[發(fā)明專利]一種坩堝蓋及其蓋合方法和坩堝有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710706664.3 | 申請(qǐng)日: | 2017-08-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107502864B | 公開(公告)日: | 2019-08-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 羅程遠(yuǎn) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/24 | 分類號(hào): | C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 羅瑞芝;陳源 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 坩堝 蓋體 吸合 蒸鍍材料 開口端 坩堝蓋 蓋合 密封蓋合 區(qū)域設(shè)置 開口 端面壁 放入 蒸鍍 外界大氣環(huán)境 大氣環(huán)境 蒸鍍腔室 面壁 密封 | ||
本發(fā)明提供一種坩堝蓋及其蓋合方法和坩堝。該坩堝蓋用于蓋合在坩堝開口端,包括蓋體,蓋體在對(duì)應(yīng)坩堝開口端的端面壁的區(qū)域設(shè)置有吸合結(jié)構(gòu),吸合結(jié)構(gòu)與坩堝開口端的端面壁相接觸,吸合結(jié)構(gòu)能使蓋體與坩堝開口端吸合,以使蓋體對(duì)坩堝開口端密封蓋合。該坩堝蓋通過在蓋體的對(duì)應(yīng)坩堝開口端端面壁的區(qū)域設(shè)置吸合結(jié)構(gòu),能使蓋體與坩堝開口端吸合,以對(duì)坩堝開口端進(jìn)行密封蓋合,從而實(shí)現(xiàn)了對(duì)坩堝內(nèi)蒸鍍材料的密封;進(jìn)而在蒸鍍材料放入坩堝內(nèi)之后以及蒸鍍前將盛有蒸鍍材料的坩堝放入蒸鍍腔室的過程中,避免蒸鍍材料與外界大氣環(huán)境中的氣體相接觸,繼而避免蒸鍍材料被大氣環(huán)境中的氣體氧化,確保了蒸鍍形成的器件的性能。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域,具體地,涉及一種坩堝蓋及其蓋合方法和坩堝。
背景技術(shù)
有源矩陣有機(jī)發(fā)光二極管顯示產(chǎn)品(AMOLED)由于可實(shí)現(xiàn)較高的色域,超薄,柔性化的顯示,逐漸受到了廣泛的關(guān)注。尤其是曲面和柔性O(shè)LED,由于獨(dú)特的功能和良好的用戶體驗(yàn)受到了眾多青睞。
目前,OLED發(fā)光層的主要制作工藝是蒸鍍,即將有機(jī)材料在真空條件下加熱至一定溫度,使有機(jī)材料蒸發(fā)后飛升至基板表面,形成薄膜。在蒸鍍過程中,經(jīng)常在有機(jī)材料中添加一些活性金屬材料(如鋰(Li)、鈣(Ca)等)形成器件結(jié)構(gòu)中的摻雜結(jié)構(gòu)。在蒸鍍過程中,通常需要將蒸鍍材料先放入坩堝中,然后再將坩堝放入蒸鍍腔室中,在蒸鍍腔室中對(duì)坩堝進(jìn)行加熱才能進(jìn)行蒸鍍。
如圖1所示,傳統(tǒng)的坩堝包括坩堝本體6和坩堝蓋5,坩堝蓋5蓋合在坩堝本體6的開口端,坩堝蓋5上通常會(huì)開設(shè)一個(gè)較小的開口51,以便將坩堝放入蒸鍍腔室中進(jìn)行加熱蒸鍍時(shí),蒸鍍材料能從坩堝蓋5上的開口51中蒸發(fā)出來鍍到基板表面。由于有機(jī)蒸鍍材料中的活性金屬材料極易在大氣環(huán)境中反應(yīng)氧化,所以采用傳統(tǒng)的坩堝,將蒸鍍材料放入坩堝的過程中和將坩堝放入蒸鍍腔室的過程中均不可避免地會(huì)使蒸鍍材料與大氣環(huán)境中的氣體相接觸,這很容易使蒸鍍材料中的活性金屬材料受到氧化。被氧化的活性金屬材料通過蒸鍍工藝制備到器件功能層中后,將影響器件的性能。
因此,如何在蒸鍍前使蒸鍍材料在裝入坩堝的過程中以及將坩堝放入蒸鍍腔室的過程中不被氧化已成為目前亟待解決的問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述技術(shù)問題,提供一種坩堝蓋及其蓋合方法和坩堝。該坩堝蓋通過在蓋體的對(duì)應(yīng)坩堝開口端端面壁的區(qū)域設(shè)置吸合結(jié)構(gòu),能使蓋體與坩堝開口端吸合,以對(duì)坩堝開口端進(jìn)行密封蓋合,從而實(shí)現(xiàn)了對(duì)坩堝內(nèi)蒸鍍材料的密封;進(jìn)而在蒸鍍材料放入坩堝內(nèi)之后以及蒸鍍前將盛有蒸鍍材料的坩堝放入蒸鍍腔室的過程中,避免蒸鍍材料與外界大氣環(huán)境中的氣體相接觸,繼而避免蒸鍍材料被大氣環(huán)境中的氣體氧化,確保了蒸鍍形成的器件的性能。
本發(fā)明提供一種坩堝蓋,用于蓋合在坩堝開口端,包括蓋體,所述蓋體在對(duì)應(yīng)所述坩堝開口端的端面壁的區(qū)域設(shè)置有吸合結(jié)構(gòu),所述吸合結(jié)構(gòu)與所述坩堝開口端的所述端面壁相接觸,所述吸合結(jié)構(gòu)能使所述蓋體與所述坩堝開口端吸合,以使所述蓋體對(duì)所述坩堝開口端密封蓋合。
優(yōu)選地,所述吸合結(jié)構(gòu)包括開設(shè)在所述蓋體內(nèi)的第一空腔,所述第一空腔貫通所述蓋體的厚度,所述第一空腔包括面對(duì)所述坩堝開口端的所述端面壁的第一開口和背對(duì)所述端面壁的第二開口。
優(yōu)選地,所述吸合結(jié)構(gòu)還包括彈性密封圈,所述彈性密封圈套設(shè)在所述第一開口上,所述彈性密封圈用于與所述坩堝開口端的所述端面壁相貼合,以對(duì)所述第一空腔與所述端面壁的接觸位置進(jìn)行密封。
優(yōu)選地,所述吸合結(jié)構(gòu)還包括彈性塞子,所述彈性塞子蓋合在所述第二開口上,用于對(duì)所述第二開口進(jìn)行密封;所述彈性塞子上開設(shè)有彈性孔,所述彈性孔能在外部擠壓力作用下開啟。
優(yōu)選地,所述第一空腔包括至少兩個(gè),所述第一空腔在所述蓋體上等間隔分布。
優(yōu)選地,還包括設(shè)置在所述蓋體的背對(duì)所述坩堝開口端一側(cè)的連接件,所述連接件用于與蒸鍍腔室內(nèi)的活動(dòng)桿連接,所述連接件能在所述活動(dòng)桿的帶動(dòng)下與所述坩堝開口端脫離。
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- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





