 201710709560.8
• 申請日: 2012-01-03
• 公開（公告）號: CN107560539B
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發明（設計）人: 博亞茲·布里爾;鮑里斯·舍曼
• 申請（專利權）人: 諾威量測設備股份有限公司
• 主分類號: G01B11/00
• 分類號: G01B11/00
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 梁麗超;潘樹志

本發明公開了一種用于在復雜圖案化結構中進行測量的方法和系統。為結構中的相同測量部位提供完整模型和至少一個近似模型，所述至少一個近似模型滿足在完整模型和近似模型之間的關系由預定函數確定的條件。為由近似模型對近似模型的整個參數空間計算出的模擬數據創建庫。還提供在所述參數空間的所選點中與由完整模型計算出的模擬數據對應的數據。近似模型數據的庫和完整模型的所述數據被用于創建所述參數空間的校正項的值的庫，所述校正項被確定為完整模型和近似模型之間的關系的所述預定函數。這使得能夠通過將測量數據擬合到模擬數據來處理所述測量數據，該模擬數據通過由校正項的對應值校正的近似模型來計算。

本申請是分案申請，其原案申請的申請號為2012800045529，申請日為2012年1月3日，發明名稱為“用于在復雜圖案化結構中進行測量的方法和系統”。

技術領域

本發明大體屬于光學測量技術領域，并且涉及用于通過解決逆向問題在復雜圖案化結構中進行測量的系統和方法。

背景技術

存在無法直接測量復雜結構的參數的各種應用，因此測量技術利用逆向問題的解決。這樣的測量技術的實例為應用于復雜圖案化結構的散射測量法。當將散射測量法的測量在RD以及大量制造中應用至復雜模具內(in-die)應用時，光學CD模型變得越來越復雜。散射測量法建模的主要挑戰之一是由于漸增的應用復雜性而所需的計算時間上的指數性成長，該漸增的應用復雜性需要漸增的模型參數數量、3D對2D結構的轉換、更多數量的模式、更大更復雜的單元格等。

散射測量法中的慣例之一是通過預先由計算一代表性組的衍射光譜、將其存儲于數據庫(庫)中、然而將其實時應用以解譯所測結果來避免需要實時計算衍射光譜。當模型復雜性增加時，庫產生時間也變得更長，而對于產生針對新應用的工作配方所需時間產生限制因素。

發明內容

本領域需要一種在能夠減少在庫創建階段的計算時間和提供結構參數的更快實時測量的用于復雜結構中進行測量的新穎方法。

本發明提供用于在復雜圖案化結構中進行測量的新穎技術，該技術基于所謂的“分解方式”。應當理解，為了本申請，術語“復雜圖案化結構”是指具有復雜的幾何形狀(模式特征)和/或材料組成使得在結構參數和對入射光的結構的光學響應(例如光譜)之間的關系不容易被建模的結構。后者是指在結構參數和響應之間的這種關系不能由單個模型(單個函數)直接定義，該單個模型允許庫創建和/或測量數據的處理的有意義的計算時間。

根據本發明的技術，為相同的測量部位定義兩個或更多模型。這些模型包括完整模型(FM)和至少一個近似模型(AM)。完整模型(full model)含有問題的充分完整的幾何描述、足夠的光譜設置、所有相關的參數浮動等等，就像在標準方法中通常定義的那樣。近似模型(approximated model)是相同問題的部分近似，允許更快的計算時間同時仍保留問題最基本性質。選擇近似模型使得對于給定的完整模型，完整模型和近似模型都由在兩者之間的某種定義良好的關系(例如，在完整模型和近似模型之間的差異)來表征，例如，在最簡單的實例中的光滑函數或在最佳情況中的線性函數。

應當理解，參數的最小集是近似模型的參數集，而完整模型包括所述集和額外的參數。定義近似模型的并且相應地被包括在完整模型中的參數空間(參數集)包括結構的參數(例如，圖案的特征、層等等)和/或來自結構的響應的參數/條件(例如，收集的衍射圖、響應檢測的數值孔徑、波長等等)。

應當注意，本發明的技術利用在相同參數空間(參數集)內變化的結構響應的庫創建(library creation)。庫創建可以是完全離線階段，即獨立于要監控的結構的實際測量，或還可以包括用于在實際測量期間更新/修改的在線精細化階段。

附圖說明

為了理解本發明和了解實際上如何實施，現在將參考附圖描述僅作為非限制性實例的實施方式，其中：

圖1是用于在復雜圖案化結構中測量的本發明的系統的實例的框圖；