[發明專利]一種DNA倍體分析設備的質量控制方法有效
| 申請號: | 201710704713.X | 申請日: | 2017-08-17 |
| 公開(公告)號: | CN107525768B | 公開(公告)日: | 2020-03-10 |
| 發明(設計)人: | 陳興路 | 申請(專利權)人: | 黑龍江然得基爾醫學科技發展有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/17 | 分類號: | G01N21/17 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109 | 代理人: | 楊立超 |
| 地址: | 150060 黑龍江省哈爾濱市哈爾濱經*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 dna 分析 設備 質量 控制 方法 | ||
1.一種DNA倍體分析設備的質量控制方法,其特征在于:所述DNA倍體分析設備的質量控制方法包括以下步驟:
步驟一:通過分析顯微鏡視野下圖片,調整顯微鏡中的光源,使光照強度和光照均勻度符合要求;
若Tlow≤pmax≤Thigh則光照強度符合要求,其中Tlow,Thigh分別代表符合要求的光源強度的最小值和最大值,pmax為p(pk)中的最大值,p(pk)為平滑窗內的灰度級對應的像素個數的均值;
若同時滿足且則光照均勻;和分別為avgH[i]和avgW[j]的方差,avgH[i]和avgW[j]分別為圖片寬度和高度上的灰度均值;和表示各像素光照強度與整個視野光照均值離散程度值的上限和下限;
步驟二:在光照強度和光照均勻度符合要求的情況下,通過分析空白片在鏡下的圖片確定光路中的雜質;確定雜質后,將雜質標記,并在采集到的圖像中,將受到雜質影響的區域進行去除雜質處理;
步驟三:去除光路中的雜質后,通過掃描標準樣片獲得標準樣本圖像,判斷設備是否處于正常工作狀態,掃描標準片得出的結果與已知結果進行對比,當掃描標準片得到的片中2倍體細胞與4倍體細胞的DNA相對含量的關系與已知結果一致時,設備處于正常工作狀態;否則重新執行步驟一;
步驟四:通過掃描患者樣片獲得樣本圖像,分析樣本圖像中細胞的積分光密度值及其在玻片上的分布情況,判斷患者樣片的染色是否均勻;
步驟五:在利用三點聚焦定點的方式確定顯微鏡聚焦時所用的標準零點后,通過對控制聚焦平臺的移動距離的統計,計算每個視野中顯微鏡玻片上細胞相對于標準零點的位置,并繪制三維折線圖,根據三維折線圖對顯微鏡平臺進行調整。
2.根據權利要求1所述的一種DNA倍體分析設備的質量控制方法,其特征在于:所述步驟一中通過分析顯微鏡視野下圖片,調整顯微鏡中的光源,使光照強度和光照均勻度符合要求的具體過程為:
步驟一一:在平臺放置樣本片,上下調整平臺,使相機視野下成清晰細胞圖像;
步驟一二:用相機抓取圖片,在顯微鏡下細胞黑白圖片用A0表示,A0(i,j)代表圖像位置(i,j)處的灰度級,1≤i≤M,1≤j≤N;M為抓取圖片中水平方向上像素點的個數,N為抓取圖片中垂直方向上像素點的個數;
步驟一三:計算光照強度并判斷是否符合要求:
步驟一三一:計算攝像頭通過采集鏡下空白片所得到的圖像中不同灰度級出現的頻率,繪制頻率直方圖:
其中rk為第k個灰度級,nk為具有第k個灰度級的像素個數,p(rk)為第k個灰度級出現的頻率;
步驟一三二:繪制平滑直方圖并求取最大值:
其中L為平滑窗寬度,p(pk)為平滑窗內的灰度級對應的像素個數的均值,代表平滑后光源強度;
步驟一三三:若Tlow≤pmax≤Thigh則光照強度符合要求,否則不符合要求,重新調整顯微鏡中的光源;
步驟一四:計算光照均勻度并判斷:
步驟一四一:計算灰度均值:
步驟一四二:計算avgH[i]和avgW[j]的方差:
其中mean(avgH)為avgH[i]全部值的平均值,mean(avgW)為avgW[j]全部值的平均值;
步驟一四三:若同時滿足且則光照均勻,否則不均勻,重新調整顯微鏡中的光源,即對顯微鏡光路進行重新調整。
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