[發明專利]用于在復雜圖案化結構中進行測量的方法和系統

有效

• 申請號: 201710709560.8
• 申請日: 2012-01-03
• 公開（公告）號: CN107560539B
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發明（設計）人: 博亞茲·布里爾;鮑里斯·舍曼
• 申請（專利權）人: 諾威量測設備股份有限公司
• 主分類號: G01B11/00
• 分類號: G01B11/00
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 梁麗超;潘樹志

1.一種用于在復雜圖案化結構中進行測量的方法，所述方法包括：

為結構中的相同測量部位提供完整模型和至少一個近似模型，所述至少一個近似模型滿足所述完整模型和所述近似模型之間的關系通過預定函數定義的條件；

為通過所述近似模型對所述近似模型的整個參數空間計算出的模擬數據創建庫；

確定在所述參數空間的選擇點中對應于通過所述完整模型計算出的模擬數據的數據；

通過更稀疏地采樣利用所述近似模型的所述庫和所述完整模型的所述數據并且創建所述參數空間的校正項的值的稀疏庫，所述校正項被確定為所述完整模型和所述近似模型之間的關系的所述預定函數，由此能夠通過將測量數據擬合到通過所述校正項的相應值校正的、所述近似模型計算出的模擬數據來處理所述測量數據。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，定義所述完整模型和所述近似模型之間的關系的所述預定函數是光滑函數。

3.根據權利要求1所述的方法，其中，定義所述完整模型和所述近似模型之間的關系的所述預定函數是線性函數。

4.根據權利要求1所述的方法，其中，定義所述完整模型和所述近似模型之間的關系的所述預定函數是所述完整模型的值和所述近似模型的值之間的差。

5.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其中，為所述參數空間中的校正項值創建庫包括：使用所述近似模型的所述庫和所述完整模型的所述數據并且計算所述參數空間的所述選擇點的所述校正項的值；利用定義所述完整模型和所述近似模型之間的關系的所述預定函數并且計算所述近似模型的整個參數空間的所述校正項的值。

6.根據權利要求1至4中任一項所述的方法，其中，所述近似模型和所述完整模型包括表征在測量下的所述結構的參數。

7.根據權利要求6所述的方法，其中，所述近似模型被配置用于通過具有更短周期的圖案的結構近似具有不同周期的兩個以上的圖案的復雜圖案化結構。

8.根據權利要求6所述的方法，其中，所述近似模型被配置用于通過省略了至少一個下部未圖案化層的結構近似具有包括頂部圖案化層的多個層的復雜圖案化結構。

9.根據權利要求6所述的方法，其中，所述近似模型被配置用于通過具有減小的單元格的結構近似復雜圖案化結構。

10.一種用于在復雜圖案化結構中進行測量的系統，所述系統包括：

用于為結構中的相同測量部位提供完整模型和至少一個近似模型的建模工具，其中，所述至少一個近似模型滿足所述完整模型和所述近似模型之間的關系通過預定函數定義的條件；

庫創建模塊，被配置并可操作用于確定和存儲通過所述近似模型對所述近似模型的整個參數空間計算出的模擬數據；

完整數據模塊，被配置并可操作用于確定和存儲所述參數空間的選擇點中對應于通過所述完整模型計算出的模擬數據的數據；

處理器工具，被配置并可操作用于通過更稀疏地采樣利用所述近似模型的所述庫和所述完整模型的所述數據并且創建所述參數空間的校正項的值的稀疏庫，所述校正項被確定為所述完整模型和所述近似模型之間的關系的所述預定函數；

所述系統由此能夠通過將測量數據擬合到通過所述近似模型計算并通過所述校正項的相應值校正的所述模擬數據來處理所述測量數據。